Planarización Química Mecánica CMP Óxido de cerio Polvillador en polvo Lapidario
Detalles del producto
| Tamaño de partícula: | 3,0 ± 0,2 μm | NÚMERO DE CAS: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CeO₂: | 99% | Tasa de suspensión: | Alto |
| Rango de pH: | 7-10 | solicitud: | Proceso del PMC |
| Resaltar |
Polvo de pulido de óxido de cerio de planarización,Polvo de pulido de óxido de cerio CMP,Lapidario de óxido de cerio CMP |
||
Descripción de producto
Polvo de pulido para el proceso de planarización química mecánica (CMP)
DescripcionesEn el
Lichen Polishing Powder for Chemical Mechanical Planarization (CMP) is a high-performance cerium oxide-based polishing powder designed to deliver superior surface planarization and precision polishing in semiconductor wafer processingNuestro polvo de pulido está específicamente formulado para mejorar las tasas de eliminación de material, asegurando uniformidad y planitud durante el proceso de CMP,que es crucial para lograr acabados óptimos de la superficie en dispositivos avanzados de semiconductores.
El CMP es esencial para el procesamiento a nivel de obleas de materiales semiconductores, como el silicio y los semiconductores compuestos.que ofrece una acción de pulido controlada que logra una baja rugosidad superficial, alta planitud y defectos reducidos, lo que lo hace ideal para la fotolitografía posterior, deposición de película delgada y pasos de grabado.
Características y ventajas clave
Óxido de cerio de alta pureza
Nuestro polvo de pulido está hecho de óxido de cerio ultra-puro, asegurando impurezas mínimas durante el proceso de CMP.Esto contribuye a los acabados de superficie de alta calidad requeridos para aplicaciones críticas de semiconductores, reduciendo el riesgo de contaminación.
Optimizado para el proceso CMP
Específicamente formulado para el proceso de Planarización Química Mecánica (CMP), este polvo de pulido proporciona una eliminación de material consistente, aplanamiento uniforme de la superficie,y control preciso de defectos en una variedad de tipos de obleas semiconductoras.
Eliminación controlada del material
El polvo de pulido CMP de Lichen® garantiza tasas de eliminación de material precisas (MRR), ofreciendo una planitud de superficie consistente y confiable al tiempo que mantiene la integridad de la oblea.La suspensión permite un pulido uniforme en las grandes superficies de las obleas, garantizando una planitud que cumpla con las normas de la industria.
Baja rugosidad de la superficie y alta planitud
Diseñado para reducir la rugosidad de la superficie, nuestro polvo asegura que las obleas semiconductoras logren superficies lisas y libres de defectos adecuadas para el procesamiento posterior del dispositivo.Esto lo hace ideal para lograr dispositivos semiconductores de alto rendimiento con un rendimiento excelente.
Soluciones a medida para diversos tipos de obleas
El polvo de pulido de Lichen se puede personalizar para satisfacer las necesidades específicas de diferentes materiales de obleas, espesores y parámetros de proceso CMP,garantizar que cada oblea cumple con las especificaciones de superficie deseadas.
Datos técnicos
| Fórmula molecular | No CAS. | CeO2 en % | D50 (μm) | Apariencia | Aplicación |
| El CeO2 | - ¿Por qué no? | El 99% | 3.0 ± 0,2 μm | Polvo blanco | Proceso de la CMP |
Distribución del tamaño de las partículasEl

Pregunta y respuesta
1¿Qué es polvo de pulido de tierras raras?
El polvo de pulir tierras raras es un compuesto de alta pureza utilizado para pulir componentes ópticos, obleas semiconductoras y superficies delicadas como vidrio y lentes.acabado de alta claridad sin dañar el material.
2¿Cómo puedo elegir el polvo de pulido de tierras raras adecuado para mi aplicación?
Para seleccionar el polvo de pulido ideal, considere factores como el material que está puliendo, el acabado requerido y especificaciones como el tamaño y la pureza de las partículas.Nuestro equipo de ventas está disponible para ayudarle a elegir el producto perfecto para sus necesidades.
3¿Cómo debo almacenar polvo de pulir de tierras raras?
Conservar en un lugar fresco y seco, lejos de la humedad y la luz solar directa.suele durar 1-2 años.
4¿Proporciona formulaciones personalizadas de tierras raras?
Sí, ofrecemos polvos y suspensiones de tierra rara personalizadas, adaptadas a sus necesidades específicas, incluyendo ajustes en el tamaño de las partículas, la composición química o la consistencia de la suspensión.
5¿Puedo obtener una muestra antes de hacer un pedido a granel?
Por supuesto, proporcionamos muestras para su evaluación, póngase en contacto con nuestro equipo para solicitar una muestra, y organizaremos el envío.
6¿Cómo puedo hacer un pedido? ¿Cuál es el tiempo de entrega típico?
Para hacer un pedido, simplemente póngase en contacto con nuestro equipo de ventas, que le guiará a través del proceso y le proporcionará una cotización.Y le daremos un calendario estimado una vez que el pedido sea confirmado..
Lo más destacado del producto
Polvo de pulido para el proceso de planarización química mecánica (CMP) DescripcionesEn el Lichen Polishing Powder for Chemical Mechanical Planarization (CMP) is a high-performance cerium oxide-based polishing powder designed to deliver superior surface planarization and precision polishing in ...
Cerium Oxide for Anti-Corrosion and Protective Coatings
Cerium Oxide for Anti-Corrosion and Protective Coatings Product Overview Cerium Oxide for Anti-Corrosion and Protective Coatings is a functional ceria powder developed for advanced surface protection systems where improved chemical stability, oxidation resistance, and coating durability are required...
Cerium Oxide Additive for High-Temperature Protective Coatings
Cerium Oxide Additive for High-Temperature Protective Coatings Product Overview Cerium Oxide Additive for High-Temperature Protective Coatings is engineered for coating systems exposed to elevated temperatures, oxidation, and demanding service conditions. CeO₂ has excellent thermal stability and ...
Nano Cerium Oxide for Advanced Functional Coatings
Nano Cerium Oxide for Advanced Functional Coatings Product Overview High-Purity Cerium Oxide (CeO₂) for Functional Coatings is a fine ceria powder designed as a functional additive and performance-enhancing material for advanced coating formulations. Its high chemical purity, controlled particle ...
High-Purity Cerium Oxide for Functional Coatings
High-Purity Cerium Oxide for Functional Coatings Product Overview High-Purity Cerium Oxide (CeO₂) for Functional Coatings is a fine ceria powder designed as a functional additive and performance-enhancing material for advanced coating formulations. Its high chemical purity, controlled particle size, ...
Por favor, utilice nuestro formulario de contacto de consulta en línea de abajo si tiene alguna pregunta, nuestro equipo se pondrá en contacto con usted tan pronto como sea posible.