Nano Ceria CMP Slurry 100nm High-Performance Cerium Oxide CMP Slurry para Semicondutores
Detalhes do produto
| Tamanho de partícula: | 100 nm | Nº CAS.: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CeO₂: | 99% | conteúdo sólido: | 20% em peso (personalizável) |
| Faixa de pH: | ajustável | Aplicativo: | Semicondutor |
| Destacar |
Nano Ceria CMP Slurry 100 nm,Óxido de cério CMP Semicondutor de lama,Poluição de terras raras Slurry de alto desempenho |
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Descrição do produto
Nano Ceria CMP Slurry 100nm | Óxido de Cério de Alta Performance para Polimento Químico-Mecânico (CMP) em Semicondutores
Descrição
A Nano Ceria CMP Slurry (100 nm) é um material de polimento químico-mecânico (CMP) de alta performance, formulado com partículas ultrafinas de óxido de cério em nanômetros. A pasta é projetada para planarização de alta precisão, controle de defeitos e qualidade de superfície superior, exigidos na fabricação de semicondutores.
Através da distribuição otimizada do tamanho de partícula e química de superfície controlada, a pasta oferece:
- Desempenho de polimento estável
- Alta eficiência de remoção de material
- Excelente lisura da superfície
- Redução de micro-riscos e defeitos
É ideal para processos de polimento de precisão de próxima geração que exigem controle de superfície em nível de nanômetro.
Principais Características e Vantagens
Materiais Abrasivos de Alta Pureza
Baixo teor de impurezas garante um polimento limpo e qualidade de superfície de grau óptico.
Distribuição Controlada do Tamanho de Partícula
Proporciona remoção uniforme de material e minimiza micro-riscos e defeitos de superfície.
Desempenho de Polimento Estável
Características abrasivas consistentes suportam resultados repetíveis em lotes de produção.
Ampla Faixa de Aplicação
Adequado para uma grande variedade de composições de vidro óptico e processos de polimento.
Compatibilidade de Processo e Equipamento
Projetado para uso com máquinas de polimento óptico, almofadas e ferramentas padrão.
Distribuição do Tamanho de PartículaPerguntas e Respostas

1. O que é pó de polimento de terras raras?
Pó de polimento de terras raras é um composto de alta pureza usado para polir componentes ópticos, wafers de semicondutores e superfícies delicadas como vidro e lentes. Ele proporciona um acabamento liso e de alta clareza sem danificar o material.
2. Como escolho o pó de polimento de terras raras certo para minha aplicação?
Para selecionar o pó de polimento ideal, considere fatores como o material que você está polindo, o acabamento necessário e especificações como tamanho de partícula e pureza. Nossa equipe de vendas está disponível para ajudá-lo a escolher o produto perfeito para suas necessidades.
3. Como devo armazenar o pó de polimento de terras raras?
Armazene em local fresco e seco, longe de umidade e luz solar direta. Mantenha o pó em recipientes herméticos para evitar contaminação e manter sua eficácia. Com o armazenamento adequado, geralmente dura 1-2 anos.
4. Vocês fornecem formulações personalizadas de terras raras?
Sim, oferecemos pós e pastas de polimento de terras raras personalizados, adaptados para atender às suas necessidades específicas, incluindo ajustes no tamanho da partícula, composição química ou consistência da pasta.
5. Posso obter uma amostra antes de fazer um pedido em massa?
Absolutamente! Fornecemos amostras para avaliação. Entre em contato com nossa equipe para solicitar uma amostra, e nós providenciaremos o envio.
6. Como posso fazer um pedido? Qual é o tempo de entrega típico?
Para fazer um pedido, basta entrar em contato com nossa equipe de vendas, que o guiará pelo processo e fornecerá um orçamento. Os prazos de entrega variam com base no tamanho do pedido, localização e disponibilidade em estoque, e forneceremos um cronograma estimado assim que o pedido for confirmado.
Destaques do Produto
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