Nano Ceria CMP Slurry 100nm High-Performance Cerium Oxide CMP Slurry Pour les semi-conducteurs
Détails de produit
| Taille des particules: | 100 nm | N° CAS.: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CeO2: | 99% | contenu solide: | 20 % en poids (personnalisable) |
| Plage de pH: | réglable | Application: | Semi-conducteur |
| Mettre en évidence |
Céréa nano CMP Slurry 100 nm,Oxyde de cérium CMP semi-conducteur à lisier,Polissage des terres rares Slurry à haute performance |
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Description de produit
Nano Ceria CMP Slurry 100nm High-Performance Cerium Oxide CMP Slurry Pour les semi-conducteurs
Des descriptionssur
Le Slurry Nano Ceria CMP (100 nm) est un matériau de polissage mécanique chimique (CMP) à haute performance formulé à l'aide de particules d'oxyde de cérium ultra-fines de nanomètres.La suspension est conçue pour une planarisation de haute précision, contrôle des défauts et qualité supérieure de surface requise dans la fabrication de semi-conducteurs.
Grâce à une répartition optimisée de la taille des particules et à une chimie de surface contrôlée, l'ensemencement produit:
- Performance de polissage stable
- Efficacité élevée de l'élimination des matières
- Excellente douceur de surface
- Réduction des micro rayures et des défauts
Il est idéal pour les procédés de polissage de précision de nouvelle génération nécessitant un contrôle de surface au niveau des nanomètres.
Principales caractéristiques et avantages
Matériaux abrasifs de haute pureté
Une faible teneur en impuretés garantit un comportement de polissage propre et une qualité de surface de qualité optique.
Distribution contrôlée de la taille des particules
Assure une élimination uniforme du matériau et minimise les micro rayures et les défauts de surface.
Performance de polissage stable
Les caractéristiques abrasives constantes permettent de reproduire les résultats sur tous les lots de production.
Variété d'applications
Convient à une grande variété de compositions de verre optique et de procédés de polissage.
Compatibilité des procédés et des équipements
Conçu pour être utilisé avec des machines de polissage optique standard, des tampons et des outils.
Distribution de la taille des particulesLe gouvernement
Questions et réponses
1Qu'est-ce que la poudre de polissage des terres rares?
La poudre de polissage des terres rares est un composé de haute pureté utilisé pour polir des composants optiques, des plaquettes de semi-conducteurs et des surfaces délicates comme le verre et les lentilles.une finition de haute clarté sans endommager le matériau.
2Comment choisir la bonne poudre de polissage de terres rares pour mon application?
Pour choisir la poudre de polissage idéale, prenez en considération des facteurs tels que le matériau que vous polissez, la finition requise et des spécifications telles que la taille et la pureté des particules.Notre équipe de vente est disponible pour vous aider à choisir le produit parfait pour vos besoins.
3Comment dois-je stocker la poudre de polissage des terres rares?
Conserver dans un endroit frais et sec, à l'abri de l'humidité et de la lumière directe du soleil.il dure généralement 1 à 2 ans.
4Vous fournissez des formulations de terres rares sur mesure?
Oui, nous proposons des poudres et des lisières de polissage de terres rares sur mesure, adaptées à vos besoins spécifiques, y compris des ajustements de la taille des particules, de la composition chimique ou de la consistance de la lisière.
5Puis-je avoir un échantillon avant de faire une commande en vrac?
Nous fournissons des échantillons pour évaluation, contactez notre équipe pour demander un échantillon, et nous organiserons l'expédition.
6Comment puis-je passer une commande? Quel est le délai de livraison typique?
Pour passer une commande, contactez simplement notre équipe de vente, qui vous guidera tout au long du processus et vous fournira un devis.et nous vous donnerons un calendrier estimé une fois la commande confirmée.
Points forts du produit
Nano Ceria CMP Slurry 100nm High-Performance Cerium Oxide CMP Slurry Pour les semi-conducteurs Des descriptionssur Le Slurry Nano Ceria CMP (100 nm) est un matériau de polissage mécanique chimique (CMP) à haute performance formulé à l'aide de particules d'oxyde de cérium ultra-fines de nanomètres.La ...
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