OEM CMP lucidatura ossido di cerio scorie abrasivo per laser ottica semiconduttore
Dettagli del prodotto
| Dimensione delle particelle D50 (μm): | 0,6-0,8 µm | CAS NO.: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CeO₂%: | 73~78% | sospensione: | Eccellente |
| Intervallo di pH: | 7-10 | Formulazione: | Personalizzato |
| Evidenziare |
abrasivo a base di scorie di ossido di cerio,Impasto di ossido di cerio CMP,Fabbricazione a partire da semi-conduttori di cerio |
||
Descrizione di prodotto
Slurry di lucidatura personalizzato per l'ottica laser
Descrizione
Ottenete superfici ottiche impeccabili e privi di difetti con i nostri avanzati e personalizzati liquami di lucidatura a base di cerio, progettati appositamente per i requisiti di ottica laser ad alte prestazioni.
Le nostre formulazioni utilizzano ossido di cerio di alta purezza (CeO2) come abrasivo primario, sfruttando le sue proprietà uniche di lucidatura chimica-meccanica (CMP) per fornire finiture superficiali eccezionali,aumento della produttività, e minimizzare i danni sotterranei.
Principali vantaggi
Finiture:Raggiungere costantemente una rugosità superficiale a livello di angstrom è fondamentale per ridurre al minimo la dispersione della luce e massimizzare le prestazioni nei sistemi laser ad alta potenza.
Ottimizzato per materiali laser:Le formulazioni sono specificamente progettate per una vasta gamma di substrati ottici.
Rimozione rapida del materiale:Progettato per alti tassi di rimozione, aumentando significativamente il rendimento della lucidatura e riducendo i tempi di lavorazione senza compromettere la qualità della superficie.
Alta stabilità e facile utilizzo:I nostri liquami hanno caratteristiche di sospensione superiori, garantendo una dispersione uniforme delle particelle, un minimo di sedimentazione e una facile pulizia con acqua dopo l'uso.
Formulazioni personalizzate:Collaboriamo a stretto contatto con il tuo team per sviluppare una soluzione su misura che corrisponda con precisione ai tuoi requisiti specifici di applicazione, materiali di pad e tipo di attrezzatura.
Dati tecnici
| Formula molecolare | Numero CAS. | CeO2 % | D50 (μm) | Apparizione | Applicazione |
| CeO2 | 1306-38-3 | 73~78% | 0.6-0.8 | Fabbricazione a partire da: | Ottica |
Distribuzione della dimensione delle particelle
Domande e risposte
1Fornisce formulazioni personalizzate di Polishing Slurry?
Sì, offriamo polveri di lucidatura e liquami su misura per soddisfare requisiti specifici di prestazioni.,Possiamo creare una formulazione che si adatti meglio alle vostre esigenze.
2Posso avere un campione prima di fare un ordine in massa?
Sì, forniamo campioni della nostra polvere di lucidatura di ossido di cerio e liquame per la valutazione.
3Come posso effettuare un ordine? Qual è il tempo di consegna tipico per lo slurry di lucidaturaprodotti?
Puoi effettuare un ordine contattando il nostro team di vendita, che ti guiderà attraverso il processo, ti aiuterà nella selezione del prodotto e ti fornirà un preventivo in base alle tue esigenze. Le ore di consegna dipendono dalla dimensione dell'ordine, dalla posizione e dalla disponibilità del prodotto.
Caratteristiche del prodotto
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