Fortschrittliche Ceria CMP-Slurry für die Siliziumwafer-Politur und die Oberflächenplanarisation von Halbleitern
Produktdetails
| Reinheit: | ≥ 99,95% | solider Inhalt: | 5–30 Gew.-% |
|---|---|---|---|
| Partikelgröße (D50): | 80 Nm | pH-Bereich: | Anpassbar |
| Defektdichte: | ultra-niedrig | Stabilität der Dispersion: | Exzellent |
| Hervorheben |
Ceria CMP-Slurry für Siliziumwafer,Halbleiter-Planarisations-Politur-Slurry,Seltene Erden CMP-Slurry mit Garantie |
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Produkt-Beschreibung
Fortschrittliche Ceria-CMP-Slurry für die Siliziumwafer-Politur und die Oberflächenplanarisation von Halbleitern
Produktübersicht
Diese fortschrittliche Ceria-basierte CMP-Slurry ist für die hochpräzise Siliziumwafer-Politur optimiert, bei der eine Oberflächenkontrolle im Nanometerbereich erforderlich ist. Die chemisch aktiven Ceroxid-Partikel fördern eine effiziente Materialabtragung, während die Kristallintegrität erhalten bleibt und Schäden unter der Oberfläche minimiert werden.
Die Slurry ermöglicht eine verbesserte Wafer-Ebenheit, reduzierte Dishing- und Erosions-Effekte sowie eine verbesserte Prozessstabilität über große Waferdurchmesser hinweg.
Wichtige technische Vorteile
- Hohe Wafer-Ebenheitskontrolle
- Geringes Dishing und geringe Erosion
- Oberflächenrauheit im Nanometerbereich
- Hervorragende Gleichmäßigkeit innerhalb des Wafers
- Geringe Partikelagglomeration
- Einfache Reinigung nach CMP
- Geeignet für die Massenproduktion
PartikelgrößenverteilungAnwendungen
Endpolitur von Siliziumwafern
- CMP für Logik- und Speicherwafer
- Substrate für fortschrittliche Verpackungen
- Herstellung von 300-mm-Wafern
- Prozesse zur Reduzierung von Oberflächenfehlern
Produkt-Highlights
Fortschrittliche Ceria-CMP-Slurry für die Siliziumwafer-Politur und die Oberflächenplanarisation von Halbleitern Produktübersicht Diese fortschrittliche Ceria-basierte CMP-Slurry ist für die hochpräzise Siliziumwafer-Politur optimiert, bei der eine Oberflächenkontrolle im Nanometerbereich erforderli...
Competitive price for Lanthanum Sulfate Rare Earth Material White Powdery Crystal
Lanthanum Sulfate Molecular Formula: La₂(SO₄)₃ Appearance : White crystalline or white powder Solubility : Soluble in water, aqueous solution weakly acidic Characteristics : Good thermal stability, rare earth neutral salt Applications : Chemical reagent, catalyst, raw material for lanthanum salts, glass additive, optical materials Item Specification Testing Standard Item La 2 (SO 4 ) 3 -4N La 2 (SO 4 ) 3 -5N TREO(wt%) ≥30 ≥30 La 2 O 3 /TREO ≥99.99 ≥99.999 GB/T 18115.1 CeO 2
CeF3 Cerium Fluoride Crystal High Purity 99.99% For Optical Coating
CeF3 Crystal Cerium Fluoride High Purity 99.99% for Optical Coating or Suxiliary Solvent Molecular Formula: CeF₃ Appearance: Cerium fluoride is a white powder Application: Used as high-purity chemical and coating material Item Specification Testing Standard I tem CeF 3 -3N5 CeF 3 -4N CeF 3 -4N5 CeF 3 -5N TREO(wt%) ≥80 ≥80 ≥80 ≥80 Rare Earth Relative Purity (wt%) La 2 O 3 /TREO ≤0.01 ≤0.005 ≤0.003 ≤0.0004 GB/T 18115.2 CeO 2 /TREO ≥99.95 ≥99.99 ≥99.995 ≥99.999 Pr 6 O 11 /TREO
High Quality 99%Min Purity Rare Earth Material Lanthanum Hydroxide Powder
Lanthanum Hydroxide Appearance: white powder or crystals , slightly soluble in water . Basic Properties Chemical Formula : Appearance : White powder, granules or crystals Solubility : Slightly soluble in water, soluble in strong acids Characteristics : Readily absorbs in air to form lanthanum carbonate; decomposes into lanthanum oxide at 260 °C Applications : Catalysts, glass additives, preparation of lanthanum salts, ceramics, electronic materials 99%min Purity Rare Earth
Aluminum Oxide Polishing Powder For Automotive Paint & Varnish Finishing
Aluminum Oxide Polishing Powder For Automotive Paint & Varnish Finishing Product Overview This alumina polishing powder is developed for automotive coating and varnish polishing applications. It provides efficient leveling of clear coats and varnish layers while producing uniform gloss and smooth surface finishing. The material is widely used in OEM paint shops and automotive refinishing systems. Key Features Excellent coating leveling ability Controlled abrasion rate High
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