Ceria Polishing Powder der CMP-Klasse für die Herstellung von optischem Glas und Photonik
Produktdetails
| Reinheit: | 99,5 – 99,9 % | Teilchengröße-Verteilung: | Schmales PSD |
|---|---|---|---|
| Mittlere Partikelgröße: | 0,5 – 0,9 μm | pH-Wert (Aufschlämmungszubereitung): | 6,5 – 7,5 |
| Sedimentationsstabilität: | Exzellent | Verunreinigungsstufe: | ultra-niedrig |
| Hervorheben |
Ceria-Polierpulver für optisches Glas,Seltenerd-Poliermittel für Photonik,CMP-Ceria-Pulver mit Garantie |
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Produkt-Beschreibung
CMP-Qualitäts-Ceroxid-Polierpulver für die Herstellung von optischem Glas und Photonik
Produktübersicht
Dieses Ceroxid-Polierpulver in CMP-Qualität ist für chemisch-mechanische Polierprozesse optimiert, die in der fortschrittlichen optischen und photonischen Fertigung eingesetzt werden. Die ausgewogene chemische Aktivität und mechanische Wirkung ermöglichen eine ausgezeichnete Kratzerkontrolle und ein gleichmäßiges Polieren über große Substrate.
Entwickelt für automatisierte Poliersysteme, die in US-amerikanischen optischen Fertigungsanlagen weit verbreitet sind.
PartikelgrößenverteilungAnwendungen
Optische Glassubstrate
- Photonische Wafer
- Glasfasersteckverbinder
- Infrarot-Optikkomponenten
- AR/VR optische Elemente
- Warum Lichen als Ihr globaler Lieferant wählen
Spezialisierter Hersteller von Ceroxid- und Aluminiumoxid-Polierpulvern
- Stabile Lieferkette für Seltene Erden Rohstoffe
- Fähigkeit zur kundenspezifischen Partikelentwicklung
- Konsistente Chargen-zu-Charge Qualitätskontrolle
- Technische Unterstützung für die Optimierung von Polierprozessen
Produkt-Highlights
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