रासायनिक यांत्रिक समतलकरण सीएमपी सीरियम ऑक्साइड पॉलिशिंग पाउडर Lapidary
उत्पाद का विवरण
| कोटिंग का प्रकार: | 3.0±0.2μm | CAS संख्या।: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| सीओओ ₂: | 1000सेट/माह | निलंबन दर: | उच्च |
| पीएच रेंज: | 7-10 | आवेदन: | सीएमपी प्रक्रिया |
| प्रमुखता देना |
प्लैनेराइजेशन सेरियम ऑक्साइड पॉलिशिंग पाउडर,CMP सेरियम ऑक्साइड पॉलिशिंग पाउडर,सीरियम ऑक्साइड लैपिडरी |
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उत्पाद का वर्णन
रासायनिक यांत्रिक समतलकरण (सीएमपी) प्रक्रिया के लिए पॉलिशिंग पाउडर
वर्णनपर
Lichen Polishing Powder for Chemical Mechanical Planarization (CMP) is a high-performance cerium oxide-based polishing powder designed to deliver superior surface planarization and precision polishing in semiconductor wafer processingहमारे पॉलिशिंग पाउडर को विशेष रूप से सीएमपी प्रक्रिया के दौरान एकरूपता और सपाटता सुनिश्चित करने के लिए सामग्री हटाने की दर को बढ़ाने के लिए तैयार किया गया है,जो उन्नत अर्धचालक उपकरणों में इष्टतम सतह खत्म प्राप्त करने के लिए महत्वपूर्ण है.
सीएमपी सिलिकॉन और यौगिक अर्धचालकों जैसे अर्धचालक सामग्री के वेफर-स्तर प्रसंस्करण के लिए आवश्यक है।एक नियंत्रित चमकाने की क्रिया प्रदान करता है जो सतह की कम कठोरता प्राप्त करता है, उच्च सपाटता, और कम दोष, इसे बाद की फोटोलिथोग्राफी, पतली फिल्म जमाव, और उत्कीर्णन चरणों के लिए आदर्श बनाते हैं।
प्रमुख विशेषताएं और लाभ
उच्च शुद्धता वाले सेरियम ऑक्साइड
हमारा पॉलिशिंग पाउडर अति-शुद्ध सेरियम ऑक्साइड से बना है, जिससे सीएमपी प्रक्रिया के दौरान न्यूनतम अशुद्धियां सुनिश्चित होती हैं।यह महत्वपूर्ण अर्धचालक अनुप्रयोगों के लिए आवश्यक उच्च गुणवत्ता वाली सतह खत्म करने में योगदान देता है, प्रदूषण के जोखिम को कम करता है।
सीएमपी प्रक्रिया के लिए अनुकूलित
विशेष रूप से रासायनिक यांत्रिक समतलकरण (सीएमपी) प्रक्रिया के लिए तैयार किया गया, यह पॉलिशिंग पाउडर सामग्री को लगातार हटाने, सतह को समान रूप से समतल करने,और विभिन्न प्रकार के अर्धचालक वेफर प्रकारों में सटीक दोष नियंत्रण.
नियंत्रित सामग्री निकासी
लिचेन के सीएमपी पॉलिशिंग पाउडर सटीक सामग्री हटाने की दर (एमआरआर) सुनिश्चित करता है, जो वेफर अखंडता बनाए रखते हुए लगातार, विश्वसनीय सतह समतलता प्रदान करता है।स्लरी बड़े वेफर सतहों पर समान चमकाने की अनुमति देता है, उद्योग के मानकों को पूरा करने वाली समतलता सुनिश्चित करता है।
सतह की कम रफ और उच्च समतलता
सतह की असमानता को कम करने के लिए डिज़ाइन किया गया, हमारा पाउडर यह सुनिश्चित करता है कि अर्धचालक वेफर्स चिकनी, दोष मुक्त सतहों को प्राप्त करें जो बाद में डिवाइस प्रसंस्करण के लिए उपयुक्त हैं।यह उत्कृष्ट उपज के साथ उच्च प्रदर्शन अर्धचालक उपकरणों को प्राप्त करने के लिए आदर्श बनाता है.
विभिन्न प्रकार के वेफर्स के लिए अनुकूलित समाधान
लिचेन पॉलिशिंग पाउडर को विभिन्न वेफर सामग्री, मोटाई और सीएमपी प्रक्रिया मापदंडों की विशिष्ट आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए अनुकूलित किया जा सकता है,यह सुनिश्चित करना कि प्रत्येक वेफर वांछित सतह विनिर्देशों को पूरा करता है.
तकनीकी डेटा
| आणविक सूत्र | सीएएस नं. | CeO2 % | D50 (μm) | उपस्थिति | आवेदन |
| CeO2 | 1306-38-3 | 99 प्रतिशत | 3.0±0.2μm | सफेद पाउडर | सीएमपी प्रक्रिया |
कण आकार वितरणविसर्जन
प्रश्न और उत्तर
1दुर्लभ पृथ्वी पॉलिशिंग पाउडर क्या है?
दुर्लभ पृथ्वी पॉलिशिंग पाउडर एक उच्च शुद्धता यौगिक है जिसका उपयोग ऑप्टिकल घटकों, अर्धचालक वेफर्स, और ग्लास और लेंस जैसी नाजुक सतहों को पॉलिश करने के लिए किया जाता है। यह एक चिकनी प्रदान करता हैसामग्री को नुकसान पहुंचाए बिना उच्च स्पष्टता खत्म.
2मैं अपने आवेदन के लिए सही दुर्लभ पृथ्वी पॉलिशिंग पाउडर कैसे चुनूं?
आदर्श पॉलिशिंग पाउडर का चयन करने के लिए, जिस सामग्री को आप पॉलिश कर रहे हैं, आवश्यक परिष्करण और कण आकार और शुद्धता जैसे विनिर्देशों जैसे कारकों पर विचार करें।हमारी बिक्री टीम आपकी आवश्यकताओं के लिए सही उत्पाद चुनने में आपकी सहायता करने के लिए उपलब्ध है.
3मुझे दुर्लभ पृथ्वी के पॉलिशिंग पाउडर को कैसे स्टोर करना चाहिए?
ठंडा, सूखा स्थान पर, नमी और प्रत्यक्ष सूर्य के प्रकाश से दूर रखें। दूषित होने से बचने और इसकी प्रभावशीलता बनाए रखने के लिए पाउडर को वायुरोधी कंटेनरों में रखें।यह आमतौर पर 1-2 वर्ष तक रहता है.
4क्या आप अनुकूलित दुर्लभ पृथ्वी सूत्र प्रदान करते हैं?
हाँ, हम कस्टम दुर्लभ पृथ्वी चमकाने पाउडर और स्लरी प्रदान करते हैं, जो आपकी विशिष्ट आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए अनुकूलित हैं, जिसमें कण आकार, रासायनिक संरचना या स्लरी स्थिरता में समायोजन शामिल हैं।
5क्या मैं बल्क ऑर्डर करने से पहले नमूना ले सकता हूँ?
निश्चित रूप से! हम मूल्यांकन के लिए नमूने प्रदान करते हैं. एक नमूना अनुरोध करने के लिए हमारी टीम से संपर्क करें, और हम शिपमेंट की व्यवस्था करेंगे.
6मैं कैसे ऑर्डर कर सकता हूँ? वितरण का सामान्य समय क्या है?
आदेश देने के लिए, बस हमारी बिक्री टीम से संपर्क करें, जो आपको प्रक्रिया के माध्यम से मार्गदर्शन करेगा और एक उद्धरण प्रदान करेगा। वितरण समय आदेश आकार, स्थान और स्टॉक उपलब्धता के आधार पर भिन्न होता है,और हम आदेश की पुष्टि के बाद आप एक अनुमानित कार्यक्रम दे देंगे.
उत्पाद हाइलाइट्स
रासायनिक यांत्रिक समतलकरण (सीएमपी) प्रक्रिया के लिए पॉलिशिंग पाउडर वर्णनपर Lichen Polishing Powder for Chemical Mechanical Planarization (CMP) is a high-performance cerium oxide-based polishing powder designed to deliver superior surface planarization and precision polishing in semiconductor wafer ...
सीएमपी-ग्रेड सेरिया पॉलिशिंग पाउडर एआर ऑप्टिक्स, माइक्रो-लेंस सरणी और पहनने योग्य ऑप्टिकल सेंसर के लिए
CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics
स्मार्ट वियरेबल कवर ग्लास और माइक्रो-ऑप्टिक्स फिनिशिंग के लिए अल्ट्रा-फाइन सेरिया ऑक्साइड पॉलिशिंग पाउडर
Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in
उच्च शुद्धता सेरियम ऑक्साइड पॉलिशिंग पाउडर के लिए आरए वेवगाइड ग्लास और ऑप्टिकल लेंस विनिर्माण
High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and
सेरियम ऑक्सालेट पाउडर रासायनिक अभिकर्मक तत्व
Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically
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