Ceriumoxidpolierpulver mit hoher Entfernung für die optische Glasverarbeitung
Produktdetails
| Reinheit: | ≥ 99,9 % | D50: | 1,0 – 2,5 µm |
|---|---|---|---|
| Fähigkeit zur Oberflächenbeschaffenheit: | Sub-Nanometer-Ebene | pH (15 % Suspension): | 6,5 – 8,5 |
| Aussehen: | Hellgelbes Pulver | Stabilität der Dispersion: | Hoch |
| Hervorheben |
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Produkt-Beschreibung
Ceriumoxidpolierpulver mit hoher Entfernung für die optische Glasverarbeitung
Produktübersicht
Cerium-Oxid-Polierpulver mit hoher Entfernung ist für eine effiziente Polierung optischer Glaskomponenten entwickelt, die eine schnelle Materialentfernung und eine stabile Oberflächenqualität erfordern.Die optimierte Partikelmorphologie sorgt für eine ausgezeichnete chemisch-mechanische Wechselwirkung mit Glassubstraten, was eine höhere Produktivität ohne Beeinträchtigung der Oberflächenbearbeitung ermöglicht.
Konzipiert für die großflächige Präzisionsoptikherstellung und die Verarbeitung von Photonikkomponenten.
Wesentliche Merkmale
- Hohe Effizienz der Materialentfernung
- Ausgezeichnete Poliergleichheit
- Stabile Partikelgrößenverteilung
- Verkürzte Polierzeit und Kosten
- Gutes Verhalten der Suspension bei der Zubereitung von Gülle
- geeignet für Chargen- und automatische Poliersysteme
PartikelgrößenverteilungDie
Anwendungen
- Polstern von optischen Linsen und Prismen
- Herstellung von Kamera- und Bildoptiken
- Glassubstrate für Photonik
- Bildschirm- und Präzisionsglasveredelung
- Komponenten für optische Kommunikation
- Glaspolieren für allgemeine optische Zwecke
Häufig gestellte Fragen
Q1. Was ist der Unterschied zwischen den Cerium-Oxid-Polierpulverqualitäten?
Cerium-Oxid-Polierpulver sind für verschiedene Polierstufen und Materialien ausgelegt.
Die Auswahl der richtigen Qualität hängt vom Substratmaterial, der erforderlichen Oberflächenrauheit und den Bedingungen des Polierprozesses ab.
Q2. Welche Materialien können mit Cerium-Oxid-Polierpulver poliert werden?
Ceriumoxidpolierpulver wird in der fortgeschrittenen verarbeitenden Industrie weit verbreitet und eignet sich für:
- Glas für optische Zwecke und geschmolzenes Silizium
- Saphirkristalle und Laserkristalle
- Photonikkomponenten
- mit einer Breite von nicht mehr als 20 mm
- Halbleiter-Substrate
- Präzisionsoptische und Laserelemente
Der chemisch-mechanische Poliermechanismus ermöglicht eine hervorragende Oberflächenveredelung mit minimalem Untergrundschaden.
Q3. Kann Cerium-Oxid-Polierpulver für spezifische Polierverfahren angepasst werden?
Cerium-Oxid-Polierpulver kann je nach Kundenanforderungen angepasst werden, einschließlich:
- Partikelgrößenverteilung
- Leistung der Entfernung
- Oberflächenveredelungsziele
- Konzentration der Schlammvorbereitung
- Anwendungsspezifische Formulierungen
Technische Unterstützung und Probenauswertung stehen in der Regel zur Verfügung, um die Polierleistung für verschiedene Geräte und Materialien zu optimieren.
Produkt-Highlights
Ceriumoxidpolierpulver mit hoher Entfernung für die optische Glasverarbeitung Produktübersicht Cerium-Oxid-Polierpulver mit hoher Entfernung ist für eine effiziente Polierung optischer Glaskomponenten entwickelt, die eine schnelle Materialentfernung und eine stabile Oberflächenqualität erfordern.Die ...
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