Qualidade CMP Cerium Oxide Polishing Powder para Wafer de Vidro Semicondutor Fábrica
<
Qualidade CMP Cerium Oxide Polishing Powder para Wafer de Vidro Semicondutor Fábrica
Qualidade CMP Cerium Oxide Polishing Powder para Wafer de Vidro Semicondutor Fábrica
>

CMP Cerium Oxide Polishing Powder para Wafer de Vidro Semicondutor

Nome da marca: LICHEN
Número do modelo: LCR0103
Lugar de origem: China
Certificação: ISO
Quantidade mínima do pedido: 20kg
Preço: NEGOCIABLE
Capacidade de abastecimento: 3000MT/year

Detalhes do produto


Tamanho de partícula: 00,1-0,3 μm Nº CAS.: 1306-38-3
CeO₂: 99% Taxa de Suspensão: Alto
Faixa de pH: 7-10 aplicativo: Bolachas semicondutoras
Destacar

Polvilho de óxido de cério para semicondutores

,

Polissagem de óxido de cério em pó para bolhas de vidro

,

cmp Wafer Polissagem em pó

Descrição do produto

Polvilhador de óxido de cério para wafers de semicondutores

Descriçõesem

O pó de polimento de óxido de líquen de cério para wafers de semicondutores é um abrasivo de alta pureza e engenharia de precisão projetado para processos de acabamento e planarização da superfície da wafer.Com distribuição de tamanho de partículas rigidamente controlada e baixas impurezas metálicas, este pó de polimento oferece remoção uniforme de material, excelente suavidade superficial e baixa densidade de defeito, suportando os rigorosos requisitos da fabricação moderna de semicondutores.

O produto é adequado para wafers de vidro, camadas de óxido e substratos de semicondutores especiais e pode ser utilizado em processos relacionados com CMP e fases de polimento mecânico fino.

 

Principais características e vantagens

Óxido de cério de ultra-alta pureza
As baixas impurezas metálicas e iónicas ajudam a prevenir a contaminação da bolacha e defeitos do dispositivo.

Distribuição do tamanho das partículas estreitas
Assegura ação de polimento uniforme, reduzindo arranhões, buracos e não-uniformidade da superfície.

Taxa estável de remoção de material
Fornece um desempenho de polimento previsível para um controlo rigoroso do processo.

Geração com baixo grau de defeito
Projetado para minimizar micro arranhões, neblina e danos à superfície.

Excelente consistência do lote
Suporta resultados repetíveis na produção de semicondutores de grande volume.

 

Dados técnicos

Fórmula molecular Número CAS. CeO2 % D50 (μm) Aparência Aplicação
CeO2 1306-38-3 99% 00,1-0,3 μm Pó de polimento Orifícios de semicondutores

 

Distribuição do tamanho das partículasAção

 

CMP Cerium Oxide Polishing Powder para Wafer de Vidro Semicondutor 0

Perguntas e respostas

1O que é pó de polimento de terras raras?

O pó de polimento de terras raras é um composto de alta pureza usado para polir componentes ópticos, wafers de semicondutores e superfícies delicadas como vidro e lentes.acabamento de alta transparência sem danificar o material.

2Como escolho o pó de polimento de terras raras adequado para a minha aplicação?

Para escolher o pó de polimento ideal, considere fatores como o material que está a polir, o acabamento exigido e especificações como o tamanho e a pureza das partículas.A nossa equipa de vendas está disponível para ajudá-lo a escolher o produto perfeito para as suas necessidades.

3Como devo armazenar o pó de polir de terras raras?

Manter em local fresco e seco, longe da humidade e da luz solar direta.Normalmente dura 1-2 anos.

4Fornece formulações personalizadas de terras raras?

Sim, oferecemos pó e lodos de polir terras raras personalizados, adaptados às suas necessidades específicas, incluindo ajustes no tamanho das partículas, composição química ou consistência da lodo.

5Posso obter uma amostra antes de fazer uma encomenda em massa?

Nós fornecemos amostras para avaliação, entre em contacto com a nossa equipa para solicitar uma amostra e nós vamos organizar o envio.

6Como posso fazer uma encomenda? Qual é o prazo típico de entrega?

Para fazer um pedido, basta entrar em contato com a nossa equipe de vendas, que irá guiá-lo através do processo e fornecer uma cotação.E vamos dar-lhe um calendário estimado assim que a encomenda for confirmada..

 

Destaques do Produto

Polvilhador de óxido de cério para wafers de semicondutores Descriçõesem O pó de polimento de óxido de líquen de cério para wafers de semicondutores é um abrasivo de alta pureza e engenharia de precisão projetado para processos de acabamento e planarização da superfície da wafer.Com distribuição de ...

PRODUTOS CONEXOS
Qualidade Pó de Polimento de Cério Grau CMP para Óticas AR, Matrizes de Micro-Lentes e Sensores Ópticos Vestíveis Fábrica

Pó de Polimento de Cério Grau CMP para Óticas AR, Matrizes de Micro-Lentes e Sensores Ópticos Vestíveis

CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics

Qualidade Ultra-Fino Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Fábrica

Ultra-Fino Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing

Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in

Qualidade Pó de Polimento de Óxido de Cério de Alta Pureza para Fabricação de Vidro de Guia de Onda AR e Lentes Ópticas Fábrica

Pó de Polimento de Óxido de Cério de Alta Pureza para Fabricação de Vidro de Guia de Onda AR e Lentes Ópticas

High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and

Qualidade Oxalato de cério em pó Elementos reagentes químicos Fábrica

Oxalato de cério em pó Elementos reagentes químicos

Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically

Peça umas citações

Por favor, use o nosso formulário de contato online abaixo se tiver alguma pergunta, nossa equipe vai voltar para você o mais rápido possível.

Você pode carregar até 5 arquivos e cada arquivo de tamanho máximo de 10M.