CMP de alto índice de eliminación de óxido de cerio Llorado para vidrio óptico y componentes fotónicos
Detalles del producto
| Material abrasivo: | CeO₂ | Tamaño de partícula (D50): | 0,3 – 0,8 µm |
|---|---|---|---|
| contenido sólido: | 5 – 20% en peso | pH: | 6,5 – 8,5 |
| apariencia: | Lechada blanca | Estabilidad de dispersión: | Excelente |
| Resaltar |
Esparcimiento de CMP de óxido de cerio para vidrio óptico,Lloras de pulido de alta velocidad de eliminación,Esparcimiento de CMP de tierras raras para fotónica |
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Descripción de producto
Lodo CMP de Óxido de Cerio de Alta Tasa de Eliminación para Vidrio Óptico y Componentes Fotónicos
Descripción General del Producto
El lodo CMP de óxido de cerio de alta tasa de eliminación está diseñado para el pulido de precisión de vidrio óptico y componentes fotónicos que requieren una rápida eliminación de material con una calidad de superficie controlada. La morfología optimizada de las partículas permite una planarización eficiente manteniendo una excelente integridad de la superficie y estabilidad del proceso.
Diseñado para la fabricación óptica avanzada, este lodo soporta la producción de alto rendimiento de lentes, prismas, óptica láser y sustratos fotónicos.
Características Principales
- Alta tasa de eliminación de material para mejorar la productividad
- Excelente suavidad de la superficie y bajo daño subsuperficial
- Dispersión estable con aglomeración minimizada
- Rendimiento de pulido sin rayones
- Compatible con sistemas automatizados de CMP y pulido óptico
- Larga vida útil del lodo y control de pH estable
Distribución del Tamaño de PartículaAplicaciones
Pulido de lentes ópticas de precisión
- Acabado de sustratos fotónicos y vidrio óptico
- Planarización de superficies de cristales láser
- Óptica de cámaras y sistemas de imagen
- Pulido de prismas y espejos
- Componentes de comunicación óptica
- Preguntas Frecuentes
P1. ¿Para qué se utiliza el lodo CMP de óxido de cerio?
El lodo CMP de óxido de cerio es un material de pulido químico-mecánico diseñado para el acabado de superficies de ultraprecisión. Combina abrasión mecánica e interacción química para lograr una alta eficiencia de eliminación de material manteniendo una excelente suavidad de la superficie.
P2. ¿Cómo selecciono el lodo de ceria correcto para mi aplicación?
La selección depende principalmente del tipo de material y del objetivo del proceso.
Nuestro equipo técnico puede ayudar a optimizar la selección del lodo en función de la máquina de pulido, el tipo de almohadilla y los requisitos de calidad de la superficie.
P3. ¿Qué materiales se pueden pulir con lodo de óxido de cerio?
El lodo CMP de óxido de cerio es adecuado para una amplia gama de materiales avanzados:
Vidrio óptico
- Zafiro
- Obleas de silicio
- Cristales láser (YAG, etc.)
- Sustratos fotónicos
- Materiales semiconductores compuestos
Lo más destacado del producto
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