Ποιότητα Προχωρημένη λασπώδης Ceria CMP για την γυάλωση κυψελών πυριτίου και την επίπεδη επιφάνεια ημιαγωγών Εργοστάσιο
<
Ποιότητα Προχωρημένη λασπώδης Ceria CMP για την γυάλωση κυψελών πυριτίου και την επίπεδη επιφάνεια ημιαγωγών Εργοστάσιο
>

Προχωρημένη λασπώδης Ceria CMP για την γυάλωση κυψελών πυριτίου και την επίπεδη επιφάνεια ημιαγωγών

Ονομασία μάρκας: LICHEN
Αριθμός μοντέλου: LC
Τόπος προέλευσης: Κίνα
Πιστοποίηση: ISO
Ελάχιστη ποσότητα παραγγελίας: 20 κιλά
Τιμή: Contact us
Ικανότητα εφοδιασμού: 3000MT/year

Λεπτομέρειες προιόντος


Καθαρότητα: ≥ 99,95% στερεό περιεχόμενο: 5-30% κ.β.
Μέγεθος σωματιδίων (D50): 80 Nm Εύρος Ph: Προσαρμόσιμο
Πληθυσμός ελαττωμάτων: υπερβολικά χαμηλός Σταθερότητα διασποράς: Εξοχος
Επισημαίνω

Λάσπη Ceria CMP για πλακίδια πυριτίου

,

Σκουπίδια γυαλιστικής ομαλοποίησης ημιαγωγών

,

Σπάνιες γαιώνες CMP με εγγύηση

Περιγραφή προϊόντων


Προηγμένο πολτό CMP κερίου για στίλβωση πλακετών πυριτίου και επιπεδοποίηση ημιαγωγών επιφανειών

Επισκόπηση προϊόντος

Αυτός ο προηγμένος πολτός CMP με βάση το κέριο είναι βελτιστοποιημένος για στίλβωση πλακετών πυριτίου υψηλής ακρίβειας, όπου απαιτείται έλεγχος επιφανειών σε νανοκλίμακα. Τα χημικά ενεργά σωματίδια οξειδίου του κερίου προάγουν την αποτελεσματική αφαίρεση υλικού, διατηρώντας παράλληλα την ακεραιότητα των κρυστάλλων και ελαχιστοποιώντας τη ζημιά κάτω από την επιφάνεια.

Ο πολτός επιτρέπει βελτιωμένη επιπεδότητα πλακετών, μειωμένες επιπτώσεις βύθισης και διάβρωσης, και ενισχυμένη σταθερότητα διαδικασίας σε μεγάλες διαμέτρους πλακετών.

Βασικά Τεχνικά Πλεονεκτήματα

  • Υψηλός έλεγχος επιπεδότητας πλακετών
  • Χαμηλή βύθιση και διάβρωση
  • Τραχύτητα επιφάνειας σε επίπεδο νανομέτρου
  • Εξαιρετική ομοιομορφία εντός πλακέτας
  • Χαμηλή συσσωμάτωση σωματιδίων
  • Εύκολος καθαρισμός μετά το CMP
  • Κατάλληλο για παραγωγή υψηλού όγκου


Κατανομή μεγέθους σωματιδίωνΕφαρμογές

Προχωρημένη λασπώδης Ceria CMP για την γυάλωση κυψελών πυριτίου και την επίπεδη επιφάνεια ημιαγωγών 0

Τελική στίλβωση πλακετών πυριτίου

  • CMP πλακετών λογικής και μνήμης
  • Υποστρώματα προηγμένης συσκευασίας
  • Κατασκευή πλακετών 300 mm
  • Διαδικασίες μείωσης ελαττωμάτων επιφάνειας

Σημαντικά σημεία του προϊόντος

Προηγμένο πολτό CMP κερίου για στίλβωση πλακετών πυριτίου και επιπεδοποίηση ημιαγωγών επιφανειών Επισκόπηση προϊόντος Αυτός ο προηγμένος πολτός CMP με βάση το κέριο είναι βελτιστοποιημένος για στίλβωση πλακετών πυριτίου υψηλής ακρίβειας, όπου απαιτείται έλεγχος επιφανειών σε νανοκλίμακα. Τα χημικά ε...

Συγγενικά προϊόντα
Ποιότητα Σκόνη στίλβωσης Κηρίου ποιότητας CMP για οπτικά AR, συστοιχίες μικροφακών & οπτικούς αισθητήρες φορητών συσκευών Εργοστάσιο

Σκόνη στίλβωσης Κηρίου ποιότητας CMP για οπτικά AR, συστοιχίες μικροφακών & οπτικούς αισθητήρες φορητών συσκευών

CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics

Ποιότητα Υπερτελή σκόνη γυάλωσης οξειδίου του κεριού για έξυπνα φορητά καλύμματα γυαλιού και μικρο-οπτικής τελικής κατασκευής Εργοστάσιο

Υπερτελή σκόνη γυάλωσης οξειδίου του κεριού για έξυπνα φορητά καλύμματα γυαλιού και μικρο-οπτικής τελικής κατασκευής

Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in

Ποιότητα Σκόνη γυάλωσης με οξείδιο του κερίου υψηλής καθαρότητας για την παραγωγή γυαλιών κυματοδηγού AR και οπτικών φακών Εργοστάσιο

Σκόνη γυάλωσης με οξείδιο του κερίου υψηλής καθαρότητας για την παραγωγή γυαλιών κυματοδηγού AR και οπτικών φακών

High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and

Ποιότητα Οξαλικό Κερίου Σκόνη Χημικό Αντιδραστήριο Στοιχεία Εργοστάσιο

Οξαλικό Κερίου Σκόνη Χημικό Αντιδραστήριο Στοιχεία

Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically

Ζητήστε ένα απόσπασμα

Παρακαλούμε χρησιμοποιήστε την ηλεκτρονική φόρμα επικοινωνίας παρακάτω αν έχετε οποιεσδήποτε ερωτήσεις, η ομάδα μας θα επικοινωνήσει μαζί σας το συντομότερο δυνατό.

Μπορείτε να ανεβάσετε μέχρι 5 αρχεία και κάθε αρχείο μεγέθους 10M μέγιστο.