Высокочистый оксид церия СМП для планировки кремниевых вафль и производства полупроводников
Детали продукта
| Чистота: | ≥ 99,9% | солидное содержание: | 5-30% масс. |
|---|---|---|---|
| Размер частиц (D50): | 50 – 150 нм | Диапазон Ph: | Настраиваемый |
| Плотность дефектов: | ультра-низкий | Стабильность дисперсии: | Отличный |
| Выделить |
Оксид церия,смесь CMP,сливки для полировки кремниевых пластин |
||
Характер продукции
Высокочистый оксид церия СМП для планировки кремниевых вафль и производства полупроводников
Обзор продукции
Наша полировальная смесь из оксида церия CMP разработана для сверхточной планаризации кремниевых пластин, используемых в передовой производстве полупроводников.Лора сочетает в себе контролируемое механическое изношение с оптимизированной химической активностью для достижения отличной плоскости поверхности, низкая дефективность и превосходная целостность поверхности пластины.
Разработанная для современных процессов CMP, формула обеспечивает стабильные показатели удаления при одновременном минимизации микроосколков, загрязнения частицами и повреждений поверхности.Продукт поддерживает высокопроизводительные производственные среды, требующие постоянного качества пластины и повторяемости процесса.
Основные технические преимущества
- Сверхнизкая производительность полировки с дефективностью
- Контролируемая скорость удаления кремния
- Отличная плоскость и однородность поверхности
- Снижение количества микроскорпионов
- Устойчивая дисперсия слизи и длительный срок службы
- Совместима с автоматизированным оборудованием CMP
- Высокая консистенция от партии к партии
Распределение размера частицОтношение
Заявления
- Планировка кремниевых пластинок
- Окончание вафли
- Устройство для полировки поверхности пластины
- Шаги полировки перед очисткой CMP
- Приготовление полупроводниковой подложки
Основные характеристики продукта
Высокочистый оксид церия СМП для планировки кремниевых вафль и производства полупроводников Обзор продукции Наша полировальная смесь из оксида церия CMP разработана для сверхточной планаризации кремниевых пластин, используемых в передовой производстве полупроводников.Лора сочетает в себе контролируе...
Полировальный порошок на основе оксида церия класса CMP для AR-оптики, массивов микролинз и носимых оптических датчиков
CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics
Сверхтонкий полировальный порошок оксида церия для смарт-носимых устройств, защитных стекол и микрооптики
Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in
Полирующий порошок с оксидом церия высокой чистоты для производства стекла с волноводом AR и оптических линз
High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and
Оксалат церия в порошке Химический реагент элементы
Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically
Пожалуйста, воспользуйтесь нашей онлайн-формой для запроса, если у вас есть вопросы, наша команда свяжется с вами как можно скорее.
