Poudre de polissage de Ceria de qualité CMP pour la fabrication de verre optique et de photonique
Détails de produit
| Pureté: | 99,5 – 99,9 % | Distribution de dimension particulaire: | PSD étroit |
|---|---|---|---|
| Taille médiane des particules: | 0,5 – 0,9 μm | pH (préparation du lisier): | 6,5 – 7,5 |
| Stabilité de la sédimentation: | Excellent | Niveau d'impureté: | très réduit |
| Mettre en évidence |
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Description de produit
Poudre de polissage de Ceria de qualité CMP pour la fabrication de verre optique et de photonique
Vue d'ensemble du produit
Cette poudre de polissage de ceria de qualité CMP est optimisée pour les procédés de polissage chimique-mécanique utilisés dans la fabrication d'optiques et de photonique avancées.L'activité chimique équilibrée et l'action mécanique permettent un excellent contrôle des rayures et un polissage uniforme sur de grands substrats.
Développé pour les systèmes de polissage automatisés largement utilisés dans les usines de fabrication optique américaines.
Distribution de la taille des particulesLe gouvernement

Applications
- Substrats de verre optique
- Plaquettes photoniques
- connecteurs à fibre optique
- Composants optiques infrarouges
- Éléments optiques AR/VR
Pourquoi choisir Lichen comme fournisseur mondial
- Fabricant dédié au polissage de céramique et d'alumine
- Chaîne d'approvisionnement stable en matières premières de terres rares
- Capacité personnalisée de génie des particules
- Contrôle de qualité cohérent par lot
- Assistance technique pour l'optimisation du processus de polissage
Points forts du produit
Poudre de polissage de Ceria de qualité CMP pour la fabrication de verre optique et de photonique Vue d'ensemble du produit Cette poudre de polissage de ceria de qualité CMP est optimisée pour les procédés de polissage chimique-mécanique utilisés dans la fabrication d'optiques et de photonique avanc...
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