Kualitas Nano Ceria CMP Slurry. Ultra-Fine Cerium Oksida Slurry Untuk Semikonduktor Presisi Tinggi & Optical Polishing Pabrik
<
Kualitas Nano Ceria CMP Slurry. Ultra-Fine Cerium Oksida Slurry Untuk Semikonduktor Presisi Tinggi & Optical Polishing Pabrik
>

Nano Ceria CMP Slurry. Ultra-Fine Cerium Oksida Slurry Untuk Semikonduktor Presisi Tinggi & Optical Polishing

Nama merek: LICHEN
Nomor Model: LC
Tempat Asal: Cina
Sertifikasi: ISO
Jumlah pesanan minimum: 20KGS
Harga: NEGOCIABLE
Kemampuan Penyediaan: 3000MT/tahun

Rincian produk


Distribusi ukuran partikel: Distribusi Sempit Jenis Produk: cmp slurry
Potensi Zeta: Muatan Permukaan Positif konten padat: Dapat disesuaikan
Penampilan: Suspensi putih Pengelompokan: Sangat rendah
Menyoroti

Limbah Nano Ceria CMP untuk semikonduktor

,

Limbah polishing ultra-halus dari cerium oxide

,

CMP slurry untuk polishing optik presisi tinggi

Deskripsi Produk


Nano Ceria CMP Slurry. Ultra-Fine Cerium Oksida Slurry Untuk Semikonduktor Presisi Tinggi & Optical Polishing

Deskripsipada

Nano Ceria CMP Slurry is a high-purity cerium oxide polishing slurry specifically developed for advanced Chemical Mechanical Planarization (CMP) applications requiring precise material removal and superior surface qualityDiformulasikan dengan partikel-partikel ceria berskala nano yang tersebar secara merata, bubur memberikan keseimbangan optimal antara aktivitas kimia dan kinerja polesan mekanis.

Partikel nano cerium oksida memberikan tindakan polesan yang terkendali, memungkinkan efisiensi penghapusan yang tinggi sambil secara efektif meminimalkan goresan mikro, cacat permukaan, dan kerusakan bawah permukaan.Muatan permukaan positif yang dioptimalkan dan distribusi ukuran partikel yang sempit memastikan stabilitas dispersi yang sangat baik, mencegah aglomerasi dan mempertahankan kinerja polishing yang konsisten selama siklus produksi yang panjang.

Dirancang untuk lingkungan manufaktur presisi modern, bubur ini mendukung proses CMP yang sangat stabil di wafer semikonduktor, komponen optik presisi, substrat kaca canggih,dan bahan elektronikFormulasi yang dirancang dengan hati-hati meningkatkan keseragaman planarisasi, meningkatkan kelancaran permukaan, dan berkontribusi pada hasil dan keandalan perangkat yang lebih tinggi.

Aplikasi Tipikal

Produksi Semikonduktor

Wafer silikon CMP

Planarisasi lapisan oksida


Komponen optik presisi

Lensa optik

Optik laser

Komponen fotonik

Substrat kaca presisi tinggi


Industri Kaca dan Tampilan Lanjutan

Pengelasan kaca penutup

Panel tampilan

Sapphire dan finishing kaca khusus


Materi Elektronik

Substrat keramik

Bahan keras rapuh

Polishing film tipis fungsional

 

Distribusi ukuran partikelPeraturan


Nano Ceria CMP Slurry. Ultra-Fine Cerium Oksida Slurry Untuk Semikonduktor Presisi Tinggi & Optical Polishing 0

Pertanyaan dan Jawaban

1Apa itu bubuk polishing bumi langka?

Bubuk penggilap bumi langka adalah senyawa kemurnian tinggi yang digunakan untuk menggilas komponen optik, wafer semikonduktor, dan permukaan halus seperti kaca dan lensa.finish yang sangat jernih tanpa merusak material.

2. Bagaimana saya memilih bubuk polishing bumi langka yang tepat untuk aplikasi saya?

Untuk memilih bubuk polesan yang ideal, pertimbangkan faktor-faktor seperti bahan yang Anda polesan, finishing yang diperlukan, dan spesifikasi seperti ukuran partikel dan kemurnian.Tim penjualan kami tersedia untuk membantu Anda memilih produk yang sempurna untuk kebutuhan Anda.

3Bagaimana aku harus menyimpan bubuk polishing bumi langka?

Simpan di tempat yang dingin dan kering, jauh dari kelembaban dan sinar matahari langsung Simpan bubuk dalam wadah kedap udara untuk mencegah kontaminasi dan menjaga efektivitasnya.biasanya berlangsung 1-2 tahun.

4Apakah Anda menyediakan formulasi bumi langka yang disesuaikan?

Ya, kami menawarkan serbuk dan bubur polishing tanah langka khusus, disesuaikan untuk memenuhi kebutuhan spesifik Anda, termasuk penyesuaian ukuran partikel, komposisi kimia, atau konsistensi bubur.

5Bisakah aku mendapatkan sampel sebelum melakukan pesanan massal?

Kami menyediakan sampel untuk evaluasi. hubungi tim kami untuk meminta sampel, dan kami akan mengatur pengiriman.

6Bagaimana saya bisa memesan?

Untuk melakukan pesanan, cukup hubungi tim penjualan kami, yang akan memandu Anda melalui proses dan memberikan penawaran. waktu pengiriman bervariasi berdasarkan ukuran pesanan, lokasi, dan ketersediaan stok,dan kami akan memberikan perkiraan jadwal setelah pesanan dikonfirmasi.

Sorotan Produk

Nano Ceria CMP Slurry. Ultra-Fine Cerium Oksida Slurry Untuk Semikonduktor Presisi Tinggi & Optical Polishing Deskripsipada Nano Ceria CMP Slurry is a high-purity cerium oxide polishing slurry specifically developed for advanced Chemical Mechanical Planarization (CMP) applications requiring precise ...

Produk terkait
Kualitas Bubuk Poles Ceria Tingkat CMP untuk Optik AR, Susunan Lensa Mikro & Sensor Optik yang Dapat Dipakai Pabrik

Bubuk Poles Ceria Tingkat CMP untuk Optik AR, Susunan Lensa Mikro & Sensor Optik yang Dapat Dipakai

CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics

Kualitas Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder Untuk Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Pabrik

Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder Untuk Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing

Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in

Kualitas Powder Polishing Cerium Oxide Kemurnian Tinggi Untuk AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Pabrik

Powder Polishing Cerium Oxide Kemurnian Tinggi Untuk AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing

High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and

Kualitas Bubuk Oksalat Serium Reagen Kimia Unsur Pabrik

Bubuk Oksalat Serium Reagen Kimia Unsur

Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically

Minta Kutipan

Silakan gunakan formulir kontak pertanyaan online kami di bawah ini jika Anda memiliki pertanyaan, tim kami akan menghubungi Anda sesegera mungkin.

Anda dapat mengunggah hingga 5 file dan setiap file ukuran 10M max.