Nano Ceria CMP Slurry. Slurry ultra-fin d'oxyde de cérium pour le polissage optique et des semi-conducteurs de haute précision.
Détails de produit
| Distribution de dimension particulaire: | Distribution étroite | Type de produit: | cmp en suspension |
|---|---|---|---|
| Potentiel Zêta: | Charge de surface positive | contenu solide: | Personnalisable |
| apparence: | Suspension blanche | Agglomération: | Extrêmement bas |
| Mettre en évidence |
Slurry Nano Ceria CMP pour les semi-conducteurs,Slurry de polissage à l'oxyde de cérium ultrafin,Polissage optique de haute précision à base de lisier CMP |
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Description de produit
Pâte à polir Nano Ceria CMP | Pâte d'oxyde de cérium ultrafine pour le polissage de semi-conducteurs et d'optiques de haute précision
Description
La pâte à polir Nano Ceria CMP est une pâte à polir à base d'oxyde de cérium de haute pureté spécialement développée pour les applications avancées de planarisation mécano-chimique (CMP) nécessitant une élimination précise des matériaux et une qualité de surface supérieure. Formulée avec des particules de cérium dispersées uniformément à l'échelle nanométrique, la pâte offre un équilibre optimal entre activité chimique et performance de polissage mécanique.
Les particules d'oxyde de cérium nanométrique assurent une action de polissage contrôlée, permettant une efficacité d'élimination élevée tout en minimisant efficacement les micro-rayures, les défauts de surface et les dommages sous-jacents. La charge de surface positive optimisée et la distribution granulométrique étroite garantissent une excellente stabilité de dispersion, empêchant l'agglomération et maintenant des performances de polissage constantes pendant les longs cycles de production.
Conçue pour les environnements de fabrication de précision modernes, la pâte prend en charge des processus CMP hautement stables pour les plaquettes de semi-conducteurs, les composants optiques de précision, les substrats de verre avancés et les matériaux électroniques. Sa formulation soigneusement conçue améliore l'uniformité de la planarisation, améliore la douceur de la surface et contribue à un rendement et une fiabilité plus élevés des appareils.
Applications typiques
Fabrication de semi-conducteurs
CMP de plaquettes de silicium
Planarisation de couches d'oxyde
Composants optiques de précision
Lentilles optiques
Optiques laser
Composants photoniques
Substrats de verre de haute précision
Industrie du verre avancé et des écrans
Polissage de verres de couverture
Panneaux d'affichage
Finition de saphir et de verre spécial
Matériaux électroniques
Substrats céramiques
Matériaux durs et fragiles
Polissage de films minces fonctionnels
Distribution de la taille des particules

Q&R
1. Qu'est-ce que la poudre à polir aux terres rares ?
La poudre à polir aux terres rares est un composé de haute pureté utilisé pour le polissage de composants optiques, de plaquettes de semi-conducteurs et de surfaces délicates comme le verre et les lentilles. Elle offre un fini lisse et de haute clarté sans endommager le matériau.
2. Comment choisir la bonne poudre à polir aux terres rares pour mon application ?
Pour sélectionner la poudre à polir idéale, tenez compte de facteurs tels que le matériau que vous polissez, la finition requise et les spécifications telles que la taille des particules et la pureté. Notre équipe commerciale est disponible pour vous aider à choisir le produit parfait pour vos besoins.
3. Comment dois-je stocker la poudre à polir aux terres rares ?
Conserver dans un endroit frais et sec, à l'abri de l'humidité et de la lumière directe du soleil. Conserver la poudre dans des récipients hermétiques pour éviter la contamination et maintenir son efficacité. Avec un stockage approprié, elle se conserve généralement 1 à 2 ans.
4. Fournissez-vous des formulations personnalisées de terres rares ?
Oui, nous proposons des poudres et des pâtes à polir aux terres rares personnalisées, adaptées pour répondre à vos besoins spécifiques, y compris des ajustements de la taille des particules, de la composition chimique ou de la consistance de la pâte.
5. Puis-je obtenir un échantillon avant de passer une commande en gros ?
Absolument ! Nous fournissons des échantillons pour évaluation. Contactez notre équipe pour demander un échantillon, et nous organiserons l'expédition.
6. Comment puis-je passer une commande ? Quel est le délai de livraison habituel ?
Pour passer une commande, contactez simplement notre équipe commerciale, qui vous guidera tout au long du processus et vous fournira un devis. Les délais de livraison varient en fonction de la taille de la commande, de l'emplacement et de la disponibilité des stocks, et nous vous donnerons un calendrier estimé une fois la commande confirmée.
Points forts du produit
Pâte à polir Nano Ceria CMP | Pâte d'oxyde de cérium ultrafine pour le polissage de semi-conducteurs et d'optiques de haute précision Description La pâte à polir Nano Ceria CMP est une pâte à polir à base d'oxyde de cérium de haute pureté spécialement développée pour les applications avancées de ...
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Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically
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