Poudre de polissage à l'oxyde de cérium à taux d'élimination élevé pour le traitement du verre optique
Détails de produit
| Pureté: | ≥99,9% | D50: | 1,0 – 2,5 µm |
|---|---|---|---|
| Capacité de finition de surface: | Niveau inférieur au nanomètre | pH (suspension à 15 %): | 6,5 – 8,5 |
| apparence: | Poudre jaune clair | Stabilité de la dispersion: | Haut |
| Mettre en évidence |
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Description de produit
Poudre de polissage à l'oxyde de cérium à haut taux d'enlèvement pour le traitement du verre optique
Présentation du produit
La poudre de polissage à l'oxyde de cérium à haut taux d'enlèvement est conçue pour le polissage efficace de composants en verre optique nécessitant une élimination rapide de la matière et une qualité de surface stable. La morphologie optimisée des particules offre une excellente interaction chimico-mécanique avec les substrats en verre, permettant une productivité améliorée sans compromettre la finition de surface.
Conçu pour la fabrication d'optiques de précision à grande échelle et le traitement de composants photoniques.
Caractéristiques principales
- Haute efficacité d'enlèvement de matière
- Excellente uniformité de polissage
- Distribution stable de la taille des particules
- Réduction du temps et du coût de polissage
- Bon comportement en suspension lors de la préparation de la pâte
- Convient aux systèmes de polissage par lots et automatisés
Distribution de la taille des particulesApplications
Polissage de lentilles et de prismes optiques
- Fabrication d'optiques pour appareils photo et d'imagerie
- Substrats en verre photonique
- Finition du verre de précision et des écrans
- Composants de communication optique
- Polissage général du verre optique
- Foire aux questions
Q1. Quelle est la différence entre les grades de poudre de polissage à l'oxyde de cérium ?
Les poudres de polissage à l'oxyde de cérium sont conçues pour différentes étapes de polissage et différents matériaux.
La sélection du grade approprié dépend du matériau du substrat, de la rugosité de surface requise et des conditions du processus de polissage.
Q2. Quels matériaux peuvent être polis avec de la poudre de polissage à l'oxyde de cérium ?
La poudre de polissage à l'oxyde de cérium est largement utilisée dans les industries de fabrication avancées et convient pour :
Verre optique et silice fondue
- Cristaux de saphir et de laser
- Composants photoniques
- Tranches de silicium
- Substrats semi-conducteurs
- Éléments optiques et laser de précision
- Son mécanisme de polissage chimico-mécanique permet une excellente finition de surface avec des dommages minimaux sous la surface.
Q3. La poudre de polissage à l'oxyde de cérium peut-elle être personnalisée pour des processus de polissage spécifiques ?
Oui. La poudre de polissage à l'oxyde de cérium peut être adaptée aux exigences du client, notamment :
Distribution de la taille des particules
- Performance du taux d'enlèvement
- Objectifs de finition de surface
- Concentration de préparation de la pâte
- Formulations spécifiques à l'application
- Un support technique et une évaluation d'échantillons sont généralement disponibles pour optimiser les performances de polissage pour différents équipements et matériaux.
Points forts du produit
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