Kualitas Ceria Polishing Powder Keur Pembuatan Lensa Optik Presisi Tinggi Pabrik
<
Kualitas Ceria Polishing Powder Keur Pembuatan Lensa Optik Presisi Tinggi Pabrik
>

Ceria Polishing Powder Keur Pembuatan Lensa Optik Presisi Tinggi

Nama merek: LICHEN
Nomor Model: LC
Tempat Asal: Cina
Sertifikasi: ISO
Jumlah pesanan minimum: 20KGS
Harga: Contact us
Kemampuan Penyediaan: 3000MT/tahun

Rincian produk


Kemurnian: 99,9% (kelas 4N) Permukaan Akhir Dapat Dicapai: Ra ≤ 1nm
Ukuran Partikel Median: 0,8 – 1,2 mikron pH (Persiapan Bubur): 6.5 – 7.5
Penampilan: Bubuk halus kuning muda Tingkat pengotor: sangat rendah
Menyoroti

bubuk polishing ceria kemurnian tinggi

,

bubuk untuk polishing lensa optik presisi

,

senyawa penggilap lensa bumi langka

Deskripsi Produk


Bubuk Poles Serium Oksida Kemurnian Tinggi untuk Manufaktur Lensa Optik Presisi

Tinjauan Produk

Bubuk poles serium oksida kemurnian tinggi kami direkayasa untuk aplikasi penyelesaian optik presisi yang membutuhkan kualitas permukaan superior dan kontrol cacat. Dirancang untuk lini produksi optik modern, senyawa poles ini memberikan penghilangan material yang cepat sambil mencapai kekasaran permukaan yang sangat halus.

Ideal untuk produsen optik kamera, sistem laser, dan komponen pencitraan berkinerja tinggi, bubuk ini memastikan kinerja poles yang konsisten dan mengurangi kerusakan bawah permukaan.


Distribusi Ukuran PartikelAplikasi

Ceria Polishing Powder Keur Pembuatan Lensa Optik Presisi Tinggi 0

Lensa optik presisi

  • Optik kamera dan pencitraan
  • Poles optik laser
  • Komponen fotonik
  • Perangkat optik medis
  •  Mengapa Memilih Lichen sebagai Pemasok Global Anda


Produsen poles ceria & alumina yang berdedikasi

  • Rantai pasokan bahan baku tanah jarang yang stabil
  • Kemampuan rekayasa partikel yang disesuaikan
  • Kontrol kualitas batch-ke-batch yang konsisten
  • Dukungan teknis untuk optimalisasi proses poles

Sorotan Produk

Bubuk Poles Serium Oksida Kemurnian Tinggi untuk Manufaktur Lensa Optik Presisi Tinjauan Produk Bubuk poles serium oksida kemurnian tinggi kami direkayasa untuk aplikasi penyelesaian optik presisi yang membutuhkan kualitas permukaan superior dan kontrol cacat. Dirancang untuk lini produksi optik ...

Produk terkait
Kualitas High Removal Rate Ceria Slurry for Optical Glass and Semiconductor Polishing Pabrik

High Removal Rate Ceria Slurry for Optical Glass and Semiconductor Polishing

High Removal Rate Ceria Slurry for Optical Glass and Semiconductor Polishing Product Overview High removal rate ceria slurry developed for fast and efficient polishing of optical glass and semiconductor substrates. Combines excellent material removal performance with stable surface quality to improve production efficiency and reduce processing time. Key Features High polishing efficiency and throughput Fast material removal capability Excellent process stability Reduced

Kualitas High Performance Ceria Slurry for Sapphire Wafer and Crystal Polishing Pabrik

High Performance Ceria Slurry for Sapphire Wafer and Crystal Polishing

High Performance Ceria Slurry for Sapphire Wafer and Crystal Polishing Product Overview Professional ceria slurry optimized for sapphire polishing applications in semiconductor and optical industries. Achieves high surface smoothness, stable polishing efficiency, and low subsurface damage for sapphire wafers, LED substrates, and optical crystals. Key Features Optimized for hard sapphire materials Excellent polishing efficiency and surface quality Low subsurface damage Stable

Kualitas Scratch Free Ceria Polishing Slurry for Precision Optical Components Pabrik

Scratch Free Ceria Polishing Slurry for Precision Optical Components

Scratch Free Ceria Polishing Slurry for Precision Optical Components Product Overview Scratch free ceria polishing slurry engineered for ultra-precision optical polishing applications. Provides excellent surface finish, minimized micro-scratches, and superior polishing consistency for optical lenses, prisms, and photonic components. Key Features Ultra-low scratch polishing performance High surface finish quality and clarity Narrow particle size distribution Excellent

Kualitas High Purity CMP Slurry For Silicon Wafer Planarization Pabrik

High Purity CMP Slurry For Silicon Wafer Planarization

High Purity CMP Slurry For Silicon Wafer Planarization Product Overview Advanced CMP slurry designed for silicon wafer polishing in semiconductor manufacturing. Delivers excellent surface planarization, low defectivity, stable removal rate, and superior wafer surface quality for IC, MEMS, and advanced electronic applications. Key Features High planarization efficiency for silicon wafers Excellent surface smoothness and low scratch performance Stable particle size distribution

Minta Kutipan

Silakan gunakan formulir kontak pertanyaan online kami di bawah ini jika Anda memiliki pertanyaan, tim kami akan menghubungi Anda sesegera mungkin.

Anda dapat mengunggah hingga 5 file dan setiap file ukuran 10M max.