CMP Cerium Polish Powder Ossido di cerio per lucidare vetro Wafer di silicio
Dettagli del prodotto
| Dimensione delle particelle: | 1,5±0,2μm | CAS NO.: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CeO2: | 99% | Tasso di sospensione: | Alto |
| Intervallo di pH: | 7-10 | Formulazione: | Personalizzato |
| Evidenziare |
Polsante al cerio Polvere,Poliestere al cerio per wafer di silicio,Ossido di cerio CMP per lucidare il vetro |
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Descrizione di prodotto
Polvere di lucidatura per wafer di silicio CMP
Descrizione
Raggiungere la pianalità estrema richiesta per i nodi dei semiconduttori con le nostre polveri di lucidatura avanzate di ossido di cerio (CeO2) appositamente progettate per la pianalizzazione meccanica chimica (CMP),le nostre polveri sono progettate per la produzione in grande volume di wafer di silicio, fornendo la fluidità a livello atomico essenziale per l'architettura logica sub-7nm e la memoria NAND 3D.
Le nostre formulazioni utilizzano una morfologia delle particelle controllata con precisione per massimizzare la sinergia chimico-meccanica, garantendo alti tassi di rimozione del materiale (MRR) riducendo al minimo la difettosità superficiale.
Indicatori di performance
Planarità: progettata per ottenere valori di rugosità superficiale inferiori a 0,2 nm, fornendo una base perfettamente piana per la deposizione di film sottile a più strati.
Controllo di elevata selettività: ottimizzato per l'isolamento in fossa superficiale (STI), offrendo una selettività superiore tra anidride silicica per prevenire la dilatazione e l'erosione delle caratteristiche critiche del dispositivo.
Riduzione dei nano-difetti: attraverso una classificazione avanzata in più fasi, assicuriamo una distribuzione delle dimensioni delle particelle monodisperse che elimina praticamente micro graffi e buchi.
Alta efficienza di rimozione delle scorte: le nostre polveri presentano superfici di ceria ad alta attività che accelerano la formazione del legame chimico, aumentando il throughput nelle fabbriche di wafer da 300 mm.
Alta purezza (>99%): raffinata per soddisfare i severi standard delle sale pulite, evitando la contaminazione da tracce di metalli che possono degradare le prestazioni elettriche e l'integrità dell'ossido di cancello.
Dati tecnici
| Formula molecolare | Numero CAS. | CeO2 % | D50 (μm) | Apparizione | Applicazione |
| CeO2 | 1306-38-3 | 99% | 1.5±0.2 | Polvere bianca | Wafer di silicio |
Domande e risposte
1Cos'è la polvere di lucidatura delle terre rare?
La polvere di lucidatura delle terre rare è un composto di alta purezza usato per lucidare componenti ottici, wafer semiconduttori e superfici delicate come vetro e lenti.finitura di alta lucidità senza danneggiare il materiale.
2Come scegliere la polvere di lucidatura per terre rare adatta alla mia applicazione?
Per scegliere la polvere di lucidatura ideale, considera fattori quali il materiale che stai lucidando, la finitura richiesta e specifiche come le dimensioni e la purezza delle particelle.Il nostro team di vendita è disponibile per aiutarvi a scegliere il prodotto perfetto per le vostre esigenze.
3Come stoccare la polvere di lucidatura delle terre rare?
Conservare in un luogo fresco e asciutto, lontano dall' umidità e dalla luce solare diretta.in genere dura 1-2 anni.
4Fornisce formulazioni di terre rare su misura?
Sì, offriamo polveri di lucidatura e liquami di terre rare personalizzati, su misura per soddisfare le vostre esigenze specifiche, incluse le modifiche alle dimensioni delle particelle, alla composizione chimica o alla consistenza dello liquamo.
5Posso avere un campione prima di fare un ordine in massa?
Assolutamente! Forniamo campioni per la valutazione. Contattate il nostro team per richiedere un campione, e organizzeremo la spedizione.
6Come posso effettuare un ordine?
Per effettuare un ordine, basta contattare il nostro team di vendita, che vi guiderà attraverso il processo e vi fornirà un preventivo.E vi daremo un programma stimato una volta confermato l'ordine..
Caratteristiche del prodotto
Polvere di lucidatura per wafer di silicio CMP Descrizione Raggiungere la pianalità estrema richiesta per i nodi dei semiconduttori con le nostre polveri di lucidatura avanzate di ossido di cerio (CeO2) appositamente progettate per la pianalizzazione meccanica chimica (CMP),le nostre polveri sono ...
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