Nano Ceria CMP Schlamm 100nm High-Performance Cerium Oxid CMP Schlamm für Halbleiter
Produktdetails
| Partikelgröße: | 100 nm | CAS-NR.: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CeO2: | 99 % | solider Inhalt: | 20 Gew.-% (anpassbar) |
| pH-Bereich: | einstellbar | Anwendung: | Halbleiter |
| Hervorheben |
Nano Ceria CMP Schlamm 100 nm,Ceriumoxid CMP Schlamm Halbleiter,Schleim von seltenen Erden mit hoher Leistung |
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Produkt-Beschreibung
Nano Ceria CMP-Schleifmittel 100nm | Hochleistungs-Ceroxid-CMP-Schleifmittel für Halbleiter
Beschreibung
Nano Ceria CMP-Schleifmittel (100 nm) ist ein Hochleistungs-Chemisch-Mechanisches Polier (CMP)-Material, das aus ultrafeinen Nanometer-Ceroxid-Partikeln formuliert ist. Das Schleifmittel ist für hochpräzise Planarisierung, Defektkontrolle und überlegene Oberflächenqualität konzipiert, die in der Halbleiterfertigung erforderlich sind.
Durch optimierte Partikelgrößenverteilung und kontrollierte Oberflächenchemie liefert das Schleifmittel:
- Stabile Polierleistung
- Hohe Materialabtragsrate
- Exzellente Oberflächenglätte
- Reduzierte Mikrokratzer und Defekte
Es ist ideal für Präzisionspolierprozesse der nächsten Generation, die eine Oberflächenkontrolle im Nanometerbereich erfordern.
Hauptmerkmale & Vorteile
Hochreine Schleifmaterialien
Geringer Verunreinigungsgehalt sorgt für sauberes Polierverhalten und optische Oberflächenqualität.
Kontrollierte Partikelgrößenverteilung
Ermöglicht gleichmäßigen Materialabtrag und minimiert Mikrokratzer und Oberflächenfehler.
Stabile Polierleistung
Konsistente Schleifeigenschaften unterstützen reproduzierbare Ergebnisse über Produktionschargen hinweg.
Vielseitiger Anwendungsbereich
Geeignet für eine breite Palette von optischen Glaszusammensetzungen und Polierprozessen.
Prozess- & Ausrüstungskompatibilität
Konzipiert für den Einsatz mit Standard-Optikpolierern, -Pads und -Werkzeugen.
Partikelgrößenverteilung
Fragen & Antworten
1. Was ist Seltenerd-Polierpulver?
Seltenerd-Polierpulver ist eine hochreine Verbindung, die zum Polieren von optischen Komponenten, Halbleiterwafern und empfindlichen Oberflächen wie Glas und Linsen verwendet wird. Es liefert ein glattes, hochklares Finish, ohne das Material zu beschädigen.
2. Wie wähle ich das richtige Seltenerd-Polierpulver für meine Anwendung aus?
Um das ideale Polierpulver auszuwählen, berücksichtigen Sie Faktoren wie das zu polierende Material, das erforderliche Finish und Spezifikationen wie Partikelgröße und Reinheit. Unser Verkaufsteam steht Ihnen zur Verfügung, um Ihnen bei der Auswahl des perfekten Produkts für Ihre Bedürfnisse zu helfen.
3. Wie sollte ich Seltenerd-Polierpulver lagern?
Lagern Sie es an einem kühlen, trockenen Ort, fern von Feuchtigkeit und direkter Sonneneinstrahlung. Bewahren Sie das Pulver in luftdichten Behältern auf, um Kontaminationen zu vermeiden und seine Wirksamkeit zu erhalten. Bei richtiger Lagerung ist es in der Regel 1-2 Jahre haltbar.
4. Bieten Sie kundenspezifische Seltenerd-Formulierungen an?
Ja, wir bieten kundenspezifische Seltenerd-Polierpulver und -Schleifmittel an, die auf Ihre spezifischen Bedürfnisse zugeschnitten sind, einschließlich Anpassungen der Partikelgröße, chemischen Zusammensetzung oder Schleifmittelkonsistenz.
5. Kann ich eine Probe erhalten, bevor ich eine Großbestellung aufgeben?
Absolut! Wir bieten Muster zur Bewertung an. Kontaktieren Sie unser Team, um eine Probe anzufordern, und wir arrangieren den Versand.
6. Wie kann ich eine Bestellung aufgeben? Was ist die typische Lieferzeit?
Um eine Bestellung aufzugeben, kontaktieren Sie einfach unser Verkaufsteam, das Sie durch den Prozess führt und Ihnen ein Angebot unterbreitet. Die Lieferzeiten variieren je nach Bestellgröße, Standort und Verfügbarkeit auf Lager, und wir geben Ihnen einen geschätzten Zeitplan, sobald die Bestellung bestätigt ist.
Produkt-Highlights
Nano Ceria CMP-Schleifmittel 100nm | Hochleistungs-Ceroxid-CMP-Schleifmittel für Halbleiter Beschreibung Nano Ceria CMP-Schleifmittel (100 nm) ist ein Hochleistungs-Chemisch-Mechanisches Polier (CMP)-Material, das aus ultrafeinen Nanometer-Ceroxid-Partikeln formuliert ist. Das Schleifmittel ist für ...
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Cerium-Oxalat-Pulver chemische Reagenzelemente
Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically
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