Качество Усовершенствованная суспензия CMP на основе церия для полировки кремниевых пластин и планарной обработки поверхности полупроводников Фабрика
<
Качество Усовершенствованная суспензия CMP на основе церия для полировки кремниевых пластин и планарной обработки поверхности полупроводников Фабрика
>

Усовершенствованная суспензия CMP на основе церия для полировки кремниевых пластин и планарной обработки поверхности полупроводников

Наименование марки: LICHEN
Номер модели: ЛК
Место происхождения: Китай
Сертификация: ISO
Минимальное количество заказа: 20 кг
Цена: Contact us
Способность к поставкам: 3000MT/year

Детали продукта


Чистота: ≥ 99,95% солидное содержание: 5-30% масс.
Размер частиц (D50): 80 Нм Диапазон Ph: Настраиваемый
Плотность дефектов: ультра-низкий Стабильность дисперсии: Отличный
Выделить

Суспензия CMP на основе церия для кремниевых пластин

,

Суспензия для планарной полировки полупроводников

,

Суспензия CMP на основе редкоземельных элементов с гарантией

Характер продукции


Усовершенствованный СЕРИА СМП для полировки кремниевых вафль и плоскости поверхности полупроводников

Обзор продукции

Эта передовая смесь CMP на основе керия оптимизирована для высокоточной полировки кремниевых пластин, где требуется контроль поверхности на наномасштабе.Химически активные частицы оксида церия способствуют эффективному удалению материала при сохранении целостности кристалла и минимизации повреждений под поверхностью.

Слюна позволяет улучшить плоскость пластины, уменьшить эффект разложения и эрозии, а также повысить стабильность процесса на больших диаметрах пластины.

Основные технические преимущества

  • Контроль высокой плоскости пластины
  • Низкий уровень насыщения и эрозии
  • Грубость поверхности на уровне нанометров
  • Отличная однородность внутри вафры
  • Низкая агломерация частиц
  • Легкая чистка после CMP
  • Подходит для производства больших объемов


Распределение размера частицОтношение

Усовершенствованная суспензия CMP на основе церия для полировки кремниевых пластин и планарной обработки поверхности полупроводников 0

Заявления

  • Окончательная полировка кремниевых пластин
  • Логика и память CMP
  • Продвинутые упаковочные субстраты
  • Производство пластинок 300 мм
  • Процессы уменьшения дефектов поверхности

Основные характеристики продукта

Усовершенствованный СЕРИА СМП для полировки кремниевых вафль и плоскости поверхности полупроводников Обзор продукции Эта передовая смесь CMP на основе керия оптимизирована для высокоточной полировки кремниевых пластин, где требуется контроль поверхности на наномасштабе.Химически активные частицы окс...

СОБЩЕННЫЕ ПРОДУКТЫ
Качество Полировальный порошок на основе оксида церия класса CMP для AR-оптики, массивов микролинз и носимых оптических датчиков Фабрика

Полировальный порошок на основе оксида церия класса CMP для AR-оптики, массивов микролинз и носимых оптических датчиков

CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics

Качество Сверхтонкий полировальный порошок оксида церия для смарт-носимых устройств, защитных стекол и микрооптики Фабрика

Сверхтонкий полировальный порошок оксида церия для смарт-носимых устройств, защитных стекол и микрооптики

Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in

Качество Полирующий порошок с оксидом церия высокой чистоты для производства стекла с волноводом AR и оптических линз Фабрика

Полирующий порошок с оксидом церия высокой чистоты для производства стекла с волноводом AR и оптических линз

High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and

Качество Оксалат церия в порошке Химический реагент элементы Фабрика

Оксалат церия в порошке Химический реагент элементы

Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically

Спросите цитату

Пожалуйста, воспользуйтесь нашей онлайн-формой для запроса, если у вас есть вопросы, наша команда свяжется с вами как можно скорее.

Вы можете загрузить до 5 файлов и каждый файл размером 10M максимум.