Polvo de pulido de óxido de cerio de alta eliminación para el procesamiento de vidrio óptico
Detalles del producto
| Pureza: | ≥ 99,9% | D50: | 1,0 – 2,5 micras |
|---|---|---|---|
| Capacidad de acabado superficial: | Nivel subnanómetro | pH (suspensión al 15%): | 6,5 – 8,5 |
| apariencia: | Polvo amarillo claro | Estabilidad de dispersión: | Alto |
| Resaltar |
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Descripción de producto
Polvo de óxido de cerio de alta tasa de eliminación para el procesamiento de vidrio óptico
Descripción general del producto
El polvo de óxido de cerio de alta tasa de eliminación está diseñado para el pulido eficiente de componentes de vidrio óptico que requieren una rápida eliminación de material y una calidad de superficie estable. La morfología de partícula optimizada proporciona una excelente interacción químico-mecánica con los sustratos de vidrio, lo que permite una mayor productividad sin comprometer el acabado de la superficie.
Diseñado para la fabricación de óptica de precisión a gran escala y el procesamiento de componentes fotónicos.
Características clave
- Alta eficiencia de eliminación de material
- Excelente uniformidad de pulido
- Distribución de tamaño de partícula estable
- Reducción del tiempo y costo de pulido
- Buen comportamiento de suspensión en la preparación de lodos
- Adecuado para sistemas de pulido por lotes y automatizados
Distribución del tamaño de partículaAplicaciones
Pulido de lentes y prismas ópticos
- Fabricación de óptica de cámaras e imágenes
- Sustratos de vidrio fotónico
- Acabado de vidrio de precisión y pantallas
- Componentes de comunicación óptica
- Pulido general de vidrio óptico
- Preguntas frecuentes
P1. ¿Cuál es la diferencia entre los grados de polvo de óxido de cerio para pulido?
Los polvos de óxido de cerio para pulido están diseñados para diferentes etapas y materiales de pulido.
La selección del grado adecuado depende del material del sustrato, la rugosidad de la superficie requerida y las condiciones del proceso de pulido.
P2. ¿Qué materiales se pueden pulir con polvo de óxido de cerio para pulido?
El polvo de óxido de cerio para pulido se utiliza ampliamente en industrias de fabricación avanzada y es adecuado para:
Vidrio óptico y sílice fundida
- Cristales de zafiro y láser
- Componentes fotónicos
- Obleas de silicio
- Sustratos semiconductores
- Elementos ópticos y láser de precisión
- Su mecanismo de pulido químico-mecánico permite un excelente acabado superficial con un daño mínimo por debajo de la superficie.
P3. ¿Se puede personalizar el polvo de óxido de cerio para pulido para procesos de pulido específicos?
Sí. El polvo de óxido de cerio para pulido se puede adaptar según los requisitos del cliente, incluyendo:
Distribución del tamaño de partícula
- Rendimiento de la tasa de eliminación
- Objetivos de acabado superficial
- Concentración de preparación de lodos
- Formulaciones específicas para la aplicación
- El soporte técnico y la evaluación de muestras suelen estar disponibles para optimizar el rendimiento del pulido para diferentes equipos y materiales.
Lo más destacado del producto
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