सिलिकॉन वेफर प्लेनरराइजेशन और सेमीकंडक्टर निर्माण के लिए उच्च-शुद्धता सेरियम ऑक्साइड सीएमपी स्लरी
उत्पाद का विवरण
| पवित्रता: | ≥ 99.9% | यथार्थ सामग्री: | 5-30 wt% |
|---|---|---|---|
| कण आकार (D50): | 50 - 150 एनएम | पीएच रेंज: | अनुकूलन |
| दोष घनत्व: | अति कम | फैलाव स्थिरता: | उत्कृष्ट |
| प्रमुखता देना |
सेरियम ऑक्साइड सीएमपी स्लरी,सिलिकॉन वेफर पॉलिशिंग स्लरी,सेमीकंडक्टर सीएमपी स्लरी |
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उत्पाद का वर्णन
उच्च शुद्धता सीरियम ऑक्साइड सीएमपी स्लरी सिलिकॉन वेफर प्लैनेराइजेशन और अर्धचालक विनिर्माण के लिए
उत्पाद का अवलोकन
हमारे सीरियम ऑक्साइड सीएमपी पॉलिशिंग स्लरी को उन्नत अर्धचालक विनिर्माण में उपयोग किए जाने वाले सिलिकॉन वेफर्स के अति-सटीक समतलकरण के लिए इंजीनियर किया गया है।स्लरी उत्कृष्ट सतह समतलता प्राप्त करने के लिए अनुकूलित रासायनिक गतिविधि के साथ नियंत्रित यांत्रिक घर्षण को जोड़ती है, कम खराबी, और उत्कृष्ट वेफर सतह अखंडता।
आधुनिक सीएमपी प्रक्रियाओं के लिए डिज़ाइन किया गया, यह सूत्रीकरण माइक्रोस्क्रैच, कण संदूषण और सतह क्षति को कम करते हुए स्थिर हटाने की दर प्रदान करता है।उत्पाद उच्च उपज वाले उत्पादन वातावरण का समर्थन करता है जिसके लिए स्थिर वेफर गुणवत्ता और प्रक्रिया दोहराव की आवश्यकता होती है.
मुख्य तकनीकी लाभ
- अल्ट्रा-लो-डिफेक्टिविटी पॉलिशिंग प्रदर्शन
- नियंत्रित सिलिकॉन हटाने की दर
- उत्कृष्ट सतह समतलता और एकरूपता
- सूक्ष्म खरोंच उत्पादन में कमी
- स्थिर स्लरी फैलाव और लंबे जीवनकाल
- स्वचालित सीएमपी उपकरण के साथ संगत
- उच्च बैच-से-बैच स्थिरता
कण आकार वितरणविसर्जन
आवेदन
- सिलिकॉन वेफर प्लैनेराइजेशन
- प्राइम वेफर का परिष्करण
- डिवाइस वेफर की सतह को पॉलिश करना
- सीएमपी पूर्व-स्वच्छ चमकाने के चरण
- अर्धचालक सब्सट्रेट तैयार करना
उत्पाद हाइलाइट्स
उच्च शुद्धता सीरियम ऑक्साइड सीएमपी स्लरी सिलिकॉन वेफर प्लैनेराइजेशन और अर्धचालक विनिर्माण के लिए उत्पाद का अवलोकन हमारे सीरियम ऑक्साइड सीएमपी पॉलिशिंग स्लरी को उन्नत अर्धचालक विनिर्माण में उपयोग किए जाने वाले सिलिकॉन वेफर्स के अति-सटीक समतलकरण के लिए इंजीनियर किया गया है।स्लरी उत्कृष्ट सतह समतलता प्...
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