Slurry CMP Avançada de Cério para Polimento de Wafer de Silício e Planificação de Superfície de Semicondutores
Detalhes do produto
| Pureza: | ≥ 99,95% | conteúdo sólido: | 5-30% em peso |
|---|---|---|---|
| Tamanho de partícula (D50): | 80 Nm | Faixa de pH: | Personalizável |
| Densidade de defeito: | ultra-baixo | Estabilidade da dispersão: | Excelente |
| Destacar |
Slurry CMP de Cério para wafers de silício,Slurry de polimento para planificação de semicondutores,Slurry CMP de terras raras com garantia |
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Descrição do produto
Pasta de CMP de Céria Avançada para Polimento de Wafer de Silício e Planarização de Superfície de Semicondutores
Visão Geral do Produto
Esta pasta avançada à base de céria é otimizada para polimento de wafer de silício de alta precisão, onde o controle de superfície em nanoescala é necessário. As partículas quimicamente ativas de óxido de cério promovem a remoção eficiente de material, preservando a integridade do cristal e minimizando danos subsuperficiais.
A pasta permite melhor planicidade do wafer, redução dos efeitos de afundamento e erosão, e estabilidade aprimorada do processo em grandes diâmetros de wafer.
Principais Vantagens Técnicas
- Alto controle de planicidade do wafer
- Baixo afundamento e erosão
- Rugosidade superficial em nível nanométrica
- Excelente uniformidade dentro do wafer
- Baixa aglomeração de partículas
- Limpeza pós-CMP fácil
- Adequado para fabricação de alto volume
Distribuição do Tamanho de PartículaAplicações
Polimento final de wafer de silício
- CMP de wafer de lógica e memória
- Substratos de embalagem avançada
- Fabricação de wafer de 300 mm
- Processos de redução de defeitos de superfície
Destaques do Produto
Pasta de CMP de Céria Avançada para Polimento de Wafer de Silício e Planarização de Superfície de Semicondutores Visão Geral do Produto Esta pasta avançada à base de céria é otimizada para polimento de wafer de silício de alta precisão, onde o controle de superfície em nanoescala é necessário. As ...
Competitive price for Lanthanum Sulfate Rare Earth Material White Powdery Crystal
Lanthanum Sulfate Molecular Formula: La₂(SO₄)₃ Appearance : White crystalline or white powder Solubility : Soluble in water, aqueous solution weakly acidic Characteristics : Good thermal stability, rare earth neutral salt Applications : Chemical reagent, catalyst, raw material for lanthanum salts, glass additive, optical materials Item Specification Testing Standard Item La 2 (SO 4 ) 3 -4N La 2 (SO 4 ) 3 -5N TREO(wt%) ≥30 ≥30 La 2 O 3 /TREO ≥99.99 ≥99.999 GB/T 18115.1 CeO 2
CeF3 Cerium Fluoride Crystal High Purity 99.99% For Optical Coating
CeF3 Crystal Cerium Fluoride High Purity 99.99% for Optical Coating or Suxiliary Solvent Molecular Formula: CeF₃ Appearance: Cerium fluoride is a white powder Application: Used as high-purity chemical and coating material Item Specification Testing Standard I tem CeF 3 -3N5 CeF 3 -4N CeF 3 -4N5 CeF 3 -5N TREO(wt%) ≥80 ≥80 ≥80 ≥80 Rare Earth Relative Purity (wt%) La 2 O 3 /TREO ≤0.01 ≤0.005 ≤0.003 ≤0.0004 GB/T 18115.2 CeO 2 /TREO ≥99.95 ≥99.99 ≥99.995 ≥99.999 Pr 6 O 11 /TREO
High Quality 99%Min Purity Rare Earth Material Lanthanum Hydroxide Powder
Lanthanum Hydroxide Appearance: white powder or crystals , slightly soluble in water . Basic Properties Chemical Formula : Appearance : White powder, granules or crystals Solubility : Slightly soluble in water, soluble in strong acids Characteristics : Readily absorbs in air to form lanthanum carbonate; decomposes into lanthanum oxide at 260 °C Applications : Catalysts, glass additives, preparation of lanthanum salts, ceramics, electronic materials 99%min Purity Rare Earth
Aluminum Oxide Polishing Powder For Automotive Paint & Varnish Finishing
Aluminum Oxide Polishing Powder For Automotive Paint & Varnish Finishing Product Overview This alumina polishing powder is developed for automotive coating and varnish polishing applications. It provides efficient leveling of clear coats and varnish layers while producing uniform gloss and smooth surface finishing. The material is widely used in OEM paint shops and automotive refinishing systems. Key Features Excellent coating leveling ability Controlled abrasion rate High
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