Slurry CMP avanzata a base di ceria per la lucidatura di wafer di silicio e la planarizzazione della superficie dei semiconduttori
Dettagli del prodotto
| Purezza: | ≥ 99,95% | contenuto solido: | 5-30% in peso |
|---|---|---|---|
| Dimensione delle particelle (D50): | 80 Nm | Intervallo di pH: | Personalizzabile |
| Densità dei difetti: | ultrabasso | Stabilità della dispersione: | Eccellente |
| Evidenziare |
Slurry CMP a base di ceria per wafer di silicio,Slurry di lucidatura per la planarizzazione dei semiconduttori,Slurry CMP a base di terre rare con garanzia |
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Descrizione di prodotto
Slurry avanzata Ceria CMP per la lucidatura delle wafer di silicio e la planarizzazione della superficie dei semiconduttori
Visualizzazione del prodotto
Questo avanzato liquame CMP a base di ceria è ottimizzato per la lucidatura di wafer di silicio ad alta precisione in cui è richiesto un controllo superficiale su scala nanometrica.Le particelle di ossido di cerio chimicamente attive promuovono un'eficiente rimozione del materiale preservando l'integrità del cristallo e riducendo al minimo i danni sotterranei.
L'impasto consente una migliore piattezza dei wafer, riduzione degli effetti di dishing e erosione e maggiore stabilità del processo su grandi diametri dei wafer.
Principali vantaggi tecnici
- Controllo dell'elevata piattezza dei wafer
- Basso livello di rivestimento e erosione
- Roverezza superficiale a livello nanometrico
- Eccellente uniformità all'interno del wafer
- Basso livello di agglomerazione di particelle
- Facile pulizia post-CMP
- Adatti per la fabbricazione di grandi volumi
Distribuzione della dimensione delle particelleLa Commissione
Applicazioni
- Lustratura finale di wafer di silicio
- Wafer di logica e memoria CMP
- Substrati di imballaggio avanzati
- Fabbricazione di wafer da 300 mm
- Processi di riduzione dei difetti superficiali
Caratteristiche del prodotto
Slurry avanzata Ceria CMP per la lucidatura delle wafer di silicio e la planarizzazione della superficie dei semiconduttori Visualizzazione del prodotto Questo avanzato liquame CMP a base di ceria è ottimizzato per la lucidatura di wafer di silicio ad alta precisione in cui è richiesto un controllo ...
Polvere di lucidatura Ceria di grado CMP per l'ottica AR, le serie di micro-lenti e i sensori ottici indossabili
CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics
Polvere di lucidatura ultrafine di ossido di cereale per finiture di vetro e micro-ottica di copertura indossabili intelligenti
Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in
Polvere di lucidatura ad alta purezza di ossido di cerio per la produzione di vetri a guida d'onda AR e lenti ottiche
High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and
Cerium oxalato in polvere Elementi reagenti chimici
Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically
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