Slurry CMP Avançada de Cério para Polimento de Wafer de Silício e Planificação de Superfície de Semicondutores
Detalhes do produto
| Pureza: | ≥ 99,95% | conteúdo sólido: | 5-30% em peso |
|---|---|---|---|
| Tamanho de partícula (D50): | 80 Nm | Faixa de pH: | Personalizável |
| Densidade de defeito: | ultra-baixo | Estabilidade da dispersão: | Excelente |
| Destacar |
Slurry CMP de Cério para wafers de silício,Slurry de polimento para planificação de semicondutores,Slurry CMP de terras raras com garantia |
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Descrição do produto
Pasta de CMP de Céria Avançada para Polimento de Wafer de Silício e Planarização de Superfície de Semicondutores
Visão Geral do Produto
Esta pasta avançada à base de céria é otimizada para polimento de wafer de silício de alta precisão, onde o controle de superfície em nanoescala é necessário. As partículas quimicamente ativas de óxido de cério promovem a remoção eficiente de material, preservando a integridade do cristal e minimizando danos subsuperficiais.
A pasta permite melhor planicidade do wafer, redução dos efeitos de afundamento e erosão, e estabilidade aprimorada do processo em grandes diâmetros de wafer.
Principais Vantagens Técnicas
- Alto controle de planicidade do wafer
- Baixo afundamento e erosão
- Rugosidade superficial em nível nanométrica
- Excelente uniformidade dentro do wafer
- Baixa aglomeração de partículas
- Limpeza pós-CMP fácil
- Adequado para fabricação de alto volume
Distribuição do Tamanho de PartículaAplicações

Polimento final de wafer de silício
- CMP de wafer de lógica e memória
- Substratos de embalagem avançada
- Fabricação de wafer de 300 mm
- Processos de redução de defeitos de superfície
Destaques do Produto
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Pó de Polimento de Cério Grau CMP para Óticas AR, Matrizes de Micro-Lentes e Sensores Ópticos Vestíveis
CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics
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Pó de Polimento de Óxido de Cério de Alta Pureza para Fabricação de Vidro de Guia de Onda AR e Lentes Ópticas
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Oxalato de cério em pó Elementos reagentes químicos
Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically
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