Hızlı optik bileşenler için sıyrıksız Ceria cilalama çamurları
Ürün Ayrıntıları
| Aşındırıcı malzeme: | yüksek saflıkta seryum oksit | Parçacık Boyutu (D50): | 0,2 – 0,8 mikron |
|---|---|---|---|
| katı içerik: | ağırlıkça %10 – 30 | PH: | 6,0 – 8,5 |
| Dış görünüş: | Beyaz Bulamaç | Yüzey İşlemi: | Ultra Hassas |
| Vurgulamak |
Çiziksiz nadir toprak cilalama çamurları,Optik bileşenler için serya hamuru,Hızlı optik cilalama çamurları |
||
Ürün Tanımı
Hızlı optik bileşenler için sıyrıksız Ceria cilalama çamurları
Ürün Genel Görünümü
Çok hassas optik cilalama uygulamaları için tasarlanmış sıyrıksız ceria cilalama kalıbı mükemmel bir yüzey finişi sağlar, mikro sıyrıkları en aza indirir,ve optik lensler için üstün cilalama tutarlılığı, prizmalar ve fotonik bileşenler.
Temel Özellikler
- Ultra düşük çizim cilalama performansı
- Yüksek yüzey finiş kalitesi ve berraklığı
- Dar parçacık boyutu dağılımı
- Mükemmel süspansiyon istikrarı
- Hassas optik malzemeler için uygundur
Parçacık Boyutu Dağıtımİlişki
Başvurular
- Kesin optik lens cilalama
- Kamera lensleri üretimi
- Fotonik bileşenlerin cilalanması
- Lazer optik bitirme
- Prizma ve ayna cilalama
- Cam ve kuvars cilalama
Neden Lichen'i Dünya Çapındaki Tedarikçiniz Olarak Seçin?
- Özel ceria ve alümina cilalama üreticisi
- Dayanıklı nadir toprak hammadde tedarik zinciri
- Özel parçacık mühendisliği yeteneği
- Seriye seri tutarlı kalite kontrolü
- Polişleme sürecini optimize etmek için teknik destek
Ürün Özellikleri
Hızlı optik bileşenler için sıyrıksız Ceria cilalama çamurları Ürün Genel Görünümü Çok hassas optik cilalama uygulamaları için tasarlanmış sıyrıksız ceria cilalama kalıbı mükemmel bir yüzey finişi sağlar, mikro sıyrıkları en aza indirir,ve optik lensler için üstün cilalama tutarlılığı, prizmalar ve ...
Scratch-Free Ceria CMP Slurry for Semiconductor & Silicon Wafer Polishing
Scratch-Free Ceria CMP Slurry for Semiconductor & Silicon Wafer Polishing Product Overview Scratch-Free Cerium Oxide CMP Slurry is specially formulated for semiconductor wafer and advanced substrate polishing where defect control and ultra-smooth surfaces are critical. The engineered nano-scale ceria particles provide superior defect reduction while maintaining stable removal efficiency. Ideal for silicon wafer finishing and precision semiconductor fabrication processes. Key
Ultra-Precision Cerium Oxide Slurry for Laser Crystals & Advanced Optical Materials
Ultra-Precision Cerium Oxide Slurry for Laser Crystals & Advanced Optical Materials Product Overview Ultra-Precision Cerium Oxide Slurry is developed for final polishing of high-value optical and laser materials requiring high-level surface quality. The controlled particle distribution enables superior surface finish while preserving material integrity. Optimized for polishing hard and brittle materials used in laser, photonics, and high-performance optical systems. Key
High Removal Rate Cerium Oxide CMP Slurry for Optical Glass & Photonics Components
High Removal Rate Cerium Oxide CMP Slurry for Optical Glass & Photonics Components Product Overview High Removal Rate Cerium Oxide CMP Slurry is engineered for precision polishing of optical glass and photonic components requiring fast material removal with controlled surface quality. The optimized particle morphology enables efficient planarization while maintaining excellent surface integrity and process stability. Designed for advanced optical manufacturing, this slurry
Optik cam ve yarı iletken cilalama için yüksek çıkarma oranı Ceria çamur
High Removal Rate Ceria Slurry for Optical Glass and Semiconductor Polishing Product Overview High removal rate ceria slurry developed for fast and efficient polishing of optical glass and semiconductor substrates. Combines excellent material removal performance with stable surface quality to improve production efficiency and reduce processing time. Key Features High polishing efficiency and throughput Fast material removal capability Excellent process stability Reduced
Herhangi bir sorunuz varsa lütfen aşağıdaki çevrimiçi talep iletişim formumuzu kullanın, ekibimiz en kısa sürede size geri dönüş yapacaktır.
