CMP Cerium Oxide Polishing Powder Untuk Wafer Kaca Semikonduktor
Rincian produk
| Ukuran Partikel: | 0.1-0.3μm | Tidak.: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CEO₂: | 99% | Tingkat Penangguhan: | Tinggi |
| Kisaran Ph: | 7-10 | Aplikasi: | Wafer Semikonduktor |
| Menyoroti |
Semikonduktor Cerium Oxide Polishing Powder,Powder polishing Cerium oxide untuk wafer kaca,cmp Wafer Polishing Powder |
||
Deskripsi Produk
Cerium oxide polishing powder untuk wafer semikonduktor
Deskripsipada
Lichen Cerium Oxide Polishing Powder untuk Wafer Semikonduktor adalah abrasif dengan kemurnian tinggi dan teknik presisi yang dirancang untuk proses finishing dan planarisasi permukaan wafer.Dengan distribusi ukuran partikel yang terkontrol ketat dan kekotoran logam yang rendah, bubuk penggilap ini memberikan penghapusan material yang seragam, kelancaran permukaan yang sangat baik, dan kepadatan cacat yang rendah, mendukung persyaratan ketat pembuatan semikonduktor modern.
Produk ini cocok untuk wafer kaca, lapisan oksida, dan substrat semikonduktor khusus, dan dapat digunakan dalam proses yang terkait dengan CMP dan tahap polesan mekanik halus.
Fitur & Keuntungan Utama
Cerium oxide dengan kemurnian ultra tinggi
Kekotoran logam dan ion rendah membantu mencegah kontaminasi wafer dan cacat perangkat.
Distribusi ukuran partikel sempit
Memastikan tindakan polishing yang seragam, mengurangi goresan, lubang, dan permukaan yang tidak seragam.
Tingkat Penghapusan Bahan yang Stabil
Memberikan kinerja polishing yang dapat diprediksi untuk kontrol proses yang ketat.
Generasi dengan Kecacatan Rendah
Dirancang untuk meminimalkan micro-garuk, kabut, dan kerusakan permukaan.
Konsistensi Batch yang Luar Biasa
Mendukung hasil yang dapat diulang dalam produksi semikonduktor bervolume tinggi.
Data Teknis
| Rumus Molekuler | Nomor CAS. | CeO2 % | D50 (μm) | Penampilan | Aplikasi |
| CeO2 | 1306-38-3 | 99% | 00,1-0,3 μm | Serbuk polishing | Wafer Semikonduktor |
Distribusi ukuran partikelPeraturan

Pertanyaan dan Jawaban
1Apa itu bubuk polishing bumi langka?
Bubuk penggilap bumi langka adalah senyawa kemurnian tinggi yang digunakan untuk menggilas komponen optik, wafer semikonduktor, dan permukaan halus seperti kaca dan lensa.finish yang sangat jernih tanpa merusak material.
2. Bagaimana saya memilih bubuk polishing bumi langka yang tepat untuk aplikasi saya?
Untuk memilih bubuk polesan yang ideal, pertimbangkan faktor-faktor seperti bahan yang Anda polesan, finishing yang diperlukan, dan spesifikasi seperti ukuran partikel dan kemurnian.Tim penjualan kami tersedia untuk membantu Anda memilih produk yang sempurna untuk kebutuhan Anda.
3Bagaimana aku harus menyimpan bubuk polishing bumi langka?
Simpan di tempat yang dingin dan kering, jauh dari kelembaban dan sinar matahari langsung Simpan bubuk dalam wadah kedap udara untuk mencegah kontaminasi dan menjaga efektivitasnya.biasanya berlangsung 1-2 tahun.
4Apakah Anda menyediakan formulasi bumi langka yang disesuaikan?
Ya, kami menawarkan serbuk dan bubur polishing tanah langka khusus, disesuaikan untuk memenuhi kebutuhan spesifik Anda, termasuk penyesuaian ukuran partikel, komposisi kimia, atau konsistensi bubur.
5Bisakah aku mendapatkan sampel sebelum melakukan pesanan massal?
Kami menyediakan sampel untuk evaluasi. hubungi tim kami untuk meminta sampel, dan kami akan mengatur pengiriman.
6Bagaimana saya bisa memesan?
Untuk melakukan pesanan, cukup hubungi tim penjualan kami, yang akan memandu Anda melalui proses dan memberikan penawaran. waktu pengiriman bervariasi berdasarkan ukuran pesanan, lokasi, dan ketersediaan stok,dan kami akan memberikan perkiraan jadwal setelah pesanan dikonfirmasi.
Sorotan Produk
Cerium oxide polishing powder untuk wafer semikonduktor Deskripsipada Lichen Cerium Oxide Polishing Powder untuk Wafer Semikonduktor adalah abrasif dengan kemurnian tinggi dan teknik presisi yang dirancang untuk proses finishing dan planarisasi permukaan wafer.Dengan distribusi ukuran partikel yang ...
Cerium Oxide for Anti-Corrosion and Protective Coatings
Cerium Oxide for Anti-Corrosion and Protective Coatings Product Overview Cerium Oxide for Anti-Corrosion and Protective Coatings is a functional ceria powder developed for advanced surface protection systems where improved chemical stability, oxidation resistance, and coating durability are required...
Cerium Oxide Additive for High-Temperature Protective Coatings
Cerium Oxide Additive for High-Temperature Protective Coatings Product Overview Cerium Oxide Additive for High-Temperature Protective Coatings is engineered for coating systems exposed to elevated temperatures, oxidation, and demanding service conditions. CeO₂ has excellent thermal stability and ...
Nano Cerium Oxide for Advanced Functional Coatings
Nano Cerium Oxide for Advanced Functional Coatings Product Overview High-Purity Cerium Oxide (CeO₂) for Functional Coatings is a fine ceria powder designed as a functional additive and performance-enhancing material for advanced coating formulations. Its high chemical purity, controlled particle ...
High-Purity Cerium Oxide for Functional Coatings
High-Purity Cerium Oxide for Functional Coatings Product Overview High-Purity Cerium Oxide (CeO₂) for Functional Coatings is a fine ceria powder designed as a functional additive and performance-enhancing material for advanced coating formulations. Its high chemical purity, controlled particle size, ...
Silakan gunakan formulir kontak pertanyaan online kami di bawah ini jika Anda memiliki pertanyaan, tim kami akan menghubungi Anda sesegera mungkin.