Slurry CMP Nano Ceria 100nm | Slurry CMP Oksida Cerium Kinerja Tinggi Untuk Semikonduktor
Rincian produk
| Ukuran Partikel: | 100nm | Tidak.: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CEO₂: | 99% | konten padat: | 20% berat (Dapat Disesuaikan) |
| Kisaran Ph: | dapat disesuaikan | Aplikasi: | Semikonduktor |
| Menyoroti |
Slurry CMP Nano Ceria 100nm,Slurry CMP Oksida Cerium semikonduktor,Slurry Poles Langka Kinerja Tinggi |
||
Deskripsi Produk
Nano Ceria CMP Slurry 100nm High-Performance Cerium Oxide CMP Slurry Untuk Semikonduktor
Deskripsipada
Nano Ceria CMP Slurry (100 nm) adalah bahan polishing mekanik kimia (CMP) berkinerja tinggi yang dirumuskan menggunakan partikel cerium oksida nanometer ultra-halus.Lurry ini dirancang untuk planarization presisi tinggi, pengendalian cacat, dan kualitas permukaan yang superior yang dibutuhkan dalam pembuatan semikonduktor.
Melalui distribusi ukuran partikel yang dioptimalkan dan kimia permukaan yang terkontrol, bubur memberikan:
- Kinerja polishing yang stabil
- Efisiensi penghapusan material yang tinggi
- Permukaan halus yang sangat baik
- Mengurangi micro-garuk dan cacat
Ini sangat ideal untuk proses polishing presisi generasi berikutnya yang menuntut kontrol permukaan tingkat nanometer.
Fitur & Keuntungan Utama
Bahan abrasif dengan kemurnian tinggi
Kandungan kotoran yang rendah memastikan perilaku polesan yang bersih dan kualitas permukaan kelas optik.
Distribusi Ukuran Partikel Terkontrol
Memberikan penghapusan material yang seragam dan meminimalkan micro-garuk dan cacat permukaan.
Kinerja polishing yang stabil
Karakteristik abrasif yang konsisten mendukung hasil yang dapat diulang di seluruh batch produksi.
Rentang Aplikasi Serbaguna
Cocok untuk berbagai komposisi kaca optik dan proses polesan.
Kompatibilitas Proses & Peralatan
Dirancang untuk digunakan dengan mesin polesan optik standar, bantalan, dan alat.
Distribusi ukuran partikelPeraturan

Pertanyaan dan Jawaban
1Apa itu bubuk polishing bumi langka?
Bubuk penggilap bumi langka adalah senyawa kemurnian tinggi yang digunakan untuk menggilas komponen optik, wafer semikonduktor, dan permukaan halus seperti kaca dan lensa.finish yang sangat jernih tanpa merusak material.
2. Bagaimana saya memilih bubuk polishing bumi langka yang tepat untuk aplikasi saya?
Untuk memilih bubuk polesan yang ideal, pertimbangkan faktor-faktor seperti bahan yang Anda polesan, finishing yang diperlukan, dan spesifikasi seperti ukuran partikel dan kemurnian.Tim penjualan kami tersedia untuk membantu Anda memilih produk yang sempurna untuk kebutuhan Anda.
3Bagaimana aku harus menyimpan bubuk polishing bumi langka?
Simpan di tempat yang dingin dan kering, jauh dari kelembaban dan sinar matahari langsung Simpan bubuk dalam wadah kedap udara untuk mencegah kontaminasi dan menjaga efektivitasnya.biasanya berlangsung 1-2 tahun.
4Apakah Anda menyediakan formulasi bumi langka yang disesuaikan?
Ya, kami menawarkan serbuk dan bubur polishing tanah langka khusus, disesuaikan untuk memenuhi kebutuhan spesifik Anda, termasuk penyesuaian ukuran partikel, komposisi kimia, atau konsistensi bubur.
5Bisakah aku mendapatkan sampel sebelum melakukan pesanan massal?
Kami menyediakan sampel untuk evaluasi. hubungi tim kami untuk meminta sampel, dan kami akan mengatur pengiriman.
6Bagaimana saya bisa memesan?
Untuk melakukan pesanan, cukup hubungi tim penjualan kami, yang akan memandu Anda melalui proses dan memberikan penawaran. waktu pengiriman bervariasi berdasarkan ukuran pesanan, lokasi, dan ketersediaan stok,dan kami akan memberikan perkiraan jadwal setelah pesanan dikonfirmasi.
Sorotan Produk
Nano Ceria CMP Slurry 100nm High-Performance Cerium Oxide CMP Slurry Untuk Semikonduktor Deskripsipada Nano Ceria CMP Slurry (100 nm) adalah bahan polishing mekanik kimia (CMP) berkinerja tinggi yang dirumuskan menggunakan partikel cerium oksida nanometer ultra-halus.Lurry ini dirancang untuk ...
Nano Ceria CMP Slurry. Ultra-Fine Cerium Oksida Slurry Untuk Semikonduktor Presisi Tinggi & Optical Polishing
Nano Ceria CMP Slurry. Ultra-Fine Cerium Oksida Slurry Untuk Semikonduktor Presisi Tinggi & Optical Polishing Deskripsipada Nano Ceria CMP Slurry is a high-purity cerium oxide polishing slurry specifically developed for advanced Chemical Mechanical Planarization (CMP) applications requiring precise ...
Slurry CMP Nano Ceria Kemurnian Tinggi (Ukuran Partikel 200nm) Dirancang Untuk Semikonduktor
Slurry CMP Nano Ceria Kemurnian Tinggi (Ukuran Partikel 200nm) Dirancang Untuk Semikonduktor Deskripsi Slurry CMP nano ceria kemurnian tinggi (ukuran partikel 100nm) dirancang untuk semikonduktor dan penyelesaian permukaan tingkat lanjut. Dispersi stabil, tingkat penghilangan tinggi, dan cacat ...
Slurry CMP Nano Ceria 100nm | Slurry CMP Oksida Cerium Kinerja Tinggi Untuk Semikonduktor
Nano Ceria CMP Slurry 100nm High-Performance Cerium Oxide CMP Slurry Untuk Semikonduktor Deskripsipada Nano Ceria CMP Slurry (100 nm) adalah bahan polishing mekanik kimia (CMP) berkinerja tinggi yang dirumuskan menggunakan partikel cerium oksida nanometer ultra-halus.Lurry ini dirancang untuk ...
Solusi bubuk senyawa tanah langka yttrium khusus untuk farmasi
Solusi Serbuk Senyawa Yttrium Rare Earth Kustom untuk obat-obatan Ringkasan: Bubuk senyawa tanah jarang berbahan dasar yttrium khusus kami dirancang untuk memenuhi persyaratan kualitas, kemurnian, dan konsistensi yang ketat dalam penelitian dan manufaktur farmasi. Memanfaatkan teknologi sintesis dan ...
Silakan gunakan formulir kontak pertanyaan online kami di bawah ini jika Anda memiliki pertanyaan, tim kami akan menghubungi Anda sesegera mungkin.