Kwaliteit Geavanceerde Ceria CMP Slurry voor Polijsten van Siliciumwafers en Planarisatie van Halfgeleideroppervlakken Fabriek
<
Kwaliteit Geavanceerde Ceria CMP Slurry voor Polijsten van Siliciumwafers en Planarisatie van Halfgeleideroppervlakken Fabriek
>

Geavanceerde Ceria CMP Slurry voor Polijsten van Siliciumwafers en Planarisatie van Halfgeleideroppervlakken

Merknaam: LICHEN
Modelnummer: LC
Plaats van herkomst: China
Certificering: ISO
Minimale bestelhoeveelheid: 20KG
Prijs: Contact us
Toeleveringsvermogen: 3000MT/year

Productdetails


Zuiverheid: ≥ 99,95% stevige inhoud: 5-30 gew.%
Deeltjesgrootte (D50): 80 Nm Ph-bereik: Aanpasbaar
Defectdichtheid: ultra-low Dispersiestabiliteit: Uitstekend
Markeren

Ceria CMP slurry voor siliciumwafers

,

Halfgeleider planarisatie polijst slurry

,

Zeldzame aardmetalen CMP slurry met garantie

Productomschrijving


Geavanceerde Ceria CMP-slurry voor het polijsten van siliciumwafers en de platvorming van halfgeleiders

Productoverzicht

Deze geavanceerde op ceria gebaseerde CMP-slijm is geoptimaliseerd voor het polijsten van siliciumwafers met hoge precisie waar nanoschaaloppervlaktecontrole vereist is.De chemisch actieve cerium-oxide deeltjes bevorderen efficiënte materiaal verwijdering terwijl het behoud van de kristal integriteit en het minimaliseren van ondergrondse schade.

De slurry zorgt voor een verbeterde vlakheid van de wafer, verminderde dishing- en erosie-effecten en verbeterde processtabiliteit over grote waferdiameters.

Belangrijkste technische voordelen

  • Hoge controle van de vlakheid van de wafer
  • Laag verpakking en erosie
  • Ruwheid van het oppervlak op nanometerniveau
  • Uitstekende gelijkheid binnen de wafer
  • Lage deeltjesagglomeratie
  • Eenvoudige reiniging na CMP
  • van een breedte van niet meer dan 50 mm


DeeltjesgrootteverdelingVerband

Geavanceerde Ceria CMP Slurry voor Polijsten van Siliciumwafers en Planarisatie van Halfgeleideroppervlakken

Toepassingen

  • Eindpoetsing van siliciumwafers
  • Logic en geheugen wafer CMP
  • Geavanceerde verpakkingssubstraten
  • Vervaardiging van wafers van 300 mm
  • Processen voor het verminderen van oppervlaktefouten

Producthoogtepunten

Geavanceerde Ceria CMP-slurry voor het polijsten van siliciumwafers en de platvorming van halfgeleiders Productoverzicht Deze geavanceerde op ceria gebaseerde CMP-slijm is geoptimaliseerd voor het polijsten van siliciumwafers met hoge precisie waar nanoschaaloppervlaktecontrole vereist is.De ...

Verwante producten
Kwaliteit Cerium Oxide for Anti-Corrosion and Protective Coatings Fabriek

Cerium Oxide for Anti-Corrosion and Protective Coatings

Cerium Oxide for Anti-Corrosion and Protective Coatings Product Overview Cerium Oxide for Anti-Corrosion and Protective Coatings is a functional ceria powder developed for advanced surface protection systems where improved chemical stability, oxidation resistance, and coating durability are required...

Kwaliteit Cerium Oxide Additive for High-Temperature Protective Coatings Fabriek

Cerium Oxide Additive for High-Temperature Protective Coatings

Cerium Oxide Additive for High-Temperature Protective Coatings Product Overview Cerium Oxide Additive for High-Temperature Protective Coatings is engineered for coating systems exposed to elevated temperatures, oxidation, and demanding service conditions. CeO₂ has excellent thermal stability and ...

Kwaliteit Nano Cerium Oxide for Advanced Functional Coatings Fabriek

Nano Cerium Oxide for Advanced Functional Coatings

Nano Cerium Oxide for Advanced Functional Coatings Product Overview High-Purity Cerium Oxide (CeO₂) for Functional Coatings is a fine ceria powder designed as a functional additive and performance-enhancing material for advanced coating formulations. Its high chemical purity, controlled particle ...

Kwaliteit High-Purity Cerium Oxide for Functional Coatings Fabriek

High-Purity Cerium Oxide for Functional Coatings

High-Purity Cerium Oxide for Functional Coatings Product Overview High-Purity Cerium Oxide (CeO₂) for Functional Coatings is a fine ceria powder designed as a functional additive and performance-enhancing material for advanced coating formulations. Its high chemical purity, controlled particle size, ...

Verzoek om een Citaat

Gebruik ons online contactformulier als u vragen heeft, ons team zal u zo snel mogelijk contacteren.

Je kunt maximaal 5 bestanden uploaden en elk bestand maximaal 10M.