Bột đánh bóng Cerium oxide có tỷ lệ loại bỏ cao cho chế biến kính quang học
Chi tiết sản phẩm
| độ tinh khiết: | ≥ 99,9% | D50: | 1,0 – 2,5 µm |
|---|---|---|---|
| Khả năng hoàn thiện bề mặt: | Mức dưới nanomet | pH (15% huyền phù): | 6,5 – 8,5 |
| Vẻ bề ngoài: | Bột màu vàng nhạt | Độ ổn định phân tán: | Cao |
| Làm nổi bật |
bột đánh bóng oxit cerium cho thủy tinh,bột cerium oxide có tỷ lệ loại bỏ cao,bột đánh bóng kính quang với bảo hành |
||
Mô tả sản phẩm
Bột đánh bóng Cerium Oxide Tốc độ loại bỏ cao cho Gia công Thủy tinh Quang học
Tổng quan sản phẩm
Bột đánh bóng Cerium Oxide Tốc độ loại bỏ cao được thiết kế để đánh bóng hiệu quả các bộ phận thủy tinh quang học đòi hỏi tốc độ loại bỏ vật liệu nhanh và chất lượng bề mặt ổn định. Hình thái hạt được tối ưu hóa mang lại sự tương tác hóa học-cơ học tuyệt vời với các đế thủy tinh, cho phép tăng năng suất mà không ảnh hưởng đến độ hoàn thiện bề mặt.
Được thiết kế cho sản xuất quang học chính xác quy mô lớn và xử lý các bộ phận quang tử.
Các tính năng chính
- Hiệu quả loại bỏ vật liệu cao
- Độ đồng đều đánh bóng tuyệt vời
- Phân bố kích thước hạt ổn định
- Giảm thời gian và chi phí đánh bóng
- Hành vi huyền phù tốt trong chuẩn bị bùn
- Thích hợp cho các hệ thống đánh bóng theo lô và tự động
Phân bố kích thước hạtỨng dụng
Đánh bóng ống kính và lăng kính quang học
- Sản xuất quang học camera và hình ảnh
- Đế thủy tinh quang tử
- Hoàn thiện thủy tinh chính xác và màn hình
- Các bộ phận truyền thông quang học
- Đánh bóng thủy tinh quang học nói chung
- Câu hỏi thường gặp
Q1. Sự khác biệt giữa các cấp bột đánh bóng cerium oxide là gì?
Các loại bột đánh bóng cerium oxide được thiết kế cho các giai đoạn đánh bóng và vật liệu khác nhau.
Việc lựa chọn cấp độ phù hợp phụ thuộc vào vật liệu đế, độ nhám bề mặt yêu cầu và điều kiện quy trình đánh bóng.
Q2. Những vật liệu nào có thể được đánh bóng bằng bột đánh bóng cerium oxide?
Bột đánh bóng cerium oxide được sử dụng rộng rãi trong các ngành sản xuất tiên tiến và phù hợp với:
Thủy tinh quang học và silica nóng chảy
- Tinh thể Sapphire và laser
- Các bộ phận quang tử
- Tấm wafer silicon
- Các đế bán dẫn
- Các phần tử quang học và laser chính xác
- Cơ chế đánh bóng hóa học-cơ học của nó cho phép hoàn thiện bề mặt tuyệt vời với ít hư hỏng dưới bề mặt nhất.
Q3. Bột đánh bóng cerium oxide có thể được tùy chỉnh cho các quy trình đánh bóng cụ thể không?
Có. Bột đánh bóng cerium oxide có thể được điều chỉnh theo yêu cầu của khách hàng, bao gồm:
Phân bố kích thước hạt
- Hiệu suất tốc độ loại bỏ
- Mục tiêu hoàn thiện bề mặt
- Nồng độ chuẩn bị bùn
- Công thức theo ứng dụng
- Hỗ trợ kỹ thuật và đánh giá mẫu thường có sẵn để tối ưu hóa hiệu suất đánh bóng cho các thiết bị và vật liệu khác nhau.
Điểm nổi bật của sản phẩm
Bột đánh bóng Cerium Oxide Tốc độ loại bỏ cao cho Gia công Thủy tinh Quang học Tổng quan sản phẩm Bột đánh bóng Cerium Oxide Tốc độ loại bỏ cao được thiết kế để đánh bóng hiệu quả các bộ phận thủy tinh quang học đòi hỏi tốc độ loại bỏ vật liệu nhanh và chất lượng bề mặt ổn định. Hình thái hạt được t...
Bột đánh bóng oxit cerium lớp bán dẫn cho wafer & nền tiên tiến
Semiconductor Grade Cerium Oxide Polishing Powder for Wafer & Advanced Substrates Product Overview Semiconductor Grade Cerium Oxide Polishing Powder is formulated for defect-sensitive polishing applications in semiconductor and advanced electronic substrate manufacturing. The controlled purity and particle engineering reduce contamination risks while ensuring consistent planarization performance. Optimized for preparation of CMP slurries used in semiconductor wafer processing
Bột đánh bóng Cerium Oxide siêu mịn cho tinh thể laser & quang học chính xác
Ultra-Fine Cerium Oxide Polishing Powder for Laser Crystals & Precision Optics Product Overview Ultra-Fine Cerium Oxide Polishing Powder is developed for ultra-precision polishing processes requiring superior surface finish and minimal subsurface damage. The refined particle distribution enables smooth finishing of laser crystals and advanced optical materials used in high-performance photonics systems. Ideal for final polishing stages demanding nanometer-level surface
Bột đánh bóng Cerium oxide có tỷ lệ loại bỏ cao cho chế biến kính quang học
High Removal Rate Cerium Oxide Polishing Powder for Optical Glass Processing Product Overview High Removal Rate Cerium Oxide Polishing Powder is engineered for efficient polishing of optical glass components requiring fast material removal and stable surface quality. The optimized particle morphology provides excellent chemical-mechanical interaction with glass substrates, enabling improved productivity without compromising surface finish. Designed for large-scale precision
Ceria CMP không bị trầy xước để đánh bóng bán dẫn & Silicon Wafer
Scratch-Free Ceria CMP Slurry for Semiconductor & Silicon Wafer Polishing Product Overview Scratch-Free Cerium Oxide CMP Slurry is specially formulated for semiconductor wafer and advanced substrate polishing where defect control and ultra-smooth surfaces are critical. The engineered nano-scale ceria particles provide superior defect reduction while maintaining stable removal efficiency. Ideal for silicon wafer finishing and precision semiconductor fabrication processes. Key
Vui lòng sử dụng biểu mẫu liên lạc trực tuyến của chúng tôi dưới đây nếu bạn có bất kỳ câu hỏi nào, nhóm của chúng tôi sẽ liên lạc lại với bạn càng sớm càng tốt.
