光学ガラスおよびフォトニクス製造用CMPグレード酸化セリウム研磨剤
製品詳細
| 純度: | 99.5 – 99.9% | 粒度分布: | 狭い PSD |
|---|---|---|---|
| 中央粒子径: | 0.5～0.9μm | pH（スラリー調製）: | 6.5 – 7.5 |
| 沈降安定性: | 素晴らしい | 不純物レベル: | 超低い |
| ハイライト |
光学ガラス用酸化セリウム研磨剤,フォトニクス用稀土の磨き粉,保証付きCMPグレード酸化セリウム粉末 |
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製品の説明
光学ガラスおよびフォトニクス製造用CMPグレードセリウム研磨粉末
製品概要
このCMPグレードのセリウム研磨粉末は、高度な光学およびフォトニクス製造で使用される化学機械研磨プロセスに最適化されています。化学的活性と機械的作用のバランスにより、優れた傷制御と大基板全体での均一な研磨が可能になります。
米国光学製造施設で広く使用されている自動研磨システム向けに開発されました。
粒子サイズ分布用途
光学ガラス基板
- フォトニックウェーハ
- 光ファイバーコネクタ
- 赤外線光学部品
- AR/VR光学素子
- Lichenをグローバルサプライヤーとして選ぶ理由
セリウムおよびアルミナ研磨剤専門メーカー
- 安定した希土類原料サプライチェーン
- カスタマイズ可能な粒子エンジニアリング能力
- ロット間の安定した品質管理
- 研磨プロセス最適化のためのテクニカルサポート
製品 ハイライト
光学ガラスおよびフォトニクス製造用CMPグレードセリウム研磨粉末 製品概要 このCMPグレードのセリウム研磨粉末は、高度な光学およびフォトニクス製造で使用される化学機械研磨プロセスに最適化されています。化学的活性と機械的作用のバランスにより、優れた傷制御と大基板全体での均一な研磨が可能になります。 米国光学製造施設で広く使用されている自動研磨システム向けに開発されました。 粒子サイズ分布用途 光学ガラス基板 フォトニックウェーハ 光ファイバーコネクタ 赤外線光学部品 AR/VR光学素子 Lichenをグローバルサプライヤーとして選ぶ理由 セリウムおよびアルミナ研磨剤専門メーカー 安定した希土類...
ウェハー＆先端基板用半導体グレード酸化セリウム研磨粉
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