Hochreine Ceroxid-CMP-Slurry für Siliziumwafer-Planarisierung & Halbleiterfertigung
Produktdetails
| Reinheit: | ≥ 99,9 % | solider Inhalt: | 5–30 Gew.-% |
|---|---|---|---|
| Partikelgröße (D50): | 50 – 150 nm | pH-Bereich: | Anpassbar |
| Defektdichte: | ultra-niedrig | Stabilität der Dispersion: | Exzellent |
| Hervorheben |
Ceroxid-CMP-Slurry,Siliziumwafer-Polierschlamm,Halbleiter-CMP-Slurry |
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Produkt-Beschreibung
High-Purity Cerium Oxide CMP Schlamm für die Planalisierung von Siliziumwafern und Halbleiterherstellung
Produktübersicht
Unser Cerium-Oxid-CMP-Poligeschlauch wurde für die hochpräzise Planisierung von Siliziumwafern entwickelt, die in der fortgeschrittenen Halbleiterherstellung verwendet werden.Der Schlamm kombiniert kontrollierte mechanische Abrieb mit optimierter chemischer Aktivität, um eine ausgezeichnete Oberflächenflachheit zu erzielen, geringe Defektivität und überlegene Oberflächenintegrität.
Die Formulierung wurde für moderne CMP-Prozesse entwickelt und bietet eine stabile Entfernung und minimiert dabei Mikroschrammen, Partikelkontamination und Oberflächenschäden.Das Produkt unterstützt Produktionsumgebungen mit hohem Ertrag, die eine gleichbleibende Waferqualität und Prozesswiederholbarkeit erfordern.
Wichtige technische Vorteile
- Ultra-niedrige Lenkleistung mit defektiven Eigenschaften
- Kontrollierte Siliziumentfernungsrate
- Ausgezeichnete Oberflächenplanarität und Gleichförmigkeit
- Reduzierte Mikroschabenerzeugung
- Stabile Schlammdispersion und lange Lebensdauer
- Kompatibel mit automatisierten CMP-Geräten
- Hohe Konsistenz zwischen den Chargen
PartikelgrößenverteilungDie
Anwendungen
- Silikonwaferplanisierung
- Oberflächenveredelung
- Gerät für die Oberflächenpolierung der Wafer
- CMP-vorreinigende Polierschritte
- Zubereitung von Halbleiter-Substraten
Produkt-Highlights
High-Purity Cerium Oxide CMP Schlamm für die Planalisierung von Siliziumwafern und Halbleiterherstellung Produktübersicht Unser Cerium-Oxid-CMP-Poligeschlauch wurde für die hochpräzise Planisierung von Siliziumwafern entwickelt, die in der fortgeschrittenen Halbleiterherstellung verwendet werden.Der ...
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