Qualità Slurry CMP ad alta purezza di ossido di cerio per la planarizzazione delle onde di silicio e la produzione di semiconduttori Fabbrica
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Qualità Slurry CMP ad alta purezza di ossido di cerio per la planarizzazione delle onde di silicio e la produzione di semiconduttori Fabbrica
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Slurry CMP ad alta purezza di ossido di cerio per la planarizzazione delle onde di silicio e la produzione di semiconduttori

Marchio: LICHEN
Numero di modello: LC
Luogo di origine: Cina
Certificazione: ISO
Quantità di ordine minimo: 20KG
Prezzo: Contact us
Capacità di approvvigionamento: 3000MT/year

Dettagli del prodotto


Purezza: ≥ 99,9% contenuto solido: 5-30% in peso
Dimensione delle particelle (D50): 50 – 150 nm Intervallo di pH: Personalizzabile
Densità dei difetti: ultrabasso Stabilità della dispersione: Eccellente
Evidenziare

liquido di scarico di CMP

,

liquido di polimerizzazione per wafer di silicio

,

liquidi di polvere di acciaio

Descrizione di prodotto


Slurry CMP ad alta purezza di ossido di cerio per la planarizzazione delle onde di silicio e la produzione di semiconduttori

Visualizzazione del prodotto

Il nostro liquido di lucidatura CMP è stato progettato per la pianificazione ultra-precise di wafer di silicio utilizzati nella produzione avanzata di semiconduttori.L'impasto combina abrasione meccanica controllata con attività chimica ottimizzata per ottenere un'eccellente piattezza superficiale, bassa difettosità e integrità superficiale dei wafer.

Progettata per i moderni processi CMP, la formulazione fornisce tassi di rimozione stabili riducendo al minimo i micro graffi, la contaminazione da particelle e i danni alla superficie.Il prodotto supporta ambienti di produzione ad alto rendimento che richiedono una qualità dei wafer coerente e la ripetibilità del processo.

Principali vantaggi tecnici

  • Performance di lucidatura con defectività ultra-bassa
  • Tasso di rimozione del silicio controllato
  • Eccellente planarità e uniformità della superficie
  • Riduzione della generazione di micrograffi
  • Dispersione stabile dello slurry e lunga durata
  • Compatibile con apparecchiature CMP automatizzate
  • Alta consistenza di lotto in lotto


Distribuzione della dimensione delle particelleLa Commissione

Slurry CMP ad alta purezza di ossido di cerio per la planarizzazione delle onde di silicio e la produzione di semiconduttori

Applicazioni

  • Planarizzazione dei wafer di silicio
  • Rifinitura di wafer prime
  • Dispositivo per la lucidatura della superficie dei wafer
  • Passi di lucidatura pre-pulizia CMP
  • Preparazione di substrati semiconduttori

Caratteristiche del prodotto

Slurry CMP ad alta purezza di ossido di cerio per la planarizzazione delle onde di silicio e la produzione di semiconduttori Visualizzazione del prodotto Il nostro liquido di lucidatura CMP è stato progettato per la pianificazione ultra-precise di wafer di silicio utilizzati nella produzione ...

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