Polvo de polvo de cerio CMP Óxido de cerio para el pulido de vidrio Wafer de silicio
Detalles del producto
| Tamaño de partícula: | 1,5 ± 0,2 μm | NÚMERO DE CAS: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CeO₂: | 99% | Tasa de suspensión: | Alto |
| Rango de pH: | 7-10 | Formulación: | Personalizado |
| Resaltar |
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Descripción de producto
Polvo de pulido para obleas de silicio CMP
Descripción
Lograr la planitud extrema requerida para los nodos de semiconductores con nuestros polvos de pulido avanzados de óxido de cerio (CeO2) diseñados específicamente para la planarización química mecánica (CMP),Nuestros polvos están diseñados para la fabricación en gran volumen de obleas de silicio, proporcionando la suavidad a nivel atómico esencial para la lógica sub-7nm y las arquitecturas de memoria NAND 3D.
Nuestras formulaciones utilizan una morfología de partículas controlada con precisión para maximizar la sinergia química-mecánica, asegurando altas tasas de eliminación de material (MRR) al tiempo que minimizan la defectividad de la superficie.
Indicadores de rendimiento
Planitud: Diseñado para alcanzar valores de rugosidad superficial inferiores a 0,2 nm, proporcionando una base perfectamente plana para deposición de película delgada de múltiples capas.
Control de alta selectividad: optimizado para aislamiento de zanjas poco profundas (STI), ofreciendo una selectividad superior entre el dióxido de silicio para evitar la erosión y la erosión de las características críticas del dispositivo.
Reducción de nano-defectos: A través de una clasificación avanzada de múltiples etapas, aseguramos una distribución de tamaño de partícula monodispersa que virtualmente elimina micro-rasguños y hoyos.
Alta eficiencia de eliminación de stock: Nuestros polvos cuentan con superficies de ceria de alta actividad que aceleran la formación del enlace químico, aumentando el rendimiento en fábricas de obleas de 300 mm.
Alta pureza (>99%): Refinado para cumplir con los estrictos estándares de sala limpia, evitando la contaminación de metales traza que pueden degradar el rendimiento eléctrico y la integridad del óxido de puerta.
Datos técnicos
| Fórmula molecular | No CAS. | CeO2 en % | D50 (μm) | Apariencia | Aplicación |
| El CeO2 | - ¿Por qué no? | El 99% | 1.5 ± 0.2 | Polvo blanco | Wafer de silicio |
Pregunta y respuesta
1¿Qué es polvo de pulido de tierras raras?
El polvo de pulir tierras raras es un compuesto de alta pureza utilizado para pulir componentes ópticos, obleas semiconductoras y superficies delicadas como vidrio y lentes.acabado de alta claridad sin dañar el material.
2¿Cómo puedo elegir el polvo de pulido de tierras raras adecuado para mi aplicación?
Para seleccionar el polvo de pulido ideal, considere factores como el material que está puliendo, el acabado requerido y especificaciones como el tamaño y la pureza de las partículas.Nuestro equipo de ventas está disponible para ayudarle a elegir el producto perfecto para sus necesidades.
3¿Cómo debo almacenar polvo de pulir de tierras raras?
Conservar en un lugar fresco y seco, lejos de la humedad y la luz solar directa.suele durar 1-2 años.
4¿Proporciona formulaciones personalizadas de tierras raras?
Sí, ofrecemos polvos y suspensiones de tierra rara personalizadas, adaptadas a sus necesidades específicas, incluyendo ajustes en el tamaño de las partículas, la composición química o la consistencia de la suspensión.
5¿Puedo obtener una muestra antes de hacer un pedido a granel?
Por supuesto, proporcionamos muestras para su evaluación, póngase en contacto con nuestro equipo para solicitar una muestra, y organizaremos el envío.
6¿Cómo puedo hacer un pedido? ¿Cuál es el tiempo de entrega típico?
Para hacer un pedido, simplemente póngase en contacto con nuestro equipo de ventas, que le guiará a través del proceso y le proporcionará una cotización.Y le daremos un calendario estimado una vez que el pedido sea confirmado..
Lo más destacado del producto
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