Polvere di lucidatura di ossido di cerio CMP
Dettagli del prodotto
| Dimensione delle particelle: | 3,0±0,2μm | CAS NO.: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CeO2: | 99% | Tasso di sospensione: | Alto |
| Intervallo di pH: | 7-10 | applicazione: | Processo CMP |
| Evidenziare |
Polvere di lucidatura di ossido di cerio di planarizzazione,Polvere di lucidatura di ossido di cerio CMP,CMP lapidario con lucido di ossido di cerio |
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Descrizione di prodotto
Polvere lucidante per il processo di planarizzazione meccanica chimica (CMP)
Descrizionisu
Lichen Polishing Powder for Chemical Mechanical Planarization (CMP) is a high-performance cerium oxide-based polishing powder designed to deliver superior surface planarization and precision polishing in semiconductor wafer processingLa nostra polvere di lucidatura è specificamente formulata per migliorare i tassi di rimozione del materiale, assicurando l'uniformità e la piattezza durante il processo CMP,che è cruciale per ottenere finiture superficiali ottimali in dispositivi semiconduttori avanzati.
Il CMP è essenziale per la lavorazione a livello di wafer di materiali semiconduttori, come il silicio e i semiconduttori composti.offrendo un'azione di lucidatura controllata che raggiunge una bassa rugosità superficiale, elevata piattezza e ridotti difetti, che lo rendono ideale per la successiva fotolitografia, deposizione di film sottile e fasi di incisione.
Caratteristiche chiave e vantaggi
Ossido di cerio di alta purezza
La nostra polvere di lucidatura è fatta di ossido di cerio ultra-puro, assicurando impurezze minime durante il processo CMP.Questo contribuisce alle finiture superficiali di alta qualità richieste per le applicazioni critiche dei semiconduttori, riducendo il rischio di contaminazione.
Ottimizzato per il processo CMP
Formulato specificamente per il processo di planarizzazione chimica meccanica (CMP), questa polvere di lucidatura fornisce una rimozione dei materiali coerente, un appiattimento uniforme della superficie,e controllo dei difetti preciso su una varietà di tipi di wafer a semiconduttore.
Eliminazione controllata del materiale
La polvere di lucidatura CMP di Lichen® garantisce tassi di rimozione dei materiali (MRR) precisi, offrendo una planarità superficiale consistente e affidabile mantenendo l'integrità del wafer.Lo smalto consente una lucidatura uniforme su grandi superfici di wafer, garantendo una piattazza conforme agli standard del settore.
Basso rigidità superficiale e elevata piattezza
Progettata per ridurre la rugosità superficiale, la nostra polvere garantisce che i wafer semiconduttori raggiungano superfici lisce e prive di difetti adatte per la successiva lavorazione del dispositivo.Questo lo rende ideale per realizzare dispositivi semiconduttori ad alte prestazioni con eccellente rendimento.
Soluzioni su misura per vari tipi di wafer
La polvere di lucidatura di Lichen può essere personalizzata per soddisfare le esigenze specifiche di diversi materiali di wafer, spessori e parametri di processo CMP,garantire che ogni wafer soddisfi le specifiche di superficie desiderate.
Dati tecnici
| Formula molecolare | Numero CAS. | CeO2 % | D50 (μm) | Apparizione | Applicazione |
| CeO2 | 1306-38-3 | 99% | 30,0 ± 0,2 μm | Polvere bianca | Processo CMP |
Distribuzione della dimensione delle particelleLa Commissione

Domande e risposte
1Cos'è la polvere di lucidatura delle terre rare?
La polvere di lucidatura delle terre rare è un composto di alta purezza usato per lucidare componenti ottici, wafer semiconduttori e superfici delicate come vetro e lenti.finitura di alta lucidità senza danneggiare il materiale.
2Come scegliere la polvere di lucidatura per terre rare adatta alla mia applicazione?
Per scegliere la polvere di lucidatura ideale, considera fattori quali il materiale che stai lucidando, la finitura richiesta e specifiche come le dimensioni e la purezza delle particelle.Il nostro team di vendita è disponibile per aiutarvi a scegliere il prodotto perfetto per le vostre esigenze.
3Come stoccare la polvere di lucidatura delle terre rare?
Conservare in un luogo fresco e asciutto, lontano dall' umidità e dalla luce solare diretta.in genere dura 1-2 anni.
4Fornisce formulazioni di terre rare su misura?
Sì, offriamo polveri di lucidatura e liquami di terre rare personalizzati, su misura per soddisfare le vostre esigenze specifiche, incluse le modifiche alle dimensioni delle particelle, alla composizione chimica o alla consistenza dello liquamo.
5Posso avere un campione prima di fare un ordine in massa?
Assolutamente! Forniamo campioni per la valutazione. Contattate il nostro team per richiedere un campione, e organizzeremo la spedizione.
6Come posso effettuare un ordine?
Per effettuare un ordine, basta contattare il nostro team di vendita, che vi guiderà attraverso il processo e vi fornirà un preventivo.E vi daremo un programma stimato una volta confermato l'ordine..
Caratteristiche del prodotto
Polvere lucidante per il processo di planarizzazione meccanica chimica (CMP) Descrizionisu Lichen Polishing Powder for Chemical Mechanical Planarization (CMP) is a high-performance cerium oxide-based polishing powder designed to deliver superior surface planarization and precision polishing in ...
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