Nano Ceria CMP Schlamm. Ultrafeine Cerium-Oxid-Schlamm für hochpräzise Halbleiter- und optische Polierung.
Produktdetails
| Teilchengröße-Verteilung: | Enge Verbreitung | Produkttyp: | cmp-Schlamm |
|---|---|---|---|
| Zeta-Potenzial: | Positive Oberflächenladung | solider Inhalt: | Anpassbar |
| Aussehen: | Weiße Suspension | Agglomeration: | Extrem niedrig |
| Hervorheben |
Nano-Ceria-CMP-Schlamm für Halbleiter,Ultrafeine Cerium-Oxid-Polierschleim,CMP-Schlamm für die optische Hochpräzisionspolierung |
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Produkt-Beschreibung
Nano Ceria CMP Slurry | Ultrafeine Ceroxid-Slurry für hochpräzise Halbleiter- und optische Polierverfahren
Beschreibung
Nano Ceria CMP Slurry ist eine hochreine Ceroxid-Polier-Slurry, die speziell für fortschrittliche chemisch-mechanische Planarisierungs- (CMP) Anwendungen entwickelt wurde, die eine präzise Materialabtragung und eine überlegene Oberflächenqualität erfordern. Die Slurry, formuliert mit gleichmäßig dispergierten Ceria-Partikeln im Nanomaßstab, bietet ein optimales Gleichgewicht zwischen chemischer Aktivität und mechanischer Polierleistung.
Die Nano-Ceroxid-Partikel sorgen für eine kontrollierte Polierwirkung, die eine hohe Abtragsleistung ermöglicht und gleichzeitig Mikrokratzer, Oberflächenfehler und subsurfaciale Schäden effektiv minimiert. Die optimierte positive Oberflächenladung und die enge Partikelgrößenverteilung gewährleisten eine ausgezeichnete Dispersionsstabilität, verhindern Agglomeration und sorgen für eine gleichbleibende Polierleistung während langer Produktionszyklen.
Die Slurry wurde für moderne Präzisionsfertigungsumgebungen entwickelt und unterstützt hochstabile CMP-Prozesse für Halbleiterwafer, präzise optische Komponenten, fortschrittliche Glassubstrate und elektronische Materialien. Ihre sorgfältig entwickelte Formulierung verbessert die Planarisierungsuniformität, erhöht die Oberflächenglätte und trägt zu einer höheren Ausbeute und Zuverlässigkeit der Geräte bei.
Typische Anwendungen
Halbleiterfertigung
Siliziumwafer-CMP
Planarisierung von Oxidschichten
Präzisionsoptische Komponenten
Optische Linsen
Laseroptik
Photonische Komponenten
Hochpräzisions-Glassubstrate
Fortschrittliche Glas- und Displayindustrie
Abdeckglas-Politur
Display-Panels
Veredelung von Saphir und Spezialglas
Elektronische Materialien
Keramische Substrate
Hart-spröde Materialien
Politur von funktionalen Dünnschichten
Partikelgrößenverteilung

Fragen und Antworten
1. Was ist Seltenerd-Polierpulver?
Seltenerd-Polierpulver ist eine hochreine Verbindung, die zum Polieren von optischen Komponenten, Halbleiterwafern und empfindlichen Oberflächen wie Glas und Linsen verwendet wird. Es liefert ein glattes, hochklares Finish, ohne das Material zu beschädigen.
2. Wie wähle ich das richtige Seltenerd-Polierpulver für meine Anwendung aus?
Um das ideale Polierpulver auszuwählen, berücksichtigen Sie Faktoren wie das zu polierende Material, das erforderliche Finish und Spezifikationen wie Partikelgröße und Reinheit. Unser Verkaufsteam steht Ihnen zur Verfügung, um Ihnen bei der Auswahl des perfekten Produkts für Ihre Bedürfnisse zu helfen.
3. Wie sollte ich Seltenerd-Polierpulver lagern?
Lagern Sie es an einem kühlen, trockenen Ort, fern von Feuchtigkeit und direkter Sonneneinstrahlung. Bewahren Sie das Pulver in luftdichten Behältern auf, um Verunreinigungen zu vermeiden und seine Wirksamkeit zu erhalten. Bei richtiger Lagerung ist es in der Regel 1-2 Jahre haltbar.
4. Bieten Sie kundenspezifische Seltenerd-Formulierungen an?
Ja, wir bieten kundenspezifische Seltenerd-Polierpulver und Slurries an, die auf Ihre spezifischen Bedürfnisse zugeschnitten sind, einschließlich Anpassungen der Partikelgröße, chemischen Zusammensetzung oder Slurry-Konsistenz.
5. Kann ich vor einer Großbestellung eine Probe erhalten?
Absolut! Wir bieten Muster zur Bewertung an. Kontaktieren Sie unser Team, um eine Probe anzufordern, und wir arrangieren den Versand.
6. Wie kann ich eine Bestellung aufgeben? Was ist die typische Lieferzeit?
Um eine Bestellung aufzugeben, kontaktieren Sie einfach unser Verkaufsteam, das Sie durch den Prozess führt und Ihnen ein Angebot unterbreitet. Die Lieferzeiten variieren je nach Bestellgröße, Standort und Verfügbarkeit auf Lager. Wir geben Ihnen einen geschätzten Zeitplan, sobald die Bestellung bestätigt ist.
Produkt-Highlights
Nano Ceria CMP Slurry | Ultrafeine Ceroxid-Slurry für hochpräzise Halbleiter- und optische Polierverfahren Beschreibung Nano Ceria CMP Slurry ist eine hochreine Ceroxid-Polier-Slurry, die speziell für fortschrittliche chemisch-mechanische Planarisierungs- (CMP) Anwendungen entwickelt wurde, die eine ...
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Cerium-Oxalat-Pulver chemische Reagenzelemente
Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically
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