"powder rare earth material"
고질 희토류 금속 세리움 아세테이트 수산물 분말
세리움 아세테이트 분자 공식: Ce ((AC) 3·xH2O 외형: 세리움 아세테이트 는 하얀색의 눈송이 같은 고체 용도: 다른 세리움 소금과 세리움 산화물, 그리고 석유 첨가물 등을 위한 원료로 사용됩니다. 항목 사양 시험 표준 항목 CE (AC)3-3N5 CE (AC)3-4N CE (AC)3-4N5 CE (AC)3-5N TREO ((wt%) ≥45 ≥45 ≥45 ≥45 희토류의 상대적 순도 (wt%) LA2오3/TREO ≤0.01 ≤0.005 ≤0.003 ≤0.0004 GB/T 18115.2 최고경영자2/TREO ≥ 99.95 ≥ ...
낮은 염화소 세리움 란탄암 탄산 가루 석유 첨가물
석유 첨가물 저염소 란탄륨 세리움 탄산 분자 공식: (LaCe) 2 (CO3) 3 외관: 낮은 염화질의 란타늄 세리움 탄산은 흰색 분말입니다. 용도: 희토류 가루 가루 생산에 사용됩니다. 난에 사양 시험 표준 난에 (LaCe)2(CO)3)3-65CeA1 (LaCe)2(CO)3)3-65CeA2 TREO ((wt%) ≥450 ≥450 란타늄-세리움 분포 및 희토류 불순물 (wt%) LA2오3/TREO 35±2 35±2 GB/T 164843 최고경영자2/TREO 65±2 65±2 PR6오11/TREO ≤0.01 ≤0.005 ᄋ2오3...
세리움 산화물 구형 촉매 가루 닦기 재료
높은 특이 표면 영역 세리움 산화물 세리움 기반 촉매에 대한 구형 분말 시리움 산화물 분자 공식: CeO2 외관: 밝은 노란색 분말 용도: 닦는 재료 또는 촉매로 사용됩니다. 항목 사양 시험 방법 항목 최고경영자2-3N5C 최고경영자2-4NC 최고경영자2-4N5C 최고경영자2-5NC TREO ((wt%) ≥ 99.0 ≥ 99.0 ≥ 99.0 ≥ 99.0 희토류의 상대적 순도 (wt%) LA2오3/TREO ≤0.01 ≤0.005 ≤0.003 ≤0.0004 GB/T 18115.2 최고경영자2/TREO ≥ 99.95 ≥ 99.99 ≥ ...
시리움 플루오라이드 (CeF3) 크리스탈 파우더 고순도 99.99% 광학 코팅용
CeF3 크리스탈 세리움 플루오라이드 광학 코팅 또는 보조 용매용 고순도 99.99% 분자 공식: CeF3 외관: 세리움 플루오라이드는 흰색 분말입니다. 용도: 고 순수 화학 및 코팅 재료로 사용됩니다. 항목 사양 시험 표준 난에 CEF3-3N5 CEF3-4N CEF3-4N5 CEF3-5N TREO ((wt%) ≥ 80 ≥ 80 ≥ 80 ≥ 80 희토류의 상대적 순도 (wt%) LA2오3/TREO ≤0.01 ≤0.005 ≤0.003 ≤0.0004 GB/T 18115.2 최고경영자2/TREO ≥ 99.95 ≥ 99.99 ≥ 99...
비수성 디스프로슘 분말 네오디미움 엽수 원료
비수성 네오디미움 클로라이드 분자 공식: NdCl3 외형: 무수질 네오디미움 클로라이드는 분홍색의 가루 모양의 결정이다. 응용분야: 금속 네오디엄을 생산하고, 의약품 촉매 또는 단일 결정 성장 분야에서 원료로 사용됩니다. 항목 사양 시험 표준 등급 NdCl3-3N NdCl3-3N5 NdCl3-4N / TREO (wt%) ≥ 660 ≥ 660 ≥ 660 / 희토류의 상대적 순도 (wt%) GB/T 18115 참조1 La2O3/TREO ≤0.02 ≤0.01 ≤0.001 CEO2/TREO ≤0.02 ≤0.01 ≤0.001 Pr6O11...
정밀성 Ceo2 세리움 산화물 PH 중성 닦기 분말 고순도 99%
고순도 세리움 산화물 가루 99% 개요: 우리의 고순도 세리움 산화물 99% 닦는 파우더는 품질, 효율성, 표면 매끄러움의 최고 표준이 필요한 정밀 닦기 응용 프로그램에 설계되었습니다.99%의 순도 수준으로 제조된 것, 이 세리움 산화물 닦는 분말은 유리, 광학 부품, 반도체 웨이퍼, 세라믹 등 다양한 재료를 닦는 데 이상적입니다.최소한의 결함으로 탁월한 표면 가공을 보장합니다.. 주요 특징: 99% 순수성: 우리의 세리움 산화물 닦는 분말은 99% 순수 수준으로 생산되며, 최소한의 오염과 함께 최고 닦는 성능을 보장합니다.섬세하고 ...
고 정밀 사파이어 광학 닦기 분말 CAS 1306-38-3 OEM
전자 부품용 세리움 산화물 닦기 분말 개요: 광학 표면 가공을 위한 우리의 닦기 파우더는 고품질의 세리움 산화물로 구성된이 파우더는 섬세한 광학 표면을 닦는 데 탁월한 성능을 제공합니다.렌즈, 거울, 프리즘, 또는 다른 광학 장치로 작업하든,우리의 닦는 분말은 다양한 광학 응용 프로그램에서 뛰어난 결과를 보장합니다.. 주요 특징: 고순도 세리움 산화물: 고품질의 세리움 산화물로 제작된 우리의 닦기 파우더는 광적 표면의 무결성을 유지하면서 최대 닦기 효율을 보장합니다. 탁월한 표면 맑음: 최소의 표면 불완전성으로 광학 수준의 부드러움...
반도체 유리 웨이퍼를 위한 CMP 세리움 산화물 닦기 분말
반도체 웨이퍼용 세리움 산화물 뽀로러 설명에 반도체 웨이퍼를 위한 리첸 세리움 산화물 뽀로러는 웨이퍼 표면 마무리 및 평형화 프로세스를 위해 고순도, 정밀 엔지니어링 가려기제로 설계되었습니다.엄격하게 제어된 입자 크기 분포와 낮은 금속 불순물, 이 닦는 분말은 균일한 물질 제거, 우수한 표면 매끄럽고 낮은 결함 밀도를 제공하며 현대 반도체 제조의 엄격한 요구 사항을 지원합니다. 이 제품은 유리 웨이퍼, 산화질층 및 특수 반도체 기판에 적합하며 CMP 관련 프로세스 및 정밀 기계 닦기 단계에서 모두 사용할 수 있습니다. 주요 특징 및 ...
ISO PH 중립 유리 닦기 분말 세라믹 Cas 1306-38-3
유리 세라믹용 닦기 파우더 설명에 유리 세라믹을 위한 리첸 폴리싱 파우더는 유리 세라믹 기판의 정밀 폴리싱을 위해 특별히 개발된 고성능 가려기 물질입니다.유리 세라믹은 혼합 된 결정성·아모르프 구조와 높은 표면 단단성으로 인해 독특한 과제를 제기합니다.이 닦는 분말은 제어 된 재료 제거, 우수한 표면 매끄럽고 결함 발생이 낮아서 기술 및 장식용 유리 세라믹 응용 용도로 이상적입니다. 이 제품은 표면 품질, 평평성 및 미세 결함 통제가 중요한 중간 및 최종 닦기 단계에 적합합니다. 주요 특징 및 장점 유리-세라믹 재료 에 최적화 되어 ...
백색 CeO2 세리움 기반의 유리 닦기 분말 0.5μm OEM
플릿글라스용 닦기 파우더 설명에 플라트 글래스의 리첸 폴리싱 파우더는 평면 및 플라트 글래스의 표면 완화 및 결함 교정을 위해 개발된 고품질 가러기 물질입니다.주의 깊게 제어된 입자 크기 분포와 안정적인 가려기 특성을 가진 수립, 이 닦는 분말은 효율적인 재료 제거, 부드러운 표면 마무리, 그리고 큰 유리 부위에 걸쳐 일관된 닦는 성능을 제공합니다. 건축 유리, 가구 유리, 거울 유리 및 산업 평면 유리 가공에 널리 사용됩니다. 표면 균일성과 시각적 명확성이 필수적입니다. 주요 특징 및 장점 최적화 된 굴착 성능 재료 제거 속도와 ...
광 광 유리 스크래치 제거 가공 시리움 산화물
광학 유리 제조용 닦기 파우더 설명에 광학 유리 제조를 위한 리첸 롤링 파우더는 고품질의 광학 롤링 재료로 일관성 있는 물질 제거, 탁월한 표면 매끄러움다양한 광학 유리 종류에 걸쳐 안정적인 프로세스 성능이 닦기 분말은 정밀 광학 생산의 까다로운 요구 사항을 지원합니다. 중간 및 최종 닦기 단계 모두에 설계된 제품으로 제조업체는 높은 광적 명성, 낮은 표면 거칠성,고용량 및 고정밀 광학 유리 제조 환경에서 반복 가능한 표면 품질. 주요 특징 및 장점 고순도 가러미 물질 낮은 불순물 함량은 깨끗한 닦기 행동과 광학 수준의 표면 품질을 ...
CeO2 세리움 산화물 광학 닦기 분말 화합물
첨단 광학에 반사 방지 코팅을 위한 닦기 분말 설명 우리의 고순도 세리움 산화물 (CeO2) 가늘게 닦는 파우더로 얇은 필름 성능을 최적화하십시오.높은 효율성 반사 (AR) 코팅을 달성하는 것은 기판에서 시작합니다.; 우리의 분말은 최대 코팅 접착과 최소한의 빛 산란을 위해 필요한 안그스트롬 수준의 표면 거칠성 및 초정결 토포그래피를 제공합니다. 레이저 시스템과 영상 센서가 더 넓은 스펙트럼 범위를 향해 이동함에 따라, 우리의 맞춤형 분말은 가장 엄격한 결함 규격을 충족하는 데 필요한 표면 무결성을 제공합니다. 산란 센터 제거: 엄...
