Lodo CMP de óxido de cerio de alta pureza para planarización de obleas de silicio y fabricación de semiconductores
Detalles del producto
| Pureza: | ≥ 99,9% | contenido sólido: | 5-30% en peso |
|---|---|---|---|
| Tamaño de partícula (D50): | 50 – 150 nm | Rango de pH: | Personalizable |
| Densidad de defectos: | ultrabajo | Estabilidad de dispersión: | Excelente |
| Resaltar |
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Descripción de producto
Slurry CMP de óxido de cerio de alta pureza para la planarización de obleas de silicio y la fabricación de semiconductores
Resumen del producto
Nuestra suspensión de pulido CMP de óxido de cerio está diseñada para la planarización ultra-precisa de obleas de silicio utilizadas en la fabricación avanzada de semiconductores.La suspensión combina la abrasión mecánica controlada con una actividad química optimizada para lograr una excelente planitud de la superficie, baja defectividad e integridad superior de la superficie de la oblea.
Diseñado para procesos modernos de CMP, la formulación proporciona tasas de eliminación estables al tiempo que minimiza los micro arañazos, la contaminación por partículas y el daño superficial.El producto soporta entornos de producción de alto rendimiento que requieren una calidad de obleas constante y la repetibilidad del proceso.
Ventajas técnicas clave
- Rendimiento de pulido de defecto muy bajo
- Tasa de eliminación de silicio controlada
- Excelente planitud y uniformidad de la superficie
- Reducción de la generación de micro arañazos
- Dispersión estable del lodo y larga vida útil
- Compatible con el equipo automatizado CMP
- Alta consistencia de lote a lote
Distribución del tamaño de las partículasEl
Aplicaciones
- Planarización de las obleas de silicio
- Finalización de las obeliscas
- Dispositivo de pulido de la superficie de las obleas
- Pasos de pulido antes de limpiar el CMP
- Preparación de sustratos de semiconductores
Lo más destacado del producto
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Polvo de acetato de cerio hidratado sólido de alta calidad para catalizador
Cerium Acetate Molecular Formula: Ce(AC)₃·xH₂O Appearance: Cerium acetate is a white snowflake-like solid Application: Used as a raw material for other cerium salts and cerium oxide, as well as petroleum additives, etc. Item Specification Testing Standard Item Ce(AC) 3 -3N5 Ce(AC) 3 -4N Ce(AC) 3 -4N5 Ce(AC) 3 -5N TREO(wt%) ≥45 ≥45 ≥45 ≥45 Rare Earth Relative Purity (wt%) La 2 O 3 /TREO ≤0.01 ≤0.005 ≤0.003 ≤0.0004 GB/T 18115.2 CeO 2 /TREO ≥99.95 ≥99.99 ≥99.995 ≥99.999 Pr 6 O
Precio competitivo Carbonato de Lantano Cerio en gran tamaño
Large particle size Lanthanum Cerium Carbonate Molecular Formula: (LaCe)₂(CO₃)₃ Appearance: Coarse particle lanthanum cerium carbonate is a white powder Application: Used for the production of rare earth polishing powder. Item Specification Testing Standard Item (LaCe) 2 (CO 3 ) 3 -65CeB1 (LaCe) 2 (CO 3 ) 3 -65CeB2 TREO(wt%) ≥45.0 ≥45.0 Lanthanum-Cerium Distribution and Rare Earth Impurities (wt%) La 2 O 3 /TREO 35±2 35±2 GB/T 18115.1 CeO 2 /TREO 65±2 65±2 Pr 6 O 11 /TREO ≤0
Lodo CMP de óxido de cerio de ultra baja defectividad para la fabricación de obleas de silicio semiconductoras
Ultra-Low Defect Cerium Oxide CMP Slurry For Semiconductor Silicon Wafer Manufacturing Product Overview Our ultra-low defect cerium oxide CMP slurry is designed to meet the stringent requirements of next-generation semiconductor fabrication. The slurry delivers precise chemical-mechanical interaction between abrasive particles and silicon surfaces, enabling atomic-scale planarization required for advanced nodes and high-performance devices. Engineered for compatibility with
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