پودر پولیش سریا با خلوص بالا برای تولید لنزهای نوری دقیق
جزئیات محصول
| خلوص: | 99.9٪ (درجه 4N) | پایان سطح قابل دستیابی است: | Ra ≤ 1 نانومتر |
|---|---|---|---|
| اندازه ذرات میانه: | 0.8 - 1.2 میکرومتر | pH (تهیه دوغاب): | 6.5 - 7.5 |
| ظاهر: | پودر ریز زرد روشن | سطح ناخالصی: | بسیار کم |
| برجسته کردن |
پودر پولیش سریا با خلوص بالا,پودر پولیش لنز نوری دقیق,ترکیب پولیش لنز خاکی کمیاب,precision optical lens polishing powder,rare earth lens polishing compound |
||
توضیحات محصول
پودر پولیش سریا با خلوص بالا برای تولید لنزهای اپتیکی دقیق
مرور کلی محصول
پودر پولیش اکسید سریم با خلوص بالا ما برای کاربردهای پرداخت اپتیکی دقیق که نیازمند کیفیت سطح برتر و کنترل عیوب هستند، مهندسی شده است. این ترکیب پولیش که برای خطوط تولید اپتیکی مدرن طراحی شده است، حذف سریع مواد را در حالی که به صافی سطح فوقالعادهای دست مییابد، ارائه میدهد.
این پودر که برای تولیدکنندگان اپتیک دوربین، سیستمهای لیزری و قطعات تصویربرداری با کارایی بالا ایدهآل است، عملکرد پولیش مداوم و کاهش آسیب زیرسطحی را تضمین میکند.
توزیع اندازه ذراتکاربردها
لنزهای اپتیکی دقیق
- اپتیک دوربین و تصویربرداری
- پولیش اپتیک لیزری
- قطعات فوتونیک
- دستگاههای اپتیکی پزشکی
- چرا لایکن را به عنوان تامین کننده جهانی خود انتخاب کنید
تولید کننده اختصاصی پولیش سریا و آلومینا
- زنجیره تامین پایدار مواد اولیه خاکی کمیاب
- قابلیت مهندسی ذرات سفارشی
- کنترل کیفیت مداوم بچ به بچ
- پشتیبانی فنی برای بهینهسازی فرآیند پولیش
نکات برجسته محصول
پودر پولیش سریا با خلوص بالا برای تولید لنزهای اپتیکی دقیق مرور کلی محصول پودر پولیش اکسید سریم با خلوص بالا ما برای کاربردهای پرداخت اپتیکی دقیق که نیازمند کیفیت سطح برتر و کنترل عیوب هستند، مهندسی شده است. این ترکیب پولیش که برای خطوط تولید اپتیکی مدرن طراحی شده است، حذف سریع مواد را در حالی که به ...
High Removal Rate Ceria Slurry for Optical Glass and Semiconductor Polishing
High Removal Rate Ceria Slurry for Optical Glass and Semiconductor Polishing Product Overview High removal rate ceria slurry developed for fast and efficient polishing of optical glass and semiconductor substrates. Combines excellent material removal performance with stable surface quality to improve production efficiency and reduce processing time. Key Features High polishing efficiency and throughput Fast material removal capability Excellent process stability Reduced
High Performance Ceria Slurry for Sapphire Wafer and Crystal Polishing
High Performance Ceria Slurry for Sapphire Wafer and Crystal Polishing Product Overview Professional ceria slurry optimized for sapphire polishing applications in semiconductor and optical industries. Achieves high surface smoothness, stable polishing efficiency, and low subsurface damage for sapphire wafers, LED substrates, and optical crystals. Key Features Optimized for hard sapphire materials Excellent polishing efficiency and surface quality Low subsurface damage Stable
Scratch Free Ceria Polishing Slurry for Precision Optical Components
Scratch Free Ceria Polishing Slurry for Precision Optical Components Product Overview Scratch free ceria polishing slurry engineered for ultra-precision optical polishing applications. Provides excellent surface finish, minimized micro-scratches, and superior polishing consistency for optical lenses, prisms, and photonic components. Key Features Ultra-low scratch polishing performance High surface finish quality and clarity Narrow particle size distribution Excellent
High Purity CMP Slurry For Silicon Wafer Planarization
High Purity CMP Slurry For Silicon Wafer Planarization Product Overview Advanced CMP slurry designed for silicon wafer polishing in semiconductor manufacturing. Delivers excellent surface planarization, low defectivity, stable removal rate, and superior wafer surface quality for IC, MEMS, and advanced electronic applications. Key Features High planarization efficiency for silicon wafers Excellent surface smoothness and low scratch performance Stable particle size distribution
لطفا از فرم تماس آنلاین در زیر استفاده کنید اگر سوالی دارید، تیم ما در اسرع وقت با شما تماس خواهد گرفت.
