Alta Taxa de Remoção de Pasta CMP de Óxido de Cério para Vidro Óptico e Componentes Fotônicos
Detalhes do produto
| Material abrasivo: | CeO₂ | Tamanho de partícula (D50): | 0,3 – 0,8 µm |
|---|---|---|---|
| conteúdo sólido: | 5 – 20% em peso | pH: | 6,5 – 8,5 |
| aparência: | Pasta Branca | Estabilidade da dispersão: | Excelente |
| Destacar |
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Descrição do produto
Alta Taxa de Remoção de Lodo CMP de Óxido de Cério para Vidro Óptico e Componentes Fotônicos
Visão Geral do Produto
O Lodo CMP de Óxido de Cério de Alta Taxa de Remoção é projetado para polimento de precisão de vidro óptico e componentes fotônicos que exigem remoção rápida de material com qualidade de superfície controlada. A morfologia otimizada das partículas permite planarização eficiente, mantendo excelente integridade da superfície e estabilidade do processo.
Projetado para fabricação óptica avançada, este lodo suporta produção de alto rendimento de lentes, prismas, óticas a laser e substratos fotônicos.
Principais Características
- Alta taxa de remoção de material para produtividade aprimorada
- Excelente lisura superficial e baixo dano subsuperficial
- Dispersão estável com aglomeração minimizada
- Desempenho de polimento sem riscos
- Compatível com sistemas automatizados de CMP e polimento óptico
- Longa vida útil do lodo e controle estável de pH
Distribuição do Tamanho de PartículaAplicações
Polimento de lentes ópticas de precisão
- Acabamento de substratos fotônicos e vidro óptico
- Planarização de superfície de cristal a laser
- Óticas de câmera e sistemas de imagem
- Polimento de prismas e espelhos
- Componentes de comunicação óptica
- Perguntas Frequentes
P1. Para que serve o lodo CMP de óxido de cério?
O lodo CMP de óxido de cério é um material de polimento químico-mecânico projetado para acabamento de superfície de ultra-precisão. Ele combina abrasão mecânica e interação química para alcançar alta eficiência de remoção de material, mantendo excelente lisura superficial.
P2. Como seleciono o lodo de cério correto para minha aplicação?
A seleção depende principalmente do tipo de material e do objetivo do processo.
Nossa equipe técnica pode auxiliar na otimização da seleção do lodo com base na máquina de polimento, tipo de pad e requisitos de qualidade da superfície.
P3. Quais materiais podem ser polidos usando lodo de óxido de cério?
O lodo CMP de óxido de cério é adequado para uma ampla gama de materiais avançados:
Vidro óptico
- Safira
- Wafer de silício
- Cristais a laser (YAG, etc.)
- Substratos fotônicos
- Materiais semicondutores compostos
Destaques do Produto
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