CMP سیریوم پولش پودر سیریوم اکسید برای شیشه پولیش سیلیکون وافر
جزئیات محصول
| اندازه ذرات: | 0.2±1.5 میکرومتر | Cas no.: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| مدیرعامل: | 99% | نرخ تعلیق: | بالا |
| محدوده Ph: | 7-10 | فرمولاسیون: | سفارشی |
| برجسته کردن |
پولیش سیریوم پودر,پولیش سیریوم سیلیکون وفر,CMP cerium oxide برای پولیش شیشه,Silicon Wafer cerium polish,CMP cerium oxide for glass polishing |
||
توضیحات محصول
پودر پولیش برای سیلیکون وافر CMP
توضیحات
به طور خاص برای طرح ریزی مکانیکی شیمیایی (CMP) طراحی شده،پودرهای ما برای تولید حجم بالا از وافرهای سیلیکونی طراحی شده اند، ارائه نرم بودن سطح اتمی ضروری برای منطق زیر 7nm و معماری حافظه 3D NAND.
فرمول های ما از مورفولوژی ذرات دقیق کنترل شده استفاده می کنند تا همبستگی شیمیایی مکانیکی را به حداکثر برسانند و نرخ حذف مواد بالا (MRR) را در حالی که نقص سطح را به حداقل می رسانند ، تضمین کنند.
معیارهای عملکرد
مسطحیت: طراحی شده برای دستیابی به مقادیر خشکی سطح کمتر از 0.2 نانومتر، فراهم کردن یک پایه کاملا صاف برای رسوب چند لایه فیلم نازک.
کنترل انتخابی بالا: برای انزوا خندق کم عمق (STI) بهینه شده است و انتخابی برتر بین دی اکسید سیلیکون را برای جلوگیری از تخریب و فرسایش ویژگی های مهم دستگاه ارائه می دهد.
کاهش نقص های نانو: از طریق طبقه بندی پیشرفته چند مرحله ای، ما توزیع اندازه ذرات تک پراکنده را تضمین می کنیم که تقریباً خراش های کوچک و حفره ها را از بین می برد.
بهره وری بالا از حذف سهام: پودرهای ما دارای سطوح سریا با فعالیت بالا هستند که تشکیل پیوند شیمیایی را تسریع می کنند و تولید در کارخانه های وفر 300 میلی متری را افزایش می دهند.
خلوص بالا (> 99٪): تصفیه شده است تا با استانداردهای سختگیرانه اتاق پاک مطابقت داشته باشد، جلوگیری از آلودگی فلزات ردیابی که می تواند عملکرد الکتریکی و یکپارچگی اکسید دروازه را کاهش دهد.
داده های فنی
| فرمول مولکولی | شماره CAS | % CeO2 | D50 (μm) | ظاهر | درخواست |
| CeO2 | 1306-38-3 | 99 درصد | 1.5±0.2 | پودر سفید | سیلیکون وفر |
پرسش و پاسخ
1. پودر پاک کننده زمین های نادر چیست؟
پودر پاک کننده زمین های نادر یک ترکیب خالص است که برای پاک کردن اجزای نوری، وافرهای نیمه هادی و سطوح ظریف مانند شیشه و لنز استفاده می شود.یک پایان شفاف بدون آسیب رساندن به ماده.
2چگونه می توانم پودر پاک کننده زمین های نادر مناسب را برای کاربرد خود انتخاب کنم؟
برای انتخاب پودر پولیش ایده آل، عوامل مانند ماده ای که پولیش می کنید، پایان مورد نیاز و مشخصات مانند اندازه ذرات و خلوص را در نظر بگیرید.تیم فروش ما در دسترس است تا به شما در انتخاب محصول مناسب برای نیازهای شما کمک کند.
3چطور بايد پودر پاک کننده زمين نادر رو نگه دارم؟
پودر را در یک مکان خنک و خشک، دور از رطوبت و نور مستقیم خورشید نگه دارید.معمولاً 1-2 سال طول می کشد..
4آیا شما فرموله های زمین های نادر سفارشی را ارائه می دهید؟
بله، ما پودر ها و خمیرهای پولیشینگ زمین های نادر سفارشی را ارائه می دهیم، که متناسب با نیازهای خاص شما، از جمله تنظیم اندازه ذرات، ترکیب شیمیایی یا ثبات خمیر است.
5ميشه قبل از سفارش دادن يه نمونه بگيرم؟
مطمئناً ما نمونه ها رو براي ارزیابی فراهم ميکنيم تماس با تيم ما براي درخواست نمونه و ما حمل و نقل رو ترتيب ميديم
6چطور می توانم سفارش بدهم؟ زمان تحویل معمول چقدر است؟
برای سفارش دادن، به سادگی با تیم فروش ما تماس بگیرید، که شما را در طول فرآیند راهنمایی می کند و یک پیشنهاد ارائه می دهد. زمان تحویل بر اساس اندازه سفارش، مکان و در دسترس بودن سهام متفاوت است،و بعد از تایید سفارش به شما یک برنامه ی پیش بینی می دهیم.
نکات برجسته محصول
پودر پولیش برای سیلیکون وافر CMP توضیحات به طور خاص برای طرح ریزی مکانیکی شیمیایی (CMP) طراحی شده،پودرهای ما برای تولید حجم بالا از وافرهای سیلیکونی طراحی شده اند، ارائه نرم بودن سطح اتمی ضروری برای منطق زیر 7nm و معماری حافظه 3D NAND. فرمول های ما از مورفولوژی ذرات دقیق کنترل شده استفاده می کنند تا ...
مسحوق تلميع السيريوم بدرجة CMP للبصريات ذات الواقع المعزز، ومصفوفات العدسات الدقيقة، وأجهزة الاستشعار البصرية القابلة للارتداء
CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics
پودر پولیش اکسید سریا فوق ریز برای پرداخت شیشه پوشش دستگاههای پوشیدنی هوشمند و میکرو اپتیک
Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in
پودر پولیش آکسید سیریم با خلوص بالا برای تولید شیشه های هدایت موج AR و لنز های نوری
High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and
پودر Cerium Oxalate عناصر واکنش دهنده شیمیایی
Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically
لطفا از فرم تماس آنلاین در زیر استفاده کنید اگر سوالی دارید، تیم ما در اسرع وقت با شما تماس خواهد گرفت.
