Polvo de pulido de óxido de cerio CMP para obleas de vidrio semiconductor
Detalles del producto
| Tamaño de partícula: | 0.1-0.3 μm | NÚMERO DE CAS: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CeO₂: | 99% | Tasa de suspensión: | Alto |
| Rango de pH: | 7-10 | solicitud: | Obleas semiconductoras |
| Resaltar |
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Descripción de producto
Polvo de pulido de óxido de cerio para obleas de semiconductores
DescripcionesEn el
Lichen Cerium Oxide Polishing Powder for Semiconductor Wafers es un abrasivo de alta pureza y ingeniería de precisión diseñado para los procesos de acabado y planarización de la superficie de las obleas.Con una distribución de tamaño de partículas estrictamente controlada y bajas impurezas metálicas, este polvo de pulido ofrece una eliminación uniforme del material, una excelente suavidad superficial y una baja densidad de defectos, lo que soporta los estrictos requisitos de la fabricación moderna de semiconductores.
El producto es adecuado para obleas de vidrio, capas de óxido y sustratos de semiconductores especiales, y puede utilizarse tanto en procesos relacionados con CMP como en etapas de pulido mecánico fino.
Características y ventajas clave
Óxido de cerio de ultra alta pureza
Las bajas impurezas metálicas e iónicas ayudan a prevenir la contaminación de las obleas y los defectos del dispositivo.
Distribución del tamaño de las partículas estrechas
Asegura una acción de pulido uniforme, reduciendo los arañazos, los agujeros y la no uniformidad de la superficie.
Tasa estable de eliminación del material
Proporciona un rendimiento de pulido predecible para un estricto control del proceso.
Generación de defecto bajo
Diseñado para minimizar los micro arañazos, neblina y daños en la superficie.
Consistencia del lote excelente
Apoya resultados repetibles en la producción de semiconductores de gran volumen.
Datos técnicos
| Fórmula molecular | No CAS. | CeO2 en % | D50 (μm) | Apariencia | Aplicación |
| El CeO2 | - ¿Por qué no? | El 99% | 0.1-0.3 μm | Polvo de pulido | Otros productos para la fabricación de placas |
Distribución del tamaño de las partículasEl

Pregunta y respuesta
1¿Qué es polvo de pulido de tierras raras?
El polvo de pulir tierras raras es un compuesto de alta pureza utilizado para pulir componentes ópticos, obleas semiconductoras y superficies delicadas como vidrio y lentes.acabado de alta claridad sin dañar el material.
2¿Cómo puedo elegir el polvo de pulido de tierras raras adecuado para mi aplicación?
Para seleccionar el polvo de pulido ideal, considere factores como el material que está puliendo, el acabado requerido y especificaciones como el tamaño y la pureza de las partículas.Nuestro equipo de ventas está disponible para ayudarle a elegir el producto perfecto para sus necesidades.
3¿Cómo debo almacenar polvo de pulir de tierras raras?
Conservar en un lugar fresco y seco, lejos de la humedad y la luz solar directa.suele durar 1-2 años.
4¿Proporciona formulaciones personalizadas de tierras raras?
Sí, ofrecemos polvos y suspensiones de tierra rara personalizadas, adaptadas a sus necesidades específicas, incluyendo ajustes en el tamaño de las partículas, la composición química o la consistencia de la suspensión.
5¿Puedo obtener una muestra antes de hacer un pedido a granel?
Por supuesto, proporcionamos muestras para su evaluación, póngase en contacto con nuestro equipo para solicitar una muestra, y organizaremos el envío.
6¿Cómo puedo hacer un pedido? ¿Cuál es el tiempo de entrega típico?
Para hacer un pedido, simplemente póngase en contacto con nuestro equipo de ventas, que le guiará a través del proceso y le proporcionará una cotización.Y le daremos un calendario estimado una vez que el pedido sea confirmado..
Lo más destacado del producto
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