28 Results For

"cmp slurry"

Ποιότητα Οξείδιο του κερίου οξείδιο του κερίου οξείδιο του κερίου οξείδιο του κερίου Εργοστάσιο

Οξείδιο του κερίου οξείδιο του κερίου οξείδιο του κερίου οξείδιο του κερίου

Σκουλήθρα οξειδίου του κερίου για υποστρώματα γυαλιού ημιαγωγών Περιγραφέςσε Το Lichen Cerium Oxide Slurry for Semiconductor Glass Substrates είναι ένα καθαρό υδατικό λιπαντικό λιπαντικό που έχει συνταχθεί ειδικά για εφαρμογές σε γυαλί ημιαγωγών.Αυτή η λάσπη παρέχει εξαιρετικά ποσοστά αφαίρεσης υλικ...

Ποιότητα CMP Cerium Polish Powder Οξείδιο του κερίου για γυαλί Εργοστάσιο

CMP Cerium Polish Powder Οξείδιο του κερίου για γυαλί

Χονδρική σκόνη για κυψέλες πυριτίου CMP Περιγραφή Επιτύχουμε την ακραία επίπεδη φύση που απαιτείται για τους ημιαγωγούς κόμβους με τις προηγμένες μας σκόνες γυαλισμού με οξείδιο του κερίου (CeO2).Οι σκόνες μας είναι σχεδιασμένες για την κατασκευή μεγάλου όγκου πλακιδίων πυριτίου, παρέχοντας την ατομ...

Ποιότητα CMP Cerium Oxide Polishing Powder για ημιαγωγικές γυάλινες πλάκες Εργοστάσιο

CMP Cerium Oxide Polishing Powder για ημιαγωγικές γυάλινες πλάκες

Σκόνη γυάλωσης οξειδίου του κερίου για ημιαγωγικές πλάκες Περιγραφέςσε Η σκόνη γυαλιστερότητας οξειδίου του κεριού του λυχνίου για πλακίδια ημιαγωγών είναι μια υψηλής καθαρότητας, ακριβής μηχανικής αθρίσματος που έχει σχεδιαστεί για τις διαδικασίες τελικής επεξεργασίας επιφάνειας πλακιδίων και ομαλο...

Ποιότητα Υψηλής απόδοσης οξείδιο του κερίου λιπαντικό για τοποθέτηση επιφάνειας οθόνης Cas 1306-38-3 Εργοστάσιο

Υψηλής απόδοσης οξείδιο του κερίου λιπαντικό για τοποθέτηση επιφάνειας οθόνης Cas 1306-38-3

Υψηλής απόδοσης λασμός κερίου για την επιφάνεια οθόνης Περιγραφή Επιτύχετε ασυμβίβαστη οπτική σαφήνεια με τα υλικά μας, ειδικά σχεδιασμένα για την αγορά οθονών.Οι λιπαρές ύλες μας παρέχουν την επίπεδη επιφάνεια σε επίπεδο νανομέτρου και τις επιφάνειες χωρίς ελαττώματα που είναι απαραίτητες για LCD υ...

Ποιότητα Σιλικόνιο Wafer γυαλί σπάνιες γης γυαλιστερό λάσπη Χημική Μηχανολογική επίπεδωση CeO2 Εργοστάσιο

Σιλικόνιο Wafer γυαλί σπάνιες γης γυαλιστερό λάσπη Χημική Μηχανολογική επίπεδωση CeO2

Σκουπίδια γυαλισμού για γυαλισμό κυψελών πυριτίου Περιγραφή Επιτύχετε επίπεδη επίπεδα ατόμων και ανώτερη ακεραιότητα της επιφάνειας με την σειρά μας Cerium Oxide (CeO2) Polishing Slurries.Ειδικά σχεδιασμένα για τη χημική μηχανική επίπεδωση (CMP) στην προηγμένη κατασκευή ημιαγωγών, οι λιπαρές ύλες μα...

Ποιότητα Χημική Μηχανική Λούστρωση Οξειδίου Κέριου Σκουπίδας Γυαλί για Οπτικές ίνες Εργοστάσιο

Χημική Μηχανική Λούστρωση Οξειδίου Κέριου Σκουπίδας Γυαλί για Οπτικές ίνες

Σκουπίδια για την κατασκευή οπτικών ινών Περιγραφή Οι λιπαντικές λιπαρές ύλες με βάση το κερίου είναι βιομηχανικό πρότυπο στην κατασκευή οπτικών ινών για την επίτευξη των απαιτούμενων εξαιρετικά ομαλών, χαμηλών ελαττωμάτων τελικών επιφανειών στις συνδέσεις οπτικών ινών.Δουλεύουν μέσω μιας χημικής-μη...

Ποιότητα Ημιαγωγός CeO2 Ceria Slurry Cerium-based Glass Polishing Powder Εργοστάσιο

Ημιαγωγός CeO2 Ceria Slurry Cerium-based Glass Polishing Powder

Προσαρμοσμένη σκόνη γυαλισμού για ημιαγωγικές πλάκες υψηλής καθαρότητας Περιγραφέςσε Lichen Polishing Powder for Ultra-Flat Semiconductor Surface Finishing is a high-performance cerium oxide-based polishing powder designed to achieve exceptionally flat and smooth surfaces required for advanced ...

Ποιότητα Χημική Μηχανική CMP γυάλινη σκόνη γυαλιστικής Εργοστάσιο

Χημική Μηχανική CMP γυάλινη σκόνη γυαλιστικής

Σκόνη γυάλωσης λεπτών σωματιδίων για γυαλί οθόνης Περιγραφή Ανυψώστε την ποιότητα της επιφάνειάς σας στο βιομηχανικό πρότυπο με τις High-Purity Fine Particle Cerium Oxide (CeO2) Polishing Powders.Σχεδιασμένα ειδικά για την επόμενη γενιά οθόνων υψηλής ανάλυσης, οι σκόνες μας προσφέρουν την επίπεδη επ...

Ποιότητα OEM Cerium Oxide Glass Powder Polish Slurry Powder για ημιαγωγό παρμπρίζ Εργοστάσιο

OEM Cerium Oxide Glass Powder Polish Slurry Powder για ημιαγωγό παρμπρίζ

Υψηλής καθαρότητας οξείδιο του κεριού για ημιαγωγούς Περιγραφή Παρέχουμε επίπεδη επίπεδα για τους πιο απαιτητικούς κόμβους ημιαγωγών του 2026 με τα υλικά μας υψηλής καθαρότητας. Σκηνοθεσία σε ατομική κλίμακα: Επιτύχουμε ανώτερα επιφανειακά φινίρισμα με τραχύτητα κάτω από 0,2 nm, απαραίτητη για τις ε...

Ποιότητα 0.2μM Ημιαγωγός Wafer Cerium Oxide Polishing Powder Rubbing Compound Προσαρμοσμένο Εργοστάσιο

0.2μM Ημιαγωγός Wafer Cerium Oxide Polishing Powder Rubbing Compound Προσαρμοσμένο

Προσαρμοσμένη σκόνη γυαλισμού για ημιαγωγικές πλάκες υψηλής καθαρότηταςΠεριγραφέςσεΤο Lichen Custom Polishing Powder for High-Purity Semiconductor Wafers είναι μια προηγμένη σκόνη γυάλωσης με βάση το οξείδιο του κερίου,ειδικά σχεδιασμένα για να ανταποκρίνονται στις απαιτητικές απαιτήσεις της κατασκε...

Ποιότητα Σπάνιες Γης Οξείδιο Κέριου Υπεργυάλινα Χωριστικά Υλικά σκόνη ODM Εργοστάσιο

Σπάνιες Γης Οξείδιο Κέριου Υπεργυάλινα Χωριστικά Υλικά σκόνη ODM

Υλικά γυαλίστρωσης για οθόνες καταναλωτών Περιγραφή Παρέχουμε την τέλεια σαφήνεια και την ακρίβεια που απαιτούν οι σημερινοί καταναλωτές με τις υψηλής απόδοσης λύσεις γυαλισμού με οξείδιο του κερίου.Τα υλικά μας είναι ειδικά σχεδιασμένα για να τελειώνουν τα γυαλιά υψηλής αντοχής. Οι συνταγές μας χρη...

Ποιότητα 1.1μm Cerium Oxide Rubbing Compound Powder για το γυαλισμό οπτικών πετρωμάτων Εργοστάσιο

1.1μm Cerium Oxide Rubbing Compound Powder για το γυαλισμό οπτικών πετρωμάτων

Σκόνη γυάλωσης λεπτών σωματιδίων για οπτική Περιγραφή Επιτύχετε ασυμβίβαστη ποιότητα επιφάνειας με τις λεπτές σωματίδια του οξειδίου του κερίου μας που είναι ειδικά σχεδιασμένες για προηγμένα οπτικά πρότυπα κατασκευής. Συνδυάζοντας αυστηρά ελεγχόμενη μορφολογία σωματιδίων με βελτιστοποιημένη χημική ...