Kualitas Slurry CMP Nano Ceria 100nm | Slurry CMP Oksida Cerium Kinerja Tinggi Untuk Semikonduktor Pabrik
<
Kualitas Slurry CMP Nano Ceria 100nm | Slurry CMP Oksida Cerium Kinerja Tinggi Untuk Semikonduktor Pabrik
>

Slurry CMP Nano Ceria 100nm | Slurry CMP Oksida Cerium Kinerja Tinggi Untuk Semikonduktor

Nama merek: LICHEN
Nomor Model: LC
Tempat Asal: Cina
Sertifikasi: ISO
Jumlah pesanan minimum: 20KGS
Harga: NEGOCIABLE
Kemampuan Penyediaan: 3000MT/tahun

Rincian produk


Ukuran Partikel: 100nm Tidak.: 1306-38-3
CEO₂: 99% konten padat: 20% berat (Dapat Disesuaikan)
Kisaran Ph: dapat disesuaikan Aplikasi: Semikonduktor
Menyoroti

Slurry CMP Nano Ceria 100nm

,

Slurry CMP Oksida Cerium semikonduktor

,

Slurry Poles Langka Kinerja Tinggi

Deskripsi Produk


Nano Ceria CMP Slurry 100nm High-Performance Cerium Oxide CMP Slurry Untuk Semikonduktor

Deskripsipada

Nano Ceria CMP Slurry (100 nm) adalah bahan polishing mekanik kimia (CMP) berkinerja tinggi yang dirumuskan menggunakan partikel cerium oksida nanometer ultra-halus.Lurry ini dirancang untuk planarization presisi tinggi, pengendalian cacat, dan kualitas permukaan yang superior yang dibutuhkan dalam pembuatan semikonduktor.

Melalui distribusi ukuran partikel yang dioptimalkan dan kimia permukaan yang terkontrol, bubur memberikan:

  • Kinerja polishing yang stabil
  • Efisiensi penghapusan material yang tinggi
  • Permukaan halus yang sangat baik
  • Mengurangi micro-garuk dan cacat

Ini sangat ideal untuk proses polishing presisi generasi berikutnya yang menuntut kontrol permukaan tingkat nanometer.

 

Fitur & Keuntungan Utama

Bahan abrasif dengan kemurnian tinggi

Kandungan kotoran yang rendah memastikan perilaku polesan yang bersih dan kualitas permukaan kelas optik.

Distribusi Ukuran Partikel Terkontrol

Memberikan penghapusan material yang seragam dan meminimalkan micro-garuk dan cacat permukaan.

Kinerja polishing yang stabil

Karakteristik abrasif yang konsisten mendukung hasil yang dapat diulang di seluruh batch produksi.

Rentang Aplikasi Serbaguna

Cocok untuk berbagai komposisi kaca optik dan proses polesan.

Kompatibilitas Proses & Peralatan

Dirancang untuk digunakan dengan mesin polesan optik standar, bantalan, dan alat.

 

Distribusi ukuran partikelPeraturan


Slurry CMP Nano Ceria 100nm | Slurry CMP Oksida Cerium Kinerja Tinggi Untuk Semikonduktor

Pertanyaan dan Jawaban

1Apa itu bubuk polishing bumi langka?

Bubuk penggilap bumi langka adalah senyawa kemurnian tinggi yang digunakan untuk menggilas komponen optik, wafer semikonduktor, dan permukaan halus seperti kaca dan lensa.finish yang sangat jernih tanpa merusak material.

2. Bagaimana saya memilih bubuk polishing bumi langka yang tepat untuk aplikasi saya?

Untuk memilih bubuk polesan yang ideal, pertimbangkan faktor-faktor seperti bahan yang Anda polesan, finishing yang diperlukan, dan spesifikasi seperti ukuran partikel dan kemurnian.Tim penjualan kami tersedia untuk membantu Anda memilih produk yang sempurna untuk kebutuhan Anda.

3Bagaimana aku harus menyimpan bubuk polishing bumi langka?

Simpan di tempat yang dingin dan kering, jauh dari kelembaban dan sinar matahari langsung Simpan bubuk dalam wadah kedap udara untuk mencegah kontaminasi dan menjaga efektivitasnya.biasanya berlangsung 1-2 tahun.

4Apakah Anda menyediakan formulasi bumi langka yang disesuaikan?

Ya, kami menawarkan serbuk dan bubur polishing tanah langka khusus, disesuaikan untuk memenuhi kebutuhan spesifik Anda, termasuk penyesuaian ukuran partikel, komposisi kimia, atau konsistensi bubur.

5Bisakah aku mendapatkan sampel sebelum melakukan pesanan massal?

Kami menyediakan sampel untuk evaluasi. hubungi tim kami untuk meminta sampel, dan kami akan mengatur pengiriman.

6Bagaimana saya bisa memesan?

Untuk melakukan pesanan, cukup hubungi tim penjualan kami, yang akan memandu Anda melalui proses dan memberikan penawaran. waktu pengiriman bervariasi berdasarkan ukuran pesanan, lokasi, dan ketersediaan stok,dan kami akan memberikan perkiraan jadwal setelah pesanan dikonfirmasi.

Sorotan Produk

Nano Ceria CMP Slurry 100nm High-Performance Cerium Oxide CMP Slurry Untuk Semikonduktor Deskripsipada Nano Ceria CMP Slurry (100 nm) adalah bahan polishing mekanik kimia (CMP) berkinerja tinggi yang dirumuskan menggunakan partikel cerium oksida nanometer ultra-halus.Lurry ini dirancang untuk ...

Produk terkait
Kualitas Cerium Oxide for Anti-Corrosion and Protective Coatings Pabrik

Cerium Oxide for Anti-Corrosion and Protective Coatings

Cerium Oxide for Anti-Corrosion and Protective Coatings Product Overview Cerium Oxide for Anti-Corrosion and Protective Coatings is a functional ceria powder developed for advanced surface protection systems where improved chemical stability, oxidation resistance, and coating durability are required...

Kualitas Cerium Oxide Additive for High-Temperature Protective Coatings Pabrik

Cerium Oxide Additive for High-Temperature Protective Coatings

Cerium Oxide Additive for High-Temperature Protective Coatings Product Overview Cerium Oxide Additive for High-Temperature Protective Coatings is engineered for coating systems exposed to elevated temperatures, oxidation, and demanding service conditions. CeO₂ has excellent thermal stability and ...

Kualitas Nano Cerium Oxide for Advanced Functional Coatings Pabrik

Nano Cerium Oxide for Advanced Functional Coatings

Nano Cerium Oxide for Advanced Functional Coatings Product Overview High-Purity Cerium Oxide (CeO₂) for Functional Coatings is a fine ceria powder designed as a functional additive and performance-enhancing material for advanced coating formulations. Its high chemical purity, controlled particle ...

Kualitas High-Purity Cerium Oxide for Functional Coatings Pabrik

High-Purity Cerium Oxide for Functional Coatings

High-Purity Cerium Oxide for Functional Coatings Product Overview High-Purity Cerium Oxide (CeO₂) for Functional Coatings is a fine ceria powder designed as a functional additive and performance-enhancing material for advanced coating formulations. Its high chemical purity, controlled particle size, ...

Minta Kutipan

Silakan gunakan formulir kontak pertanyaan online kami di bawah ini jika Anda memiliki pertanyaan, tim kami akan menghubungi Anda sesegera mungkin.

Anda dapat mengunggah hingga 5 file dan setiap file ukuran 10M max.