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반도체 및 실리콘 웨이퍼 롤링용 스크래치 무료 Ceria CMP 슬러리 제품 개요 스크래치-프리 세리움 산화물 CMP 슬러리는 반도체 웨이퍼 및 고도의 기판 닦기 위해 특별히 구성이되어 있으며 결함 제어 및 초 부드러운 표면이 중요합니다.기술된 나노 규모의 세리아 입자는 안정적인 제거 효율을 유지하면서 우수한 결함 감소를 제공합니다.. 실리콘 웨이퍼 마무리 및 정밀 반도체 제조 프로세스에 이상적입니다. 주요 특징 초저한 스크래치 및 결함 발생 높은 평면화 효율성 우수한 웨이퍼 표면 균일성 미세한 스크래치와 구멍을 줄입니다. 저 입자 ...

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고 제거율 세리움 산화물 CMP 광학 유리 및 광학 부품용 슬러리 제품 개요 높은 제거율 세리움 산화물 CMP 슬러리는 제어 된 표면 품질과 함께 빠른 물질 제거를 필요로하는 광학 유리 및 광학적 구성 요소의 정밀 닦을 수 있도록 설계되었습니다.최적화된 입자 형태는 우수한 표면 무결성과 공정 안정성을 유지하면서 효율적인 평면화를 가능하게합니다.. 첨단 광학 제조를 위해 설계된 이 매체는 렌즈, 프리즘, 레이저 광학 및 광학 기판의 고출력 생산을 지원합니다. 주요 특징 생산성 향상을 위한 높은 물질 제거율 탁월한 표면 부드러움과 낮은 ...

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반도체 및 정밀 광학 가공용 초미세 세리움 산화물 닦기 분말 제품 개요 첨단 반도체 및 초정밀 광학 가공을 위해 설계된 이 초미세 세리아 닦기 파우더는 탁월한 표면 평면화와 결함 최소화를 제공합니다.최적화된 입자 공학은 고정도 광학 및 웨이퍼 처리 환경에서 차세대 닦기 요구 사항을 지원합니다.. 고급 반도체, 항공 우주 광학 및 측정 응용 분야에 적합합니다. 입자 크기 분포의정 신청서 반도체 웨이퍼 롤링 실리콘 웨이퍼 가공 고정밀성 거울 항공우주 광학 측정 및 검사 광학 왜 리첸을 전 세계 공급업체로 선택합니까? 전용 세리아 및 알...

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자동차 페인트 및 해양 젤 코트 최종 마무리 제품 개요 섬세한 알루미나 닦기 분말은 뛰어난 광택과 매끄러움을 필요로 하는 자동차 코팅 및 해상 젤 코트 표면의 최종 단계 닦기 위해 개발됩니다.미세 한 입자 분포 는 표면 결함 을 최소화 하면서 균일 한 거울 같은 완성 을 만들어 낸다. 프리미엄 가공 화합물과 고급 가공 시스템에 이상적입니다. 주요 특징 초미세한 표면 가공 능력 고 광택 발달 최소 미세 긁힘 우수한 매일 안정성 정밀 마감 단계에 적합합니다. 자동 롤링 장비와 호환성 입자 크기 분포의정 신청 사항 자동차용 애플리케이션 ...

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자동차 페인트 수정 및 선명한 코트 마무리용 프리미엄 알루미나 롤링 파우더 제품 개요 프리미엄급 알루미나 닦기 파우더는 선명한 코트, 베이스 코트 및 보호 래크 층을 포함한 자동차 페인트 시스템의 정밀 마무리 작업을 위해 설계되었습니다.제어 된 가시 작용은 코팅 무결성과 표면 균일성을 유지하면서 효율적인 결함 제거를 가능하게합니다.. 이 제품은 자동차 OEM 마무리 라인, 세부 화합물 및 높은 광택과 표면 완벽성이 필요한 전문 재가공 응용 프로그램에서 널리 사용됩니다. 주요 특징 제어된 가열과 함께 높은 절단 효율성 우수한 선명한 ...

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