레이저 크리스탈 및 정밀 광학용 초미세 세리움 산화질소 닦기 분말
제품 상세정보
| 청정: | ≥ 99.95% | D50: | 0.3~0.8μm |
|---|---|---|---|
| 입자 크기 분포: | 좁아지세요 | pH(15% 현탁액): | 6.5 – 8.5 |
| 모습: | 밝은 노란색 분말 | 표면 마감 능력: | 나노미터 이하 수준 |
| 강조하다 |
레이저 크리스탈용 세리움 산화물 닦기 분말,초미세한 세리움 산화물 분말,광학용 희토류 가루 |
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제품 설명
레이저 결정 및 정밀 광학용 초미세 산화세륨 연마 분말
제품 개요
초미세 산화세륨 연마 분말은 우수한 표면 마감과 최소한의 표면하 손상을 요구하는 초정밀 연마 공정을 위해 개발되었습니다. 정제된 입자 분포는 고성능 광전자 시스템에 사용되는 레이저 결정 및 고급 광학 재료의 부드러운 마감을 가능하게 합니다.
나노미터 수준의 표면 품질을 요구하는 최종 연마 단계에 이상적입니다.
주요 특징
- 초미세 입자 분포
- 탁월한 표면 평활도
- 낮은 스크래치 발생
- 표면하 손상 감소
- 높은 연마 안정성
- 배치 간 우수한 재현성
입자 크기 분포응용 분야
레이저 결정 연마 (YAG, 사파이어, 용융 실리카)
- 고정밀 광학 부품
- 광전자 및 레이저 광학 마감
- 과학용 광학 기기
- 최종 연마 공정
- 자주 묻는 질문
Q1. 산화세륨 연마 분말 등급 간의 차이점은 무엇인가요?
산화세륨 연마 분말은 다양한 연마 단계 및 재료에 맞게 설계되었습니다.
적절한 등급 선택은 기판 재료, 요구되는 표면 거칠기 및 연마 공정 조건에 따라 달라집니다.
Q2. 산화세륨 연마 분말을 사용하여 어떤 재료를 연마할 수 있나요?
산화세륨 연마 분말은 첨단 제조 산업에서 널리 사용되며 다음과 같은 재료에 적합합니다:
광학 유리 및 용융 실리카
- 사파이어 및 레이저 결정
- 광전자 부품
- 실리콘 웨이퍼
- 반도체 기판
- 정밀 광학 및 레이저 요소
- 화학-기계적 연마 메커니즘은 최소한의 표면하 손상으로 우수한 표면 마감을 가능하게 합니다.
Q3. 특정 연마 공정을 위해 산화세륨 연마 분말을 맞춤 제작할 수 있나요?
예. 산화세륨 연마 분말은 다음과 같은 고객 요구 사항에 따라 맞춤 제작할 수 있습니다:
입자 크기 분포
- 제거율 성능
- 표면 마감 목표
- 슬러리 준비 농도
- 응용 분야별 제형
- 기술 지원 및 샘플 평가는 일반적으로 다양한 장비 및 재료에 대한 연마 성능을 최적화하기 위해 제공됩니다.
제품 하이라이트
레이저 결정 및 정밀 광학용 초미세 산화세륨 연마 분말 제품 개요 초미세 산화세륨 연마 분말은 우수한 표면 마감과 최소한의 표면하 손상을 요구하는 초정밀 연마 공정을 위해 개발되었습니다. 정제된 입자 분포는 고성능 광전자 시스템에 사용되는 레이저 결정 및 고급 광학 재료의 부드러운 마감을 가능하게 합니다. 나노미터 수준의 표면 품질을 요구하는 최종 연마 단계에 이상적입니다. 주요 특징 초미세 입자 분포 탁월한 표면 평활도 낮은 스크래치 발생 표면하 손상 감소 높은 연마 안정성 배치 간 우수한 재현성 입자 크기 분포응용 분야 레이저 ...
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