ऑप्टिकल ग्लास प्रसंस्करण के लिए उच्च निकासी दर वाले सेरियम ऑक्साइड पॉलिशिंग पाउडर
उत्पाद का विवरण
| पवित्रता: | ≥ 99.9% | D50: | 1.0 - 2.5 µm |
|---|---|---|---|
| सतह खत्म करने की क्षमता: | उप-नैनोमीटर स्तर | पीएच (15% निलंबन): | 6.5 – 8.5 |
| उपस्थिति: | हल्का पीला पाउडर | फैलाव स्थिरता: | उच्च |
| प्रमुखता देना |
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उत्पाद का वर्णन
ऑप्टिकल ग्लास प्रोसेसिंग के लिए उच्च निष्कासन दर सेरियम ऑक्साइड पॉलिशिंग पाउडर
उत्पाद अवलोकन
उच्च निष्कासन दर सेरियम ऑक्साइड पॉलिशिंग पाउडर को ऑप्टिकल ग्लास घटकों की कुशल पॉलिशिंग के लिए इंजीनियर किया गया है, जिसके लिए तेज सामग्री निष्कासन और स्थिर सतह गुणवत्ता की आवश्यकता होती है। अनुकूलित कण आकारिकी ग्लास सबस्ट्रेट्स के साथ उत्कृष्ट रासायनिक-यांत्रिक संपर्क प्रदान करती है, जिससे सतह की फिनिश से समझौता किए बिना उत्पादकता में सुधार होता है।
बड़े पैमाने पर सटीक ऑप्टिक्स निर्माण और फोटोनिक्स घटक प्रसंस्करण के लिए डिज़ाइन किया गया।
मुख्य विशेषताएं
- उच्च सामग्री निष्कासन दक्षता
- उत्कृष्ट पॉलिशिंग एकरूपता
- स्थिर कण आकार वितरण
- कम पॉलिशिंग समय और लागत
- स्लरी तैयार करने में अच्छा निलंबन व्यवहार
- बैच और स्वचालित पॉलिशिंग सिस्टम के लिए उपयुक्त
कण आकार वितरणअनुप्रयोग
ऑप्टिकल लेंस और प्रिज्म पॉलिशिंग
- कैमरा और इमेजिंग ऑप्टिक्स निर्माण
- फोटोनिक्स ग्लास सबस्ट्रेट्स
- डिस्प्ले और सटीक ग्लास फिनिशिंग
- ऑप्टिकल संचार घटक
- सामान्य ऑप्टिकल ग्लास पॉलिशिंग
- अक्सर पूछे जाने वाले प्रश्न
Q1. सेरियम ऑक्साइड पॉलिशिंग पाउडर ग्रेड में क्या अंतर है?
सेरियम ऑक्साइड पॉलिशिंग पाउडर को विभिन्न पॉलिशिंग चरणों और सामग्रियों के लिए डिज़ाइन किया गया है।
उचित ग्रेड का चयन सबस्ट्रेट सामग्री, आवश्यक सतह खुरदरापन और पॉलिशिंग प्रक्रिया की स्थितियों पर निर्भर करता है।
Q2. सेरियम ऑक्साइड पॉलिशिंग पाउडर का उपयोग करके किन सामग्रियों को पॉलिश किया जा सकता है?
सेरियम ऑक्साइड पॉलिशिंग पाउडर का व्यापक रूप से उन्नत विनिर्माण उद्योगों में उपयोग किया जाता है और यह इसके लिए उपयुक्त है:
ऑप्टिकल ग्लास और फ्यूज्ड सिलिका
- नीलम और लेजर क्रिस्टल
- फोटोनिक्स घटक
- सिलिकॉन वेफर्स
- सेमीकंडक्टर सबस्ट्रेट्स
- सटीक ऑप्टिकल और लेजर तत्व
- इसका रासायनिक-यांत्रिक पॉलिशिंग तंत्र न्यूनतम उपसतह क्षति के साथ उत्कृष्ट सतह फिनिशिंग को सक्षम बनाता है।
Q3. क्या सेरियम ऑक्साइड पॉलिशिंग पाउडर को विशिष्ट पॉलिशिंग प्रक्रियाओं के लिए अनुकूलित किया जा सकता है?
हाँ। सेरियम ऑक्साइड पॉलिशिंग पाउडर को ग्राहक की आवश्यकताओं के अनुसार तैयार किया जा सकता है, जिसमें शामिल हैं:
कण आकार वितरण
- निष्कासन दर प्रदर्शन
- सतह फिनिश लक्ष्य
- स्लरी तैयार करने की सांद्रता
- अनुप्रयोग-विशिष्ट फॉर्मूलेशन
- विभिन्न उपकरणों और सामग्रियों के लिए पॉलिशिंग प्रदर्शन को अनुकूलित करने के लिए तकनीकी सहायता और नमूना मूल्यांकन आमतौर पर उपलब्ध होते हैं।
उत्पाद हाइलाइट्स
ऑप्टिकल ग्लास प्रोसेसिंग के लिए उच्च निष्कासन दर सेरियम ऑक्साइड पॉलिशिंग पाउडर उत्पाद अवलोकन उच्च निष्कासन दर सेरियम ऑक्साइड पॉलिशिंग पाउडर को ऑप्टिकल ग्लास घटकों की कुशल पॉलिशिंग के लिए इंजीनियर किया गया है, जिसके लिए तेज सामग्री निष्कासन और स्थिर सतह गुणवत्ता की आवश्यकता होती है। अनुकूलित कण आकारि...
सेमीकंडक्टर ग्रेड सेरियम ऑक्साइड पॉलिशिंग पाउडर के लिए वेफर और उन्नत सब्सट्रेट
Semiconductor Grade Cerium Oxide Polishing Powder for Wafer & Advanced Substrates Product Overview Semiconductor Grade Cerium Oxide Polishing Powder is formulated for defect-sensitive polishing applications in semiconductor and advanced electronic substrate manufacturing. The controlled purity and particle engineering reduce contamination risks while ensuring consistent planarization performance. Optimized for preparation of CMP slurries used in semiconductor wafer processing
लेजर क्रिस्टल और सटीक प्रकाशिकी के लिए अल्ट्रा-फाइन सेरियम ऑक्साइड पॉलिशिंग पाउडर
Ultra-Fine Cerium Oxide Polishing Powder for Laser Crystals & Precision Optics Product Overview Ultra-Fine Cerium Oxide Polishing Powder is developed for ultra-precision polishing processes requiring superior surface finish and minimal subsurface damage. The refined particle distribution enables smooth finishing of laser crystals and advanced optical materials used in high-performance photonics systems. Ideal for final polishing stages demanding nanometer-level surface
ऑप्टिकल ग्लास प्रसंस्करण के लिए उच्च निकासी दर वाले सेरियम ऑक्साइड पॉलिशिंग पाउडर
High Removal Rate Cerium Oxide Polishing Powder for Optical Glass Processing Product Overview High Removal Rate Cerium Oxide Polishing Powder is engineered for efficient polishing of optical glass components requiring fast material removal and stable surface quality. The optimized particle morphology provides excellent chemical-mechanical interaction with glass substrates, enabling improved productivity without compromising surface finish. Designed for large-scale precision
अर्धचालक और सिलिकॉन वेफर पॉलिशिंग के लिए खरोंच मुक्त सीरिया सीएमपी स्लरी
Scratch-Free Ceria CMP Slurry for Semiconductor & Silicon Wafer Polishing Product Overview Scratch-Free Cerium Oxide CMP Slurry is specially formulated for semiconductor wafer and advanced substrate polishing where defect control and ultra-smooth surfaces are critical. The engineered nano-scale ceria particles provide superior defect reduction while maintaining stable removal efficiency. Ideal for silicon wafer finishing and precision semiconductor fabrication processes. Key
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