রাসায়নিক যান্ত্রিক সমতলীকরণ সিএমপি সেরিয়াম অক্সাইড পলিশিং পাউডার ল্যাপিডারি
পণ্যের বিবরণ
| কণার আকার: | 3.0±0.2μm | কাস নং।: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| সিইও: | 99% | সাসপেনশন রেট: | উচ্চ |
| পিএইচ রেঞ্জ: | 7-10 | আবেদন: | সিএমপি প্রক্রিয়া |
| বিশেষভাবে তুলে ধরা |
প্ল্যানারাইজেশন সেরিয়াম অক্সাইড পলিশিং পাউডার,সিএমপি সেরিয়াম অক্সাইড পলিশিং পাউডার,সিএমপি সেরিয়াম অক্সাইড ল্যাপিডারি |
||
পণ্যের বর্ণনা
রাসায়নিক যান্ত্রিক সমতলীকরণ (সিএমপি) প্রক্রিয়ার জন্য পলিশিং পাউডার
বর্ণনাউপর
Lichen Polishing Powder for Chemical Mechanical Planarization (CMP) is a high-performance cerium oxide-based polishing powder designed to deliver superior surface planarization and precision polishing in semiconductor wafer processingআমাদের পোলিশিং পাউডার বিশেষভাবে উপাদান অপসারণ হার বৃদ্ধি, CMP প্রক্রিয়া সময় অভিন্নতা এবং সমতলতা নিশ্চিত করার জন্য তৈরি করা হয়,যা উন্নত অর্ধপরিবাহী ডিভাইসে সর্বোত্তম পৃষ্ঠতল সমাপ্তি অর্জনের জন্য অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ.
সিলিকন এবং যৌগিক সেমিকন্ডাক্টরগুলির মতো অর্ধপরিবাহী উপকরণগুলির ওয়েফার-স্তরের প্রক্রিয়াকরণের জন্য সিএমপি অপরিহার্য। লিচেনের পলিশিং পাউডার উচ্চ-নির্ভুলতা সমতলতা নিশ্চিত করে,কম পৃষ্ঠের রুক্ষতা অর্জনের জন্য নিয়ন্ত্রিত পোলিশিং অ্যাকশন সরবরাহ করে, উচ্চ সমতলতা, এবং কম ত্রুটি, এটি পরবর্তী ফটোলিথোগ্রাফি, পাতলা ফিল্ম জমা, এবং খোদাই পদক্ষেপের জন্য আদর্শ।
মূল বৈশিষ্ট্য ও সুবিধা
উচ্চ বিশুদ্ধতার সেরিয়াম অক্সাইড
আমাদের পোলিশিং পাউডারটি অতি-শুদ্ধ সেরিয়াম অক্সাইড থেকে তৈরি, যা সিএমপি প্রক্রিয়া চলাকালীন ন্যূনতম অমেধ্য নিশ্চিত করে।এটি সমালোচনামূলক অর্ধপরিবাহী অ্যাপ্লিকেশনগুলির জন্য প্রয়োজনীয় উচ্চ মানের পৃষ্ঠের সমাপ্তিকে অবদান রাখে, যা দূষণের ঝুঁকি হ্রাস করে।
সিএমপি প্রক্রিয়ার জন্য অপ্টিমাইজড
বিশেষভাবে রাসায়নিক যান্ত্রিক সমতলীকরণ (সিএমপি) প্রক্রিয়ার জন্য তৈরি, এই পলিশিং পাউডার ধ্রুবক উপাদান অপসারণ, অভিন্ন পৃষ্ঠ সমতলতা প্রদান করে,এবং বিভিন্ন ধরণের সেমিকন্ডাক্টর ওয়েফারগুলির মধ্যে সঠিক ত্রুটি নিয়ন্ত্রণ.
নিয়ন্ত্রিত উপাদান অপসারণ
লিচেনের সিএমপি পলিশিং পাউডার সুনির্দিষ্ট উপাদান অপসারণের হার (এমআরআর) নিশ্চিত করে, ওয়েফারের অখণ্ডতা বজায় রেখে ধারাবাহিক, নির্ভরযোগ্য পৃষ্ঠের সমতলতা সরবরাহ করে।স্লারি বড় ওয়েফার পৃষ্ঠ জুড়ে অভিন্ন পালিশের অনুমতি দেয়, শিল্পের মান পূরণ করে এমন সমতলতা নিশ্চিত করে।
নিম্ন পৃষ্ঠের রুক্ষতা এবং উচ্চ সমতলতা
পৃষ্ঠের রুক্ষতা হ্রাস করার জন্য ডিজাইন করা, আমাদের গুঁড়াটি নিশ্চিত করে যে অর্ধপরিবাহী ওয়েফারগুলি মসৃণ, ত্রুটি মুক্ত পৃষ্ঠগুলি অর্জন করে যা পরবর্তী ডিভাইস প্রক্রিয়াকরণের জন্য উপযুক্ত।এই চমৎকার ফলন সঙ্গে উচ্চ কর্মক্ষমতা অর্ধপরিবাহী ডিভাইস অর্জন জন্য এটি আদর্শ করে তোলে.
বিভিন্ন ধরণের ওয়েফারের জন্য কাস্টমাইজড সমাধান
বিভিন্ন ওয়েফার উপকরণ, বেধ এবং সিএমপি প্রক্রিয়া পরামিতিগুলির নির্দিষ্ট চাহিদা মেটাতে লিচেন ঊষের পোলিশিং পাউডার কাস্টমাইজ করা যেতে পারে,নিশ্চিত করা হচ্ছে যে প্রতিটি ওয়েফার পছন্দসই পৃষ্ঠের স্পেসিফিকেশন পূরণ করে.
প্রযুক্তিগত তথ্য
| আণবিক সূত্র | সিএএস নং। | CeO2 % | D50 (μm) | চেহারা | প্রয়োগ |
| CeO2 | ১৩০৬-৩৮-৩ | ৯৯% | 3.0±0.2μm | সাদা পাউডার | সিএমপি প্রক্রিয়া |
কণার আকার বিতরণপ্রসঙ্গ
প্রশ্নোত্তর
1বিরল ভূমি পলিশিং পাউডার কি?
বিরল পৃথিবীর পলিশিং পাউডার একটি উচ্চ বিশুদ্ধতা যৌগ যা অপটিক্যাল উপাদান, সেমিকন্ডাক্টর ওয়েফার এবং কাঁচ এবং লেন্সের মতো সূক্ষ্ম পৃষ্ঠের পলিশিংয়ের জন্য ব্যবহৃত হয়। এটি একটি মসৃণউচ্চ স্বচ্ছতা সমাপ্তি উপাদান ক্ষতি ছাড়া.
2আমার অ্যাপ্লিকেশনের জন্য আমি কীভাবে সঠিক বিরল পৃথিবীর পলিশিং পাউডার বেছে নেব?
আদর্শ পলিশিং পাউডার নির্বাচন করার জন্য, আপনি যে উপাদানটি পলিশিং করছেন, প্রয়োজনীয় সমাপ্তি এবং কণার আকার এবং বিশুদ্ধতার মতো নির্দিষ্টকরণের মতো কারণগুলি বিবেচনা করুন।আমাদের বিক্রয় দল আপনার প্রয়োজনের জন্য নিখুঁত পণ্য চয়ন করতে সাহায্য করার জন্য উপলব্ধ.
3আমি কিভাবে বিরল পৃথিবীর পলিশিং পাউডার সংরক্ষণ করব?
ঠান্ডা, শুষ্ক জায়গায়, আর্দ্রতা এবং সরাসরি সূর্যালোক থেকে দূরে রাখুন। দূষণ প্রতিরোধ এবং এর কার্যকারিতা বজায় রাখার জন্য বায়ুরোধী পাত্রে গুঁড়াটি সংরক্ষণ করুন। সঠিক সংরক্ষণের সাথে,এটি সাধারণত ১-২ বছর স্থায়ী হয়.
4আপনি কি কাস্টমাইজড বিরল পৃথিবীর ফর্মুলেশন সরবরাহ করেন?
হ্যাঁ, আমরা কাস্টম বিরল পৃথিবীর পোলিশিং পাউডার এবং স্লারি অফার করি, আপনার নির্দিষ্ট চাহিদা পূরণ করতে, কণার আকার, রাসায়নিক গঠন, বা স্লারি ধারাবাহিকতা সমন্বয় সহ।
5বড় অর্ডার দেয়ার আগে আমি নমুনা পেতে পারি?
অবশ্যই! আমরা মূল্যায়নের জন্য নমুনা সরবরাহ করি। নমুনা অনুরোধ করার জন্য আমাদের দলের সাথে যোগাযোগ করুন, এবং আমরা চালানের ব্যবস্থা করব।
6আমি কিভাবে অর্ডার দিতে পারি? প্রসবের সময়কাল কত?
অর্ডার দেওয়ার জন্য, কেবল আমাদের বিক্রয় দলের সাথে যোগাযোগ করুন, যারা আপনাকে প্রক্রিয়াটির মাধ্যমে গাইড করবে এবং একটি উদ্ধৃতি সরবরাহ করবে। অর্ডার আকার, অবস্থান এবং স্টক উপলভ্যতার উপর নির্ভর করে ডেলিভারি সময় পরিবর্তিত হয়,এবং অর্ডারটি নিশ্চিত হলে আমরা আপনাকে একটি আনুমানিক সময়সূচী দেব.
পণ্যের হাইলাইটস
রাসায়নিক যান্ত্রিক সমতলীকরণ (সিএমপি) প্রক্রিয়ার জন্য পলিশিং পাউডার বর্ণনাউপর Lichen Polishing Powder for Chemical Mechanical Planarization (CMP) is a high-performance cerium oxide-based polishing powder designed to deliver superior surface planarization and precision polishing in semiconductor ...
এআর অপটিক্স, মাইক্রো-লেন্স অ্যারে এবং পোষাকযোগ্য অপটিক্যাল সেন্সরগুলির জন্য সিএমপি-গ্রেড সেরিয়া পলিশিং পাউডার
CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics
স্মার্ট পোষাকযোগ্য কভার গ্লাস এবং মাইক্রো-অপটিকস ফিনিসিংয়ের জন্য আল্ট্রা-ফাইন সেরিয়া অক্সাইড পলিশিং পাউডার
Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in
এআর ওয়েভগাইড গ্লাস এবং অপটিক্যাল লেন্স উত্পাদনের জন্য উচ্চ বিশুদ্ধতার সেরিয়াম অক্সাইড পলিশিং পাউডার
High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and
সিরিয়াম অক্সালেট পাউডার রাসায়নিক বিকারক উপাদান
Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically
অনুগ্রহ করে আমাদের অনলাইন অনুসন্ধান যোগাযোগ ফর্মটি ব্যবহার করুন যদি আপনার কোন প্রশ্ন থাকে, আমাদের টিম যত তাড়াতাড়ি সম্ভব আপনার সাথে যোগাযোগ করবে।
