Qualité Nano Ceria CMP Slurry. Slurry ultra-fin d'oxyde de cérium pour le polissage optique et des semi-conducteurs de haute précision. Usine
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Qualité Nano Ceria CMP Slurry. Slurry ultra-fin d'oxyde de cérium pour le polissage optique et des semi-conducteurs de haute précision. Usine
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Nano Ceria CMP Slurry. Slurry ultra-fin d'oxyde de cérium pour le polissage optique et des semi-conducteurs de haute précision.

Nom de marque: LICHEN
Numéro de modèle: LC
Lieu d'origine: Chine
Certification: ISO
Quantité de commande minimale: 20KGS
Prix: NEGOCIABLE
Capacité à fournir: 3000MT/year

Détails de produit


Distribution de dimension particulaire: Distribution étroite Type de produit: cmp en suspension
Potentiel Zêta: Charge de surface positive contenu solide: Personnalisable
apparence: Suspension blanche Agglomération: Extrêmement bas
Mettre en évidence

Slurry Nano Ceria CMP pour les semi-conducteurs

,

Slurry de polissage à l'oxyde de cérium ultrafin

,

Polissage optique de haute précision à base de lisier CMP

Description de produit


Pâte à polir Nano Ceria CMP | Pâte d'oxyde de cérium ultrafine pour le polissage de semi-conducteurs et d'optiques de haute précision

Description

La pâte à polir Nano Ceria CMP est une pâte à polir à base d'oxyde de cérium de haute pureté spécialement développée pour les applications avancées de planarisation mécano-chimique (CMP) nécessitant une élimination précise des matériaux et une qualité de surface supérieure. Formulée avec des particules de cérium dispersées uniformément à l'échelle nanométrique, la pâte offre un équilibre optimal entre activité chimique et performance de polissage mécanique.

Les particules d'oxyde de cérium nanométrique assurent une action de polissage contrôlée, permettant une efficacité d'élimination élevée tout en minimisant efficacement les micro-rayures, les défauts de surface et les dommages sous-jacents. La charge de surface positive optimisée et la distribution granulométrique étroite garantissent une excellente stabilité de dispersion, empêchant l'agglomération et maintenant des performances de polissage constantes pendant les longs cycles de production.

Conçue pour les environnements de fabrication de précision modernes, la pâte prend en charge des processus CMP hautement stables pour les plaquettes de semi-conducteurs, les composants optiques de précision, les substrats de verre avancés et les matériaux électroniques. Sa formulation soigneusement conçue améliore l'uniformité de la planarisation, améliore la douceur de la surface et contribue à un rendement et une fiabilité plus élevés des appareils.

Applications typiques

Fabrication de semi-conducteurs

CMP de plaquettes de silicium

Planarisation de couches d'oxyde


Composants optiques de précision

Lentilles optiques

Optiques laser

Composants photoniques

Substrats de verre de haute précision


Industrie du verre avancé et des écrans

Polissage de verres de couverture

Panneaux d'affichage

Finition de saphir et de verre spécial


Matériaux électroniques

Substrats céramiques

Matériaux durs et fragiles

Polissage de films minces fonctionnels

 

Distribution de la taille des particules


Nano Ceria CMP Slurry. Slurry ultra-fin d'oxyde de cérium pour le polissage optique et des semi-conducteurs de haute précision.

Q&R

1. Qu'est-ce que la poudre à polir aux terres rares ?

La poudre à polir aux terres rares est un composé de haute pureté utilisé pour le polissage de composants optiques, de plaquettes de semi-conducteurs et de surfaces délicates comme le verre et les lentilles. Elle offre un fini lisse et de haute clarté sans endommager le matériau.

2. Comment choisir la bonne poudre à polir aux terres rares pour mon application ?

Pour sélectionner la poudre à polir idéale, tenez compte de facteurs tels que le matériau que vous polissez, la finition requise et les spécifications telles que la taille des particules et la pureté. Notre équipe commerciale est disponible pour vous aider à choisir le produit parfait pour vos besoins.

3. Comment dois-je stocker la poudre à polir aux terres rares ?

Conserver dans un endroit frais et sec, à l'abri de l'humidité et de la lumière directe du soleil. Conserver la poudre dans des récipients hermétiques pour éviter la contamination et maintenir son efficacité. Avec un stockage approprié, elle se conserve généralement 1 à 2 ans.

4. Fournissez-vous des formulations personnalisées de terres rares ?

Oui, nous proposons des poudres et des pâtes à polir aux terres rares personnalisées, adaptées pour répondre à vos besoins spécifiques, y compris des ajustements de la taille des particules, de la composition chimique ou de la consistance de la pâte.

5. Puis-je obtenir un échantillon avant de passer une commande en gros ?

Absolument ! Nous fournissons des échantillons pour évaluation. Contactez notre équipe pour demander un échantillon, et nous organiserons l'expédition.

6. Comment puis-je passer une commande ? Quel est le délai de livraison habituel ?

Pour passer une commande, contactez simplement notre équipe commerciale, qui vous guidera tout au long du processus et vous fournira un devis. Les délais de livraison varient en fonction de la taille de la commande, de l'emplacement et de la disponibilité des stocks, et nous vous donnerons un calendrier estimé une fois la commande confirmée.

Points forts du produit

Pâte à polir Nano Ceria CMP | Pâte d'oxyde de cérium ultrafine pour le polissage de semi-conducteurs et d'optiques de haute précision Description La pâte à polir Nano Ceria CMP est une pâte à polir à base d'oxyde de cérium de haute pureté spécialement développée pour les applications avancées de ...

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