Ultrafeines Ceroxid-Poliermittel für Laser-Kristalle und Präzisionsoptiken
Produktdetails
| Reinheit: | ≥ 99,95% | D50: | 0,3 – 0,8 µm |
|---|---|---|---|
| Teilchengröße-Verteilung: | Enge | pH (15 % Suspension): | 6,5 – 8,5 |
| Aussehen: | Hellgelbes Pulver | Fähigkeit zur Oberflächenbeschaffenheit: | Sub-Nanometer-Ebene |
| Hervorheben |
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Produkt-Beschreibung
Ultrafeines Ceroxid-Poliermittel für Laser-Kristalle & Präzisionsoptiken
Produktübersicht
Ultrafeines Ceroxid-Poliermittel wurde für Ultrapräzisions-Poliervorgänge entwickelt, die eine überlegene Oberflächengüte und minimale Schäden unter der Oberfläche erfordern. Die verfeinerte Partikelverteilung ermöglicht eine glatte Politur von Laser-Kristallen und fortschrittlichen optischen Materialien, die in Hochleistungs-Photoniksystemen eingesetzt werden.
Ideal für Endpoliturstufen, die eine Oberflächenqualität im Nanometerbereich erfordern.
Hauptmerkmale
- Ultrafeine Partikelverteilung
- Außergewöhnliche Oberflächenglätte
- Geringe Kratzerbildung
- Reduzierte Schäden unter der Oberfläche
- Hohe Polierstabilität
- Hervorragende Reproduzierbarkeit zwischen Chargen
PartikelgrößenverteilungAnwendungen
Politur von Laser-Kristallen (YAG, Saphir, Quarzglas)
- Hochpräzisions-Optikkomponenten
- Endbearbeitung von Photonik und Laseroptiken
- Wissenschaftliche optische Instrumente
- Endpolitur-Prozesse
- Häufig gestellte Fragen
F1. Was ist der Unterschied zwischen den Güten von Ceroxid-Poliermitteln?
Ceroxid-Poliermittel sind für verschiedene Polierstufen und Materialien konzipiert.
Die Auswahl der richtigen Güte hängt vom Substratmaterial, der erforderlichen Oberflächenrauheit und den Bedingungen des Polierprozesses ab.
F2. Welche Materialien können mit Ceroxid-Poliermittel poliert werden?
Ceroxid-Poliermittel werden in fortschrittlichen Fertigungsindustrien weit verbreitet und eignen sich für:
Optisches Glas und Quarzglas
- Saphir und Laser-Kristalle
- Photonik-Komponenten
- Silizium-Wafer
- Halbleitersubstrate
- Präzisionsoptik- und Laserelemente
- Sein chemisch-mechanischer Polier-Mechanismus ermöglicht eine hervorragende Oberflächenbearbeitung mit minimalen Schäden unter der Oberfläche.
F3. Kann Ceroxid-Poliermittel für spezifische Polierprozesse angepasst werden?
Ja. Ceroxid-Poliermittel können nach Kundenwunsch angepasst werden, einschließlich:
Partikelgrößenverteilung
- Abtragsraten-Leistung
- Oberflächengüte-Ziele
- Konzentration der Aufschlämmungszubereitung
- Anwendungsspezifische Formulierungen
- Technischer Support und Musterbewertung sind in der Regel verfügbar, um die Polierleistung für verschiedene Geräte und Materialien zu optimieren.
Produkt-Highlights
Ultrafeines Ceroxid-Poliermittel für Laser-Kristalle & Präzisionsoptiken Produktübersicht Ultrafeines Ceroxid-Poliermittel wurde für Ultrapräzisions-Poliervorgänge entwickelt, die eine überlegene Oberflächengüte und minimale Schäden unter der Oberfläche erfordern. Die verfeinerte Partikelverteilung ...
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