Ποιότητα Υψηλής καθαρότητας Cerium Oxide CMP Slurry για την ομαλοποίηση κυψελών πυριτίου και την κατασκευή ημιαγωγών Εργοστάσιο
<
Ποιότητα Υψηλής καθαρότητας Cerium Oxide CMP Slurry για την ομαλοποίηση κυψελών πυριτίου και την κατασκευή ημιαγωγών Εργοστάσιο
>

Υψηλής καθαρότητας Cerium Oxide CMP Slurry για την ομαλοποίηση κυψελών πυριτίου και την κατασκευή ημιαγωγών

Ονομασία μάρκας: LICHEN
Αριθμός μοντέλου: LC
Τόπος προέλευσης: Κίνα
Πιστοποίηση: ISO
Ελάχιστη ποσότητα παραγγελίας: 20 κιλά
Τιμή: Contact us
Ικανότητα εφοδιασμού: 3000MT/year

Λεπτομέρειες προιόντος


Καθαρότητα: ≥ 99,9% στερεό περιεχόμενο: 5-30% κ.β.
Μέγεθος σωματιδίων (D50): 50 – 150 nm Εύρος Ph: Προσαρμόσιμο
Πληθυσμός ελαττωμάτων: υπερβολικά χαμηλός Σταθερότητα διασποράς: Εξοχος
Επισημαίνω

οξείδιο του κερίου CMP λιπάσμα

,

Λάσπη γυαλισμού πλακιδίων πυριτίου

,

ημιαγωγός CMP λιπάσμα

Περιγραφή προϊόντων


Υψηλής καθαρότητας Cerium Oxide CMP Slurry για την ομαλοποίηση κυψελών πυριτίου και την κατασκευή ημιαγωγών

Επισκόπηση του προϊόντος

Η λάσπη γυαλισμού CMP του οξειδίου του κερίου μας έχει σχεδιαστεί για υπερυποκριτική ομαλοποίηση των πλακών πυριτίου που χρησιμοποιούνται στην προηγμένη κατασκευή ημιαγωγών.Η λάσπη συνδυάζει ελεγχόμενη μηχανική υγρασία με βελτιστοποιημένη χημική δραστηριότητα για να επιτευχθεί εξαιρετική επίπεδη επιφάνεια, χαμηλή ελαττωματικότητα και ανώτερη ακεραιότητα της επιφάνειας της πλάκας.

Σχεδιασμένο για σύγχρονες διαδικασίες CMP, η σύνθεση παρέχει σταθερούς ρυθμούς αφαίρεσης, ελαχιστοποιώντας ταυτόχρονα μικροβλάσματα, τη μόλυνση από σωματίδια και τη ζημιά στην επιφάνεια.Το προϊόν υποστηρίζει περιβάλλοντα παραγωγής υψηλής απόδοσης που απαιτούν σταθερή ποιότητα πλακών και επαναληψιμότητα της διαδικασίας.

Βασικά Τεχνικά Πλεονεκτήματα

  • Επιδόσεις γυάλωσης με εξαιρετικά χαμηλή ελαττωματικότητα
  • Ελεγχόμενος ρυθμός αφαίρεσης πυριτίου
  • Εξαιρετική επίπεδη επιφάνεια και ομοιομορφία
  • Μειωμένη παραγωγή μικροεγγραμμάτων
  • Σταθερή διασπορά λιπαντικού και μακρά διάρκεια ζωής
  • Συμβατό με αυτόματο εξοπλισμό CMP
  • Υψηλή συνέπεια από παρτίδα σε παρτίδα


Διανομή μεγέθους σωματιδίωνΕπικοινωνία

Υψηλής καθαρότητας Cerium Oxide CMP Slurry για την ομαλοποίηση κυψελών πυριτίου και την κατασκευή ημιαγωγών 0

Εφαρμογές

  • Σκηνοθεσία πλακών πυριτίου
  • Τελική επεξεργασία κυψελών
  • Συσκευή γυαλισμού επιφάνειας πλάκας
  • Βήματα γυάλωσης προ καθαρισμού CMP
  • Προετοιμασία υποστρώματος ημιαγωγών

Σημαντικά σημεία του προϊόντος

Υψηλής καθαρότητας Cerium Oxide CMP Slurry για την ομαλοποίηση κυψελών πυριτίου και την κατασκευή ημιαγωγών Επισκόπηση του προϊόντος Η λάσπη γυαλισμού CMP του οξειδίου του κερίου μας έχει σχεδιαστεί για υπερυποκριτική ομαλοποίηση των πλακών πυριτίου που χρησιμοποιούνται στην προηγμένη κατασκευή ημια...

Συγγενικά προϊόντα
Ποιότητα Σκόνη στίλβωσης Κηρίου ποιότητας CMP για οπτικά AR, συστοιχίες μικροφακών & οπτικούς αισθητήρες φορητών συσκευών Εργοστάσιο

Σκόνη στίλβωσης Κηρίου ποιότητας CMP για οπτικά AR, συστοιχίες μικροφακών & οπτικούς αισθητήρες φορητών συσκευών

CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics

Ποιότητα Υπερτελή σκόνη γυάλωσης οξειδίου του κεριού για έξυπνα φορητά καλύμματα γυαλιού και μικρο-οπτικής τελικής κατασκευής Εργοστάσιο

Υπερτελή σκόνη γυάλωσης οξειδίου του κεριού για έξυπνα φορητά καλύμματα γυαλιού και μικρο-οπτικής τελικής κατασκευής

Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in

Ποιότητα Σκόνη γυάλωσης με οξείδιο του κερίου υψηλής καθαρότητας για την παραγωγή γυαλιών κυματοδηγού AR και οπτικών φακών Εργοστάσιο

Σκόνη γυάλωσης με οξείδιο του κερίου υψηλής καθαρότητας για την παραγωγή γυαλιών κυματοδηγού AR και οπτικών φακών

High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and

Ποιότητα Οξαλικό Κερίου Σκόνη Χημικό Αντιδραστήριο Στοιχεία Εργοστάσιο

Οξαλικό Κερίου Σκόνη Χημικό Αντιδραστήριο Στοιχεία

Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically

Ζητήστε ένα απόσπασμα

Παρακαλούμε χρησιμοποιήστε την ηλεκτρονική φόρμα επικοινωνίας παρακάτω αν έχετε οποιεσδήποτε ερωτήσεις, η ομάδα μας θα επικοινωνήσει μαζί σας το συντομότερο δυνατό.

Μπορείτε να ανεβάσετε μέχρι 5 αρχεία και κάθε αρχείο μεγέθους 10M μέγιστο.