Qualität Chemische mechanische Planarisierung CMP Cerium-Oxid Polierpulver Lapidary Fabrik
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Chemische mechanische Planarisierung CMP Cerium-Oxid Polierpulver Lapidary

Markenbezeichnung: LICHEN
Modellnummer: LCR0330
Herkunftsort: China
Zertifizierung: ISO9001
Mindestbestellmenge: 20 kg
Preis: NEGOCIABLE
Versorgungsfähigkeit: 250MT/MONAT

Produktdetails


Partikelgröße: 3,0 ± 0,2 μm CAS-NR.: 1306-38-3
CeO2: 99 % Aussetzungsrate: Hoch
pH-Bereich: 7-10 Anwendung: CMP-Prozess
Hervorheben

Planalisierung Ceriumoxid Polierpulver

,

CMP-Cerium-Oxid-Polierpulver

,

CMP-Cerium-Oxid-Lapidarium

Produkt-Beschreibung

Polierpulver für die chemisch-mechanische Planarisierung (CMP)

Beschreibungauf

Lichen Polishing Powder for Chemical Mechanical Planarization (CMP) is a high-performance cerium oxide-based polishing powder designed to deliver superior surface planarization and precision polishing in semiconductor wafer processing. Unser Polierpulver ist speziell entwickelt, um die Materialentfernung zu verbessern, um die Gleichmäßigkeit und Flachheit während des CMP-Prozesses zu gewährleisten,die für die Erreichung optimaler Oberflächenveredelungen in fortgeschrittenen Halbleitergeräten entscheidend ist.

CMP ist für die Wafer-Verarbeitung von Halbleitermaterialien wie Silizium und zusammengesetzten Halbleitern unerlässlich.mit einer kontrollierten Polierfunktion, die eine geringe Oberflächenrauheit ermöglicht, hohe Flachheit und geringere Defekte, so dass es ideal für die anschließende Photolithographie, Dünnschichtdeposition und Ätzerstufen ist.

 

Hauptmerkmale und Vorteile

Cerium-Oxid mit hoher Reinheit

Unser Polierpulver besteht aus ultra-reinem Cerium-Oxid und sorgt für minimale Verunreinigungen während des CMP-Prozesses.Dies trägt zu den hochwertigen Oberflächenveredelungen bei, die für kritische Halbleiteranwendungen erforderlich sind, wodurch das Kontaminationsrisiko verringert wird.

Optimiert für den CMP-Prozess

Speziell für den chemisch-mechanischen Planalisierungsprozess (CMP) entwickelt, sorgt dieses Polierpulver für eine gleichbleibende Materialentfernung, einheitliche Oberflächenflachbildung,und eine präzise Fehlerkontrolle für eine Vielzahl von Halbleiterwaferarten.

Kontrollierte Materialentfernung

Das CMP-Polierpulver von Lichen® gewährleistet eine präzise Materialentfernung (MRR) und bietet gleichbleibende, zuverlässige Oberflächenplanheit bei gleichzeitiger Aufrechterhaltung der Waferintegrität.Der Schlamm ermöglicht ein gleichmäßiges Polieren auf großen Waferoberflächen, die eine flache Form gewährleistet, die den Industriestandards entspricht.

Niedrige Oberflächenrauheit und hohe Flachheit

Unser Pulver wurde entwickelt, um die Oberflächenrauheit zu reduzieren und sorgt dafür, dass Halbleiterwafer glatte, defektfreie Oberflächen erhalten, die für die spätere Verarbeitung geeignet sind.Dies macht es ideal für die Herstellung von Hochleistungs-Halbleitergeräten mit hervorragendem Ertrag.

Maßgeschneiderte Lösungen für verschiedene Waferarten

Das Polierpulver von Lichen kann an die spezifischen Anforderungen verschiedener Wafermaterialien, Dicken und CMP-Prozessparameter angepasst werden.Sicherstellung, dass jede Wafer die gewünschten Oberflächenvorgaben erfüllt.

 

Technische Daten

Molekulare Formel CAS Nr. CeO2 % D50 (μm) Aussehen Anwendung
CeO2 1306-38-3 99 Prozent 30,0 ± 0,2 μm Weißes Pulver CMP-Prozess

 

PartikelgrößenverteilungDie

 

Chemische mechanische Planarisierung CMP Cerium-Oxid Polierpulver Lapidary 0

Fragen und Antworten

1- Was ist Seltenerdpolishingpulver?

Seltenerdpolster ist eine hochreine Verbindung, die zum Polieren optischer Komponenten, Halbleiterwafern und empfindlicher Oberflächen wie Glas und Linsen verwendet wird.mit einem hohen Durchsichtigkeitsgrad ohne Materialschädigung.

2Wie wähle ich das richtige Polarpulver für seltene Erden für meine Anwendung?

Um das ideale Polierpulver auszuwählen, sollten Sie Faktoren wie das zu polierende Material, das erforderliche Finish und Spezifikationen wie Partikelgröße und Reinheit berücksichtigen.Unser Verkaufsteam hilft Ihnen bei der Auswahl des perfekten Produkts für Ihre Bedürfnisse..

3Wie sollte ich das Polierpulver für seltene Erden aufbewahren?

Bewahren Sie das Pulver in luftdichten Behältern auf, um Kontamination zu vermeiden und seine Wirksamkeit zu erhalten.Es dauert in der Regel 1-2 Jahre.

4Liefern Sie maßgeschneiderte Seltenerdformulationen?

Ja, wir bieten spezielle Polarpulver und Schlamm für seltene Erden an, die auf Ihre spezifischen Bedürfnisse zugeschnitten sind, einschließlich der Anpassung der Partikelgröße, der chemischen Zusammensetzung oder der Konsistenz des Schlamms.

5Kann ich eine Probe bekommen, bevor ich eine Großbestellung mache?

Wir stellen Proben zur Auswertung zur Verfügung. Kontaktieren Sie unser Team, um eine Probe anzufordern, und wir arrangieren die Lieferung.

6Wie kann ich eine Bestellung aufgeben?

Um eine Bestellung zu platzieren, kontaktieren Sie einfach unser Verkaufsteam, das Sie durch den Prozess führt und Ihnen ein Angebot bietet.Und wir geben Ihnen einen geschätzten Zeitplan, sobald die Bestellung bestätigt ist..

Produkt-Highlights

Polierpulver für die chemisch-mechanische Planarisierung (CMP) Beschreibungauf Lichen Polishing Powder for Chemical Mechanical Planarization (CMP) is a high-performance cerium oxide-based polishing powder designed to deliver superior surface planarization and precision polishing in semiconductor ...

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