Lodo CMP de Nano Ceria 100nm | Lodo CMP de óxido de cerio de alto rendimiento para semiconductores
Detalles del producto
| Tamaño de partícula: | 100nm | NÚMERO DE CAS: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CeO₂: | 99% | contenido sólido: | 20% en peso (personalizable) |
| Rango de pH: | ajustable | Solicitud: | Semiconductor |
| Resaltar |
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Descripción de producto
Lodo de pulido de Nano Ceria CMP 100nm | Lodo de pulido de óxido de cerio de alto rendimiento para semiconductores
DescripciónEl lodo de pulido de Nano Ceria CMP (100 nm) es un material de pulido químico mecánico (CMP) de alto rendimiento formulado con partículas ultrafinas de óxido de cerio a nanoescala. El lodo está diseñado para una planarización de alta precisión, control de defectos y una calidad de superficie superior requerida en la fabricación de semiconductores.
A través de una distribución optimizada del tamaño de partícula y una química de superficie controlada, el lodo ofrece:
Rendimiento de pulido estable
- Alta eficiencia de eliminación de material
- Excelente suavidad de la superficie
- Reducción de microarañazos y defectos
- Es ideal para procesos de pulido de precisión de próxima generación que exigen un control de la superficie a nivel de nanómetro.
Características y ventajas clave
Materiales abrasivos de alta pureza
El bajo contenido de impurezas garantiza un comportamiento de pulido limpio y una calidad de superficie de grado óptico.
Distribución controlada del tamaño de partícula
Proporciona una eliminación uniforme del material y minimiza los microarañazos y los defectos de la superficie.
Rendimiento de pulido estable
Las características abrasivas consistentes respaldan resultados repetibles en lotes de producción.
Amplio rango de aplicación versátil
Adecuado para una amplia variedad de composiciones de vidrio óptico y procesos de pulido.
Compatibilidad de procesos y equipos
Diseñado para su uso con máquinas de pulido óptico, almohadillas y herramientas estándar.
Distribución del tamaño de partícula
Preguntas y respuestas1. ¿Qué es el polvo de pulido de tierras raras?
El polvo de pulido de tierras raras es un compuesto de alta pureza utilizado para pulir componentes ópticos, obleas de semiconductores y superficies delicadas como vidrio y lentes. Proporciona un acabado suave y de alta claridad sin dañar el material.
2. ¿Cómo elijo el polvo de pulido de tierras raras adecuado para mi aplicación?
Para seleccionar el polvo de pulido ideal, considere factores como el material que está puliendo, el acabado requerido y especificaciones como el tamaño de partícula y la pureza. Nuestro equipo de ventas está disponible para ayudarle a elegir el producto perfecto para sus necesidades.
3. ¿Cómo debo almacenar el polvo de pulido de tierras raras?
Almacenar en un lugar fresco y seco, lejos de la humedad y la luz solar directa. Mantenga el polvo en recipientes herméticos para evitar la contaminación y mantener su eficacia. Con un almacenamiento adecuado, generalmente dura 1-2 años.
4. ¿Proporcionan formulaciones personalizadas de tierras raras?
Sí, ofrecemos polvos y lodos de pulido de tierras raras personalizados, adaptados para satisfacer sus necesidades específicas, incluyendo ajustes en el tamaño de partícula, la composición química o la consistencia del lodo.
5. ¿Puedo obtener una muestra antes de realizar un pedido a granel?
¡Absolutamente! Proporcionamos muestras para su evaluación. Póngase en contacto con nuestro equipo para solicitar una muestra y organizaremos el envío.
6. ¿Cómo puedo realizar un pedido? ¿Cuál es el tiempo de entrega típico?
Para realizar un pedido, simplemente póngase en contacto con nuestro equipo de ventas, que le guiará a través del proceso y le proporcionará un presupuesto. Los tiempos de entrega varían según el tamaño del pedido, la ubicación y la disponibilidad de stock, y le daremos un cronograma estimado una vez que se confirme el pedido.
Lo más destacado del producto
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